**对比文件名称**：2016-01-07_KR1020160002407A_发明公开_KR1020160002407A 저굴절률층을 갖는 광학 부재
**目标专利名称**：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
**本次调用的模型名称**：大型语言模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| **技术特征A：包括硬涂层《直接公开》** | [0039]：“所述光学构件还可以包括位于所述基材与所述低折射率层之间的硬涂层”。 | 对比文件明确记载光学构件可包含硬涂层，该硬涂层位于基材与低折射率层之间，因此直接公开了“包括硬涂层”的技术特征。 |
| **技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层《直接公开》** | [0039]：“所述光学构件还可以包括位于所述基材与所述低折射率层之间的硬涂层”；[0020]：“一种光学构件，包括基材；以及形成在所述基材上的低折射率层”。 | 由[0039]可知硬涂层在基材与低折射率层之间，且[0020]公开低折射率层形成在基材上，结合两者可直接得出低折射率层形成在硬涂层上，因此直接公开。 |
| **技术特征C：减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5《未公开》** | 对比文件未公开相关内容。 | 对比文件仅公开了低折射率层的平均表面粗糙度(Ra)、最大高度(Rmax)、十点平均粗糙度(Rz)等参数，未提及粗糙度偏度(Rsk)及其数值范围，本领域技术人员无法从对比文件直接且毫无疑义地得出该特征。 |
| **技术特征D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度《未公开》** | 对比文件未公开相关内容。 | 对比文件未公开任何有关表面凹凸形状倾斜角的参数或数值，因此未直接或隐含公开该特征。 |
| **技术特征E：硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒《直接公开》** | [0039]：“硬涂层可以包含光聚合性官能团单体的聚合物的第二粘合剂；以及分散在所述第二粘合剂中的金属氧化物粒子”。 | 对比文件明确公开硬涂层由光聚合性单体聚合而成的粘合剂树脂（对应可光聚合化合物(共)聚合物）和分散在其中的金属氧化物粒子（无机微粒）组成，因此直接公开。 |
| **技术特征F：有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm《未公开》** | [0065]：“金属氧化物粒子是重均粒径1nm以上15nm以下的微粒”。 | 对比文件硬涂层中的金属氧化物粒子粒径为1-15nm，远小于1μm，且未公开有机微粒，因此未公开粒径1-5μm的微粒。 |
| **技术特征G：硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm《直接公开》** | [0068]：“本实施方式的硬涂层12具有例如1μm以上10μm以下的厚度”。 | 对比文件公开硬涂层厚度为1-10μm，该范围包含了大于5μm且小于10μm的子区间，本领域技术人员可直接得到该厚度范围，因此直接公开。 |
| **技术特征H：减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果《未公开》** | 对比文件未公开相关内容。 | 对比文件未提及Rsk和倾斜角，也未提及使用3D光学轮廓仪进行测量，因此未公开。 |
| **技术特征I：减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％《未公开》** | 对比文件未公开平均反射率。 | 对比文件仅公开视感反射率（Y值）0.3%以下，未公开380-780nm波长范围内的平均反射率数据，因此未公开。 |
| **技术特征J：减反射膜的内部雾度大于0且小于10％《未公开》** | 对比文件未公开内部雾度。 | 对比文件仅在提及改性硅酮含量时提到雾度（Haze）值，但未区分内部雾度与外部雾度，也未给出具体范围，因此未公开。 |
| **技术特征K：减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％《未公开》** | 对比文件未公开外部雾度。 | 对比文件未提及外部雾度概念，也未给出相关数值，因此未公开。 |
| **技术特征L：基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒《直接公开》** | [0208]：“ATO金属氧化物粒子与由A-TMMT和A-TMM-3组成的单体的重量比为10:90”。 | 对比文件实施例中，单体（可光聚合化合物）为90份，ATO粒子为10份，换算为单体100份时粒子约11.1份，落在1-20份范围内，因此直接公开。 |
| **技术特征M：基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子《未公开》** | 对比文件未公开相关内容。 | 对比文件硬涂层中仅使用纳米级金属氧化物粒子（1-15nm），未同时使用微米级微粒和纳米级粒子，且粒子含量比例不符合3-10%条件，因此未公开。 |
