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对比文件列表
2003-09-02_US6613426B_发明授权_US06613426B2 Very fine anti-glare hard coat film_+++A_B_E_F_G_L_O_X+++.docx
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2005-03-04_KR1020050020722A_发明公开_KR1020050020722A 방현성 반사 방지 필름 및 그 제조 방법, 편광판 그리고화상 표시 장치_+++A_B_E_F_G_L_O_Q_X_Y_i+++.docx
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2005-06-16_JP2005156642A_发明专利_JP2005156642A Antireflection film, polarizing plate, and image display device using the same_+++A_B_E_F_G_I_O_Q_X_Y_Z_l+++.docx
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2006-06-08_JP2006146027A_发明专利_JP2006146027A Antiglare antireflection film, polarizing plate and display_+++A_B_E_L_O_Q_X_Z_f_g_i_y+++.docx
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2006-12-27_JP3862941B_发明专利_JP3862941B2 High-resolution anti-glare hard coat film_+++A_B_E_F_G_L_O_X+++.docx
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2008-02-07_US2008030861A_发明申请_US20080030861A1 Antiglare light diffusing member and method for producing same, and display_+++A_E_F_G_L_X+++.docx
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2008-10-09_US2008247045A_发明申请_US20080247045A1 ANTIGLARE FILM, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE_+++A_B_C_E_F_G_I_L_O_Q_X_Y_Z_j+++.docx
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2009-02-26_JP2009042351A_发明专利_JP2009042351A Optical film, polarizing plate, and display device_+++A_B_E_G_I_L_O_Q_R_S_T_U_V_X_Y_Z_f_n_p+++.docx
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2009-07-15_KR1020090077767A_发明公开_KR1020090077767A 하드 코팅 필름, 그의 제조 방법 및 반사 방지 필름_+++A_B_E_F_L_O_Q_X_g_h_z+++.docx
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2009-09-10_JP2009204728A_发明专利_JP2009204728A Antiglare laminate and display equipped with the same_+++A_B_E_F_G_I_L_N_O_Q_X_Y_Z+++.docx
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2009-12-10_JP2009288650A_发明专利_JP2009288650A Antiglare hard coat film, polarizing plate and image display apparatus using the same_+++A_B_E_G_L_N_O_Q_X_Z_f+++.docx
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2010-01-12_US7645502B_发明授权_US07645502B2 Anti-dazzling film_+++A_B_E_F_G_I_L_O_Q_X_l+++.docx
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2011-04-07_US2011080643A_发明申请_US20110080643A1 HARD-COATED ANTIGLARE FILM, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY INCLUDING THE SAME, AND METHOD FOR EVALUATING THE SAME_+++A_B_E_F_G_X_l_n+++.docx
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2011-04-13_KR1020110037841A_发明公开_KR1020110037841A 방현성 하드 코트 필름, 그것을 사용한 편광판 및 화상 표시 장치_+++A_B_E_F_G_l_n+++.docx
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2011-06-21_US7963660B_发明授权_US07963660B2 Antiglare hard-coated film_+++A_B_E_F_G_I_L_O_Q_X_Z+++.docx
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2012-10-08_KR1020120109525A_发明公开_KR1020120109525A 광학 적층체 및 광학 적층체의 제조 방법_+++A_E_F_G_J_K_X_b_h_l_o+++.docx
