对比文件名称：2011-09-01_KR1020110098578A_发明公开_KR1020110098578A 고분자 전해질막 연료전지용 전극-막 접합체의 균일코팅을 위한 슬롯 코팅 다이 내부 설계방법 및 슬롯 코팅 다이 장치
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：大型语言模型
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具 《直接公开》 | 对比文件标题及段落[0012]：<br>标题：“用于聚合物电解质膜燃料电池的电极-膜组件的均匀涂覆的狭缝式涂布模具内部设计方法及狭缝式涂布模具装置”；<br>[0012]：“典型狭缝式涂布工艺的示意图如图2所示。模具内部结构如(a)所示，模具外部结构（称为涂布珠区域）如(b)所示。首先，流体通过进料管进入腔室，填充腔室，然后通过狭缝流出。通过狭缝流出的涂布液涂覆在移动的网或基材上。” | 对比文件明确记载了“狭缝式涂布模具”（슬롯 코팅 다이），即狭缝式模具，本领域技术人员可以毫无疑义地确定其包括狭缝式模具，属于直接公开。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液 《直接公开》 | 对比文件段落[0012]：同上，“通过狭缝流出的涂布液涂覆在移动的网或基材上。” | 对比文件直接描述了狭缝式模具通过狭缝将涂布液供应至移动的基材（相当于基膜）上，功能完全对应，属于直接公开。 |
| 技术特征C：真空室 《未公开》 | 对比文件未提及“真空室”。其内部“챔버(chamber)”是模具内部的分配腔室，并非狭缝式模具前端外部的真空室。 | 对比文件没有公开任何与真空室相关的结构或功能，因此未公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端 《未公开》 | 对比文件未提及真空室及其安装位置。 | 因对比文件无真空室，故该特征未公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙 《未公开》 | 对比文件未提及真空室，不存在真空室与基膜之间的间隙。对比文件[0012]提及的模具与基材之间的间隙是涂布间隙，并非真空室间隙。 | 特征E明确基于真空室，对比文件无真空室，故未公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱 《未公开》 | 对比文件未提及压力振荡减低箱或类似结构。 | 对比文件没有公开任何用于降低压力振荡的箱体。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室 《未公开》 | 对比文件未公开真空室和压力振荡减低箱，因此无连接关系。 | 未公开。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接 《未公开》 | 对比文件未提及真空泵、管道以及真空室。 | 未公开。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接 《未公开》 | 对比文件未公开真空室、压力振荡减低箱及管道连接。 | 未公开。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力 《未公开》 | 对比文件未提及压力表及真空室。 | 未公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1 《未公开》 | 对比文件全文未涉及任何公式，更无公式1。 | 对比文件未公开任何相关公式。 |
| 技术特征L：[公式1] 《未公开》 | 同上。 | 对比文件无公式1。 |
| 技术特征M：V1≤V2 《未公开》 | 对比文件未提及体积比较。 | 未公开。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积 《未公开》 | 对比文件未公开真空室体积。 | 未公开。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积 《未公开》 | 对比文件未公开压力振荡减低箱体积。 | 未公开。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2 《未公开》 | 对比文件无公式2。 | 未公开。 |
| 技术特征Q：[公式2] 《未公开》 | 同上。 | 未公开。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW 《未公开》 | 对比文件未公开任何参数关系。 | 未公开。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3) 《未公开》 | 对比文件未公开真空室体积。 | 未公开。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3) 《未公开》 | 对比文件未公开压力振荡减低箱体积。 | 未公开。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N 《未公开》 | 对比文件未公开常数A。 | 未公开。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2) 《未公开》 | 对比文件未公开真空室压力。 | 未公开。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2) 《未公开》 | 对比文件未公开大气压力参数。 | 未公开。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m) 《未公开》 | 对比文件未公开该间隙。 | 未公开。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m) 《未公开》 | 对比文件未公开涂层长度参数。 | 未公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜 《隐含公开》 | 对比文件段落[0012]：“通过狭缝流出的涂布液涂覆在移动的网或基材上。” | 对比文件公开了基膜（基材）是移动的，本领域技术人员在狭缝式涂布领域公知，移动的基材通常由辊支撑并驱动，因此可以合理推断出基膜通过辊供应，属于隐含公开。 |
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