| **技术特征N：所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子《未公开》** | [0065]：“金属氧化物粒子是重均粒径1nm以上15nm以下的微粒”。 | 对比文件硬涂层中粒子粒径为1-15nm，未包含大于50nm的粒子，因此未公开。 |
| **技术特征O：低折射率层包含粘合剂树脂《直接公开》** | [0023]：“所述树脂膜包括第一粘合剂；分散在所述第一粘合剂中的中空粒子；以及与所述中空粒子不相容的含氟聚合物”。 | 对比文件明确公开低折射率层（树脂膜）包含第一粘合剂（即粘合剂树脂），因此直接公开。 |
| **技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物《隐含公开》** | [0023]公开第一粘合剂、含氟聚合物；[0037]：“所述第一粘合剂还可以包含硅倍半氧烷”；[0100]：“硅倍半氧烷有很多结合基团，与周围的光固化含氟树脂或中空二氧化硅粒子(131)结合”。 | 对比文件公开低折射率层中粘合剂树脂（第一粘合剂）包含可光聚合的化合物（光聚合性含氟单体聚合物）和硅倍半氧烷，且含氟聚合物（含光反应性官能团的氟系化合物）存在并与粘合剂结合。硅倍半氧烷因具有结合基团而参与交联，本领域技术人员可合理推断其被反应性官能团取代，从而形成交联聚合物，因此隐含公开。 |
| **技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒《直接公开》** | [0023]：“分散在所述第一粘合剂中的中空粒子”。 | 对比文件明确公开低折射率层中中空粒子（无机微粒）分散在第一粘合剂中，因此直接公开。 |
| **技术特征R：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团《未公开》** | 对比文件未公开具体反应性官能团种类。 | 对比文件仅笼统提及硅倍半氧烷具有结合基团，但未公开任何具体反应性官能团，因此未公开。 |
| **技术特征S：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代《未公开》** | 对比文件未公开非反应性官能团。 | 对比文件未提及硅倍半氧烷被非反应性官能团取代，也未公开任何非反应性官能团种类，因此未公开。 |
| **技术特征T：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷《直接公开》** | [0103]：“特别优选使用完全笼形结构的硅倍半氧烷”。 | 对比文件明确公开优选使用完全笼形结构的硅倍半氧烷，即具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷，因此直接公开。 |
| **技术特征U：所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代《未公开》** | 对比文件未公开硅原子被反应性官能团取代。 | 对比文件未说明笼形硅倍半氧烷中硅原子被反应性官能团取代，因此未公开。 |
| **技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代《未公开》** | 对比文件未公开其余硅原子被非反应性官能团取代。 | 对比文件未提及硅倍半氧烷中硅原子被非反应性官能团取代的情况，因此未公开。 |
| **技术特征W：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上《未公开》** | 对比文件未公开摩尔比。 | 对比文件未公开任何关于反应性官能团与非反应性官能团比例的信息，因此未公开。 |
| **技术特征X：所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物《直接公开》** | [0096]：“结构单元A的非限制性具体实例包括乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、...二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯...”。 | 对比文件公开低折射率层中可光聚合化合物由含(甲基)丙烯酸酯基的单体形成，因此直接公开。 |
| **技术特征Y：所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种《直接公开》** | [0107]：“RA1表示具有聚合性不饱和基的官能团”；[0108]示例包括(甲基)丙烯酰基。 | 对比文件公开氟系化合物（光聚合性含氟聚合物）含有光反应性官能团，具体为(甲基)丙烯酰基，属于(甲基)丙烯酸酯基，因此直接公开了至少一种。 |
| **技术特征Z：所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子《直接公开》** | [0025]：“中空粒子可以是中空二氧化硅粒子”；[0027]：“中心粒径为约10nm至约100nm”。 | 对比文件明确公开低折射率层中的无机微粒为中空二氧化硅粒子，且中心粒径范围10-100nm，因此直接公开。 |
**结论**：对比文件KR1020160002407A直接公开了技术特征A、B、E、G、L、O、Q、T、X、Y、Z，隐含公开了技术特征P，未公开技术特征C、D、F、H、I、J、K、M、N、R、S、U、V、W。
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