对比文件名称：2015-03-18_KR1020150029560A_发明公开_KR1020150029560A 경화성 조성물, 그 경화물, 하드 코팅재, 및 하드 코팅막
目标专利名称：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
本次调用的模型名称：GPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：硬涂层《直接公开》 | 对比文件[0001]记载“本发明涉及……硬涂层膜”。[0031]记载“将硬涂层材料以膜状配置在基材表面并固化形成的硬涂层膜”。 | 对比文件明确公开了硬涂层膜，该硬涂层相当于目标专利的硬涂层，因此技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件涉及硬涂层膜及其组合物，未提及在硬涂层上形成低折射率层，也未暗示减反射膜的双层结构，因此技术特征B未被公开。 |
| 技术特征C：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未涉及减反射膜的表面粗糙度参数Rsk，未公开该数值范围，因此技术特征C未被公开。 |
| 技术特征D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未涉及表面倾斜角，因此技术特征D未被公开。 |
| 技术特征E：所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒《隐含公开》 | 对比文件[0037]记载“包含用至少两个(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂表面处理无机氧化物微粒并使硅烷偶联剂通过共价键结合到无机氧化物微粒上的有机无机复合体(A)，以及至少两个(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯单体(B)、聚合引发剂(C)……”。[0069]记载“作为无机氧化物微粒，可列举二氧化硅、中空二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛等”。 | 对比文件公开的硬涂层组合物固化后形成粘合剂树脂（由多官能单体和复合体中的可聚合基团聚合而成），其中分散着无机氧化物微粒（作为复合体的一部分）。虽然对比文件中的无机微粒为纳米级，与目标专利中用于形成凹凸形状的微米级微粒不同，但特征E未限定微粒尺寸，广义上包括了无机微粒。本领域技术人员由对比文件可以合理推断出硬涂层包含粘合剂树脂和分散的无机微粒，因此技术特征E被隐含公开。 |
| 技术特征F：所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm（未公开） | 对比文件[0071]记载“无机氧化物微粒的平均一次粒径优选1nm以上200nm以下，特别优选5nm以上100nm以下”。 | 对比文件公开的无机微粒粒径为纳米级，远小于目标专利要求的1μm至5μm，且未公开任何微米级有机或无机微粒，因此技术特征F未被公开。 |
| 技术特征G：所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm《隐含公开》 | 对比文件[0136]记载“涂膜厚度为干燥固化后的厚度，通常为0.1μm以上400μm以下，优选1μm以上200μm以下”。 | 对比文件公开了硬涂层厚度的一般范围，该范围包括5μm至10μm的区域，本领域技术人员可以合理选择该范围内的厚度，因此技术特征G被隐含公开。 |
| 技术特征H：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未提及任何表面粗糙度参数测量方法，尤其未公开使用3D光学轮廓仪测量Rsk和倾斜角，因此技术特征H未被公开。 |
| 技术特征I：所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未涉及减反射膜或反射率测量，未公开平均反射率数值，因此技术特征I未被公开。 |
| 技术特征J：所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件虽测量了雾度，但未区分内部雾度和外部雾度，也未公开内部雾度范围，因此技术特征J未被公开。 |
| 技术特征K：所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未涉及外部雾度，因此技术特征K未被公开。 |
| 技术特征L：基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒（未公开） | 对比文件[0115]记载“相对于100质量份多官能(甲基)丙烯酸酯单体(B)，有机无机复合体(A)为10质量份以上2000质量份以下”。 | 对比文件公开的是有机无机复合体(A)相对于单体(B)的比例，并非有机或无机微粒相对于(共)聚合物的比例，且复合体(A)包含硅烷偶联剂和微粒，含量范围与特征L不同，因此技术特征L未被公开。 |
| 技术特征M：基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未同时公开有机或无机微粒和无机纳米粒子，也未公开上述比例关系，因此技术特征M未被公开。 |
| 技术特征N：所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子（未公开） | 对比文件[0071]公开无机氧化物微粒平均一次粒径1-200nm，优选5-100nm，包含大于50nm的粒子，但未明确限定为大于50nm且120nm以下，且实施方式中使用10-20nm粒子。 | 对比文件虽公开了粒径范围，但未明确公开硬涂层包含该特定粒径范围的粒子作为附加组分，且目标专利特征N是独立于特征M的附加组分，对比文件未揭示该特征，因此技术特征N未被公开。 |
| 技术特征O：所述低折射率层包含：粘合剂树脂（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件不涉及低折射率层，因此技术特征O未被公开。 |
| 技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物（未公开） | 对比文件[0037]等公开了含氟化合物（防污赋予剂），但未提及聚倍半硅氧烷。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，也未公开低折射率层粘合剂树脂的交联聚合物组成，因此技术特征P未被公开。 |
| 技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未公开低折射率层中的无机微粒，因此技术特征Q未被公开。 |
| 技术特征R：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团（未公开） | 无相关记载。 | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷，因此技术特征R未被公开。 |
| 技术特征S：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代（未公开） | 无相关记载。 | 技术特征S未被公开。 |
| 技术特征T：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷（未公开） | 无相关记载。 | 技术特征T未被公开。 |
| 技术特征U：所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代（未公开） | 无相关记载。 | 技术特征U未被公开。 |
| 技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代（未公开） | 无相关记载。 | 技术特征V未被公开。 |
| 技术特征W：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上（未公开） | 无相关记载。 | 技术特征W未被公开。 |
| 技术特征X：所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物（未公开） | 对比文件[0085]记载“作为具有至少两个(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯单体(B)，可列举(甲基)丙烯酸酯类(B-1)、环氧(甲基)丙烯酸酯类(B-2)、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类(B-3)”。 | 对比文件在硬涂层组合物中公开了此类单体，但特征X属于低折射率层特征，对比文件未公开低折射率层，因此技术特征X在目标专利的上下文中未被公开。 |
| 技术特征Y：所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种（未公开） | 对比文件[0114]记载“作为具有碳-碳双键的基团，优选(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基等”。 | 对比文件在硬涂层组合物中公开了含氟化合物具有(甲基)丙烯酰基，但特征Y属于低折射率层特征，对比文件未公开低折射率层，因此技术特征Y未被公开。 |
| 技术特征Z：所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子（未公开） | 对比文件[0069]记载“从获得低折射率固化物的观点出发，优选中空二氧化硅”。 | 对比文件公开了中空二氧化硅可用于硬涂层组合物，但未公开其作为低折射率层中的无机微粒，且目标专利特征Z属于低折射率层特征，因此技术特征Z未被公开。 |
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