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2012-11-13_US8309202B_发明授权_US08309202B2 Hard-coated film, method for production thereof and antireflection film_+++A_B_E_F_G_I_L_O_Q_X_z+++.docx
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2013-03-07_JP2013047749A_发明专利_JP2013047749A Antiglare film, polarizer, and image display device_+++A_B_E_F_H_J_O_Q_X_g_l+++.docx
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2013-07-08_JP2013134358A_发明专利_JP2013134358A Composition for antidazzle layer, preparation method of composition for antidazzle layer, and manufacturing method of antidazzle film_+++A_B_E_F_G_J_O_Q_X_Y_Z_l+++.docx
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2013-09-09_JP2013178534A_发明专利_JP2013178534A Hard-coated antidazzle film, and polarizing plate using the same, and image display device_+++A_B_E_F_G_L_X+++.docx
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2013-09-26_US2013250414A_发明申请_US20130250414A1 ANTIGLARE FILM, POLARIZER, AND IMAGE DISPLAY DEVICE_+++A_B_E_F_J_L_O_Q_X_Y_Z+++.docx
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2013-11-25_KR1020130127984A_发明公开_KR1020130127984A 방현성 필름, 편광판 및 화상 표시 장치_+++A_B_E_F_J_K_L_O_Q_X_Y_Z+++.docx
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2014-01-08_JP5380029B_发明专利_JP5380029B2 Liquid crystal display device_+++A_B_E_F_I_J_L_O_Q_X_Y_Z+++.docx
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2014-05-07_CN103782203A_发明公开_CN103782203A 减反射涂膜_+++A_B_E_I_L_O_Q_X_Y_Z+++.docx
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2014-05-08_KR1020140054156A_发明公开_KR1020140054156A 방현성 필름, 편광판 및 화상 표시 장치_+++A_B_E_F_G_H_J_L_O_Q_X+++.docx
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2014-06-19_KR1020140075508A_发明公开_KR1020140075508A 방현 필름 및 이를 구비한 편광판_+++A_C_E_F_G_L_X+++.docx
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2015-02-16_JP2015031794A_发明专利_JP2015031794A 光学積層体、偏光板及び画像表示装置_+++A_B_D_E_G_L_O_Q_X_Y_Z+++.docx
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2015-05-11_None_发明专利_JPWO2013099931A1 防眩性フィルム、偏光板及び画像表示装置_+++A_B_E_F_L_O_Q_X_Z_g_j_k_y+++.docx
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2015-09-17_US2015260882A_发明申请_US20150260882A1 TOUCH PANEL, DISPLAY DEVICE, OPTICAL SHEET, METHOD FOR SELECTING OPTICAL SHEET, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL SHEET_+++A_E_G_J_L_X_h+++.docx
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2015-10-08_KR1020150113405A_发明公开_KR1020150113405A 안티블록킹 하드코팅층 조성물, 안티블록킹 하드코팅층 및 이를 포함하는 투명 도전성 필름_+++A_E_X_l+++.docx
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2016-01-07_KR1020160002407A_发明公开_KR1020160002407A 저굴절률층을 갖는 광학 부재_+++A_B_E_G_L_O_Q_T_X_Y_Z_p+++.docx
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2016-02-19_KR1020160019367A_发明公开_KR1020160019367A 반사 방지 필름_+++A_B_E_I_L_O_Q_X_Y_Z+++.docx
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2015-02-16_JP2015031794A_发明专利_JP2015031794A 光学積層体、偏光板及び画像表示装置_+++A_B_D_E_G_L_O_Q_X_Y_Z+++.docx

