对比文件名称：2009-12-03_WO2009145049A_发明申请_WO2009145049A1 反射防止膜及びその製造方法
目标专利名称：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
本次调用的模型名称：AI专利分析模型
以下为特征比对表格，对目标专利权利要求中的各技术特征进行公开性判断。对于未公开的特征，在表格第一栏注明“未公开”；对于直接公开或隐含公开的特征，按用户要求标注。
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A：包括硬涂层（未公开）** | 对比文件全文未出现“硬涂层”这一术语，其防反射膜为单层结构。例如段落[0008]：“其表面有平均高度100nm以上1000nm以下的凸部或平均深度100nm以上1000nm以下的凹部……并且雾度15%以下。” | 对比文件公开的防反射膜是通过模具转印形成的单层膜，未设置独立的硬涂层。目标专利的硬涂层是专门用于提供防眩光功能的层，对比文件无此分层结构，因此未公开。 |
| **技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层（未公开）** | 对比文件无“低折射率层”的记载，全文描述的是单层防反射膜。例如段落[0008]和实施例中均仅涉及一层防反射膜。 | 对比文件没有分层概念，未公开在硬涂层上另行形成低折射率层的技术方案，因此未公开。 |
| **技术特征C：减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5（未公开）** | 对比文件未提及粗糙度偏度Rsk参数。其表面形状由平均高度/深度和平均周期描述（段落[0008]、[0012]等）。 | 目标专利通过Rsk和倾斜角限定表面形状，对比文件完全未涉及Rsk概念及数值范围，因此未公开。 |
| **技术特征D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度（未公开）** | 对比文件未提及倾斜角参数。其表面形状由凸部/凹部的高度和周期定义（段落[0008]）。 | 目标专利限定了表面倾斜角的具体数值范围，对比文件无任何相关内容，因此未公开。 |
| **技术特征E：硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒（未公开）** | 对比文件在“硬化性組成物”部分描述了光固化组合物（如(甲基)丙烯酸酯），并提到可添加“微粒子”（<１－３． （メタ）アクリル系重合性組成物＞），但未限定微粒必须分散在硬涂层的粘合剂树脂中。 | 对比文件没有硬涂层结构，其组合物用于形成整个防反射膜，微粒作为可选添加剂而非硬涂层必备组分，且未限定硬涂层粘合剂树脂，因此未公开该特征。 |
| **技术特征F：所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm（未公开）** | 对比文件未提及微粒的粒径范围。在“微粒子”部分无具体尺寸记载。 | 目标专利明确限定了微粒粒径，对比文件无此信息，因此未公开。 |
| **技术特征G：所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm（未公开）** | 对比文件无硬涂层厚度记载，其防反射膜厚度未定义。实施例中仅说明制备方法，未给出厚度数值。 | 目标专利对硬涂层厚度有具体数值范围，对比文件未公开，因此未公开。 |
| **技术特征H：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果（未公开）** | 对比文件未提及任何测量Rsk或倾斜角的方法，也未提到3D光学轮廓仪。其表面形状通过SEM或AFM等观测（未明确）。 | 目标专利限定了特定的测量仪器，对比文件未公开，因此未公开。 |
| **技术特征I：所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％（未公开）** | 对比文件测量了反射率（表2），但未提供具体数值。表2中仅列出“反射率”列，但具体数据未在文本中给出。 | 对比文件未公开反射率数值能否小于4%，且未限定波长范围，因此未公开。 |
| **技术特征J：所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％（未公开）** | 对比文件仅提及总雾度≤15%（段落[0008]及表2），未区分内部雾度和外部雾度。 | 目标专利将雾度区分为内部和外部并分别限定，对比文件无此区分，因此未公开。 |
| **技术特征K：所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％（未公开）** | 对比文件未提及外部雾度概念。 | 同特征J，对比文件未公开外部雾度范围，因此未公开。 |
| **技术特征L：基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒（未公开）** | 对比文件未涉及硬涂层微粒含量。其组合物中“微粒子”含量未指定。 | 目标专利限定了微粒相对于可光聚合化合物的重量份范围，对比文件无记载，因此未公开。 |
| **技术特征M：基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子（未公开）** | 对比文件未提及无机纳米粒子及其粒径和含量。 | 目标专利限定了无机纳米粒子的类型、粒径及含量，对比文件无相应内容，因此未公开。 |
| **技术特征N：所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子（未公开）** | 对比文件未记载此类无机纳米粒子。 | 目标专利进一步限定纳米粒子粒径范围，对比文件未公开，因此未公开。 |
| **技术特征O：所述低折射率层包含：粘合剂树脂（未公开）** | 对比文件没有低折射率层结构。其防反射层由树脂组成，但未特指为低折射率层。 | 目标专利的低折射率层是专门的功能层，对比文件无此分层，因此未公开。 |
| **技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物（未公开）** | 对比文件未提及氟系化合物（含光反应性官能团）和聚倍半硅氧烷（POSS）。其组合物中含(甲基)丙烯酸酯、光引发剂、可选改性硅油等，但无氟系光反应性化合物和POSS。 | 目标专利限定了低折射率层粘合剂树脂的特定组成体系，对比文件未公开氟系化合物和POSS，因此未公开。 |
| **技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒（未公开）** | 对比文件未明确低折射率层中含有无机微粒，其可选“微粒子”可用于整个防反射膜，但未指定在低折射率层中。 | 由于对比文件没有低折射率层概念，更未公开该层中分散有无机微粒，因此未公开。 |
| **技术特征R：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团（未公开）** | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷。 | 对比文件不涉及任何聚倍半硅氧烷，因此其上的反应性官能团更未公开，因此未公开。 |
| **技术特征S：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代（未公开）** | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷及其取代基。 | 同特征R，对比文件无相关公开。 |
| **技术特征T：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷（未公开）** | 对比文件未涉及任何笼形POSS。 | 对比文件完全未公开此类化合物，因此未公开。 |
| **技术特征U：所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代（未公开）** | 对比文件未涉及POSS。 | 未公开。 |
| **技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代（未公开）** | 对比文件未涉及POSS。 | 未公开。 |
| **技术特征W：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上（未公开）** | 对比文件未涉及POSS。 | 未公开。 |
| **技术特征X：所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物（直接公开）** | 实施例1中公开了光硬化性组合物（a）：化合物(1)（含有丙烯酸酯基）、化合物(2)（含有丙烯酸酯基）、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇六丙烯酸酯，这些均为含(甲基)丙烯酸酯基的单体或低聚物。此外，说明书段落＜１－３＞明确指出使用“(メタ)アクリル系重合性組成物”。 | 对比文件明确记载了可光聚合的化合物为(甲基)丙烯酸酯类单体/低聚物，与目标专利特征X实质相同，该特征被直接公开。 |
| **技术特征Y：所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种（未公开）** | 对比文件提到“フルオロアルキル変性シリコーンオイル”（氟烷基改性硅油），但未明确这些化合物含有光反应性官能团，也未指定官能团种类。 | 对比文件未公开氟系化合物与光反应性官能团的关联，更未列出具体官能团选项，因此未公开。 |
| **技术特征Z：所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子（未公开）** | 对比文件未提及中空二氧化硅粒子。其“微粒子”为一般性描述，无具体种类和粒径。 | 目标专利明确限定无机微粒为中空二氧化硅且粒径10-100nm，对比文件无此公开，因此未公开。 |
根据上述比对，对比文件直接公开了技术特征X，其他技术特征均未直接或隐含公开。因此，仅在回答结尾输出对应代码。
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