对比文件名称:2015-02-16_JP2015031794A_发明专利_JP2015031794A 光学積層体、偏光板及び画像表示装置

目标专利名称:1668减反射膜和显示装置CN108027456B

模型名称:无(本次调用未指定)

以下是根据目标专利权利要求划分的技术特征与对比文件的详细比对表格。第二栏引用的对比文件内容均已翻译为中文,并注明段落标号([xxxx]格式)。

第一栏:技术特征描述及公开性判断第二栏:对比文件原文引用(翻译)第三栏:公开性论述
技术特征A:包括硬涂层(《直接公开》)[0009]“所述光学功能层优选为硬涂层。”;[0032]对硬涂层的厚度进行优选;实施例1-9均形成硬涂层。对比文件明确记载光学功能层可以是硬涂层,并给出具体形成例,本领域技术人员可直接且毫无疑义地确定其公开了硬涂层。
技术特征B:在所述硬涂层上形成的低折射率层(《直接公开》)[0009]“所述光学层叠体优选为在硬涂层上叠层有低折射率层的结构。”;实施例5-8在硬涂层上涂布低折射率层组合物并固化形成低折射率层。对比文件直接教导硬涂层上可叠层低折射率层,并通过实施例实现,因此直接公开。
技术特征C:其中,所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5(未公开)[0027]“所述凹凸的偏度Sk的绝对值优选为0.5以下。”;[0031]定义Sk计算公式,与目标专利的Rsk定义相同。对比文件明确限定Sk≤0.5,即Sk在-0.5至0.5之间,而目标专利要求Rsk>0.5且<5,两者范围不重叠且方向相反。本领域技术人员不能从对比文件合理推导出>0.5的偏度,反而被教导避免。故未公开。
技术特征D:所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度(《直接公开》)[0025]“所述凹凸部的平均倾斜角θa优选满足0.01°≦θa≦0.10°。”对比文件公开的0.01°~0.10°完全落入目标专利的>0.01°且<0.2°范围内,因此直接公开。
技术特征E:其中,所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒(《直接公开》)[0033]“所述硬涂层优选为所述二氧化硅微粒分散在粘合剂树脂中”;实施例1-4硬涂层组合物包含PETA、聚氨酯丙烯酸酯(可光聚合化合物)及二氧化硅微粒(无机微粒),经光固化形成(共)聚合物粘合剂。对比文件的硬涂层组合物含有可光聚合的单体/低聚物,固化后形成粘合剂树脂,且含有分散的无机微粒(二氧化硅),因此直接公开。
技术特征F:其中,所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm(未公开)[0023]“所述二氧化硅微粒的平均一次粒径优选为1~200nm,更优选为10~50nm。”实施例中使用粒径12nm的气相二氧化硅。对比文件明确教导微粒粒径在纳米级别(1-200nm),而非微米级1-5μm,且未提及使用微米级粒子作为凹凸赋予微粒。本领域技术人员无法直接得到粒径1-5μm的微粒,故未公开。
技术特征G:其中,所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm(《直接公开》)[0032]“所述硬涂层的厚度优选为2.0~7.0μm,更优选为2.0~5.0μm。”对比文件公开的2.0~7.0μm包括大于5μm且小于7μm的部分,完全落入目标专利的>5μm且<10μm范围内,因此直接公开。
技术特征H:其中,所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果(未公开)[0094]使用表面粗糙度测量仪SE-3400(接触式触针法)测量θa和Sk,未提及非接触式3D光学轮廓仪。对比文件明确使用接触式触针法,未公开或暗示使用非接触式光学轮廓仪,且测量手段不同,本领域技术人员不能从对比文件确定出该测量方式。故未公开。
技术特征I:其中,所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4%(未公开)[0061]公开全光线透过率≥90%;[0062]全雾度<2.0%;未提及380-780nm平均反射率的具体数值。对比文件未记载平均反射率的数据或范围,本领域技术人员无法直接得出反射率小于4%的特征。故未公开。
技术特征J:其中,所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10%(未公开)[0062]仅公开全雾度(总雾度)<2.0%,未区分内部雾度和外部雾度,也未定义内部雾度。对比文件没有内部雾度的概念或测量方法,也没有给出相关数值范围,因此未公开。
技术特征K:其中,所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5%(未公开)同上,未公开外部雾度。对比文件未涉及外部雾度参数,因此未公开。
技术特征L:其中,基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物,所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒(《直接公开》)实施例1硬涂层组合物:PETA 60质量份、聚氨酯丙烯酸酯40质量份(共100质量份)、气相二氧化硅1质量份。实施例2-4分别含1.5、0.5、2.5质量份。实施例中二氧化硅微粒相对于可光聚合化合物总量(100份)为1~2.5份,落入1~20份范围内,因此直接公开。
技术特征M:其中,基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量,所述硬涂层还包含3重量%至10重量%的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子(未公开)硬涂层中仅含12nm气相二氧化硅(既作为赋予凹凸的微粒又作为纳米粒子),未使用其他更大粒径的有机或无机微粒。该二氧化硅占总微粒的100%,非3-10%。对比文件硬涂层中只存在一种微粒(12nm二氧化硅),不存在两种不同大小微粒的混合,更未教导3-10%的比例,因此未公开。
技术特征N:其中,所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子(未公开)硬涂层使用的二氧化硅粒径12nm;低折射率层中使用50nm中空二氧化硅,但未用于硬涂层。对比文件未在硬涂层中公开50-120nm的无机纳米粒子,故未公开。
技术特征O:其中,所述低折射率层包含:粘合剂树脂(《直接公开》)[0050]“所述低折射率层由树脂等构成”;实施例5-8低折射率层组合物含PETA(固化后形成粘合剂树脂)。对比文件明确低折射率层含有树脂作为粘合剂,因此直接公开。
技术特征P:该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物(未公开)低折射率层实施例组合物:PETA、中空二氧化硅、引发剂、硅油,无氟系化合物和聚倍半硅氧烷;说明书[0051]-[0056]虽然提到氟系树脂,但未公开与聚倍半硅氧烷组合使用形成交联聚合物。对比文件未在任何低折射率层方案中同时使用氟系化合物和聚倍半硅氧烷,更没有公开二者与可光聚合化合物形成交联聚合物,因此未公开。
技术特征Q:分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒(《直接公开》)实施例5-8低折射率层组合物含中空二氧化硅微粒(平均粒径50nm),分散在树脂中。对比文件低折射率层明确含有分散的无机微粒(中空二氧化硅),因此直接公开。
技术特征R:其中,在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团(未公开)对比文件未提及聚倍半硅氧烷。由于对比文件没有公开任何聚倍半硅氧烷,亦未公开其官能团种类,故未公开。
技术特征S:其中,所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代(未公开)同上。对比文件未公开聚倍半硅氧烷,因此亦未公开其非反应性官能团。
技术特征T:其中,所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷(未公开)同上。对比文件未公开多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)。
技术特征U:其中,所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代(未公开)同上。未公开。
技术特征V:未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代(未公开)同上。未公开。
技术特征W:其中,在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上(未公开)同上。未公开。
技术特征X:其中,所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物(《直接公开》)[0035]列举了多官能丙烯酸酯如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三/四丙烯酸酯等;硬涂层实施例使用PETA、聚氨酯丙烯酸酯;低折射率层实施例使用季戊四醇三丙烯酸酯。对比文件明确公开了含有(甲基)丙烯酸酯基的单体作为可光聚合化合物,因此直接公开。
技术特征Y:其中,所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种(《直接公开》)[0052]“作为具有电离辐射固化性官能团的含氟化合物,可广泛使用具有烯属不饱和键的含氟单体,具体可例示氟代烯烃类以及分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物,如2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯等。”对比文件明确举出了含有(甲基)丙烯酸酯基的氟系化合物,该官能团属于目标专利所列之一,因此直接公开(至少公开了(甲基)丙烯酸酯基)。
技术特征Z:其中,所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子(《直接公开》)实施例5-8低折射率层使用中空二氧化硅微粒,平均粒径50nm;[0050]提到中空二氧化硅微粒。对比文件公开了中空二氧化硅粒子且粒径50nm在10-100nm范围内,因此直接公开。

根据上述公开性判断,对比文件直接公开的技术特征有:A、B、D、E、G、L、O、Q、X、Y、Z。技术特征C、F、H、I、J、K、M、N、P、R、S、T、U、V、W未公开(包括直接和隐含)。由于未公开的特征不予标注代码,因此输出末尾仅插入以下代码:

<<<A>>><<<B>>><<<D>>><<<E>>><<<G>>><<<L>>><<<O>>><<<Q>>><<<X>>><<<Y>>><<<Z>>>

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