对比文件名称：2003-09-09_JP2003251260A_发明专利_JP2003251260A Coating method
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：无（未指定）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具（直接公开） | 段落【0013】：“图1是实施本发明的使用槽模的涂布机的断面图。” | 对比文件明确公开了使用槽模（スロットダイ），即狭缝式模具，因此技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液（直接公开） | 段落【0013】：“从槽模13将涂布液14作为珠14a进行涂布，在基材12上形成涂膜14b。” | 对比文件公开了狭缝式模具向基膜（ウェブ）供给涂布液，因此技术特征B被直接公开。 |
| 技术特征C：真空室（直接公开） | 段落【0017】：“在上游侧，为了能够对珠14a进行充分的减压调整，在不接触的位置设置减压室30。” | 对比文件公开了减压室（減圧チャンバー），相当于真空室，因此技术特征C被直接公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端（直接公开） | 段落【0017】同上；图1、图2显示减压室30设置在模具13的上游侧且靠近先端リップ（模具前端）。 | 对比文件公开了减压室安装在模具前端（靠近珠的位置），本领域技术人员可确定其安装在模具前端，因此技术特征D被直接公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙（直接公开） | 段落【0017】：“在背板30a与基材12之间、侧板30b与基材12之间分别存在间隙。” | 对比文件明确记载了减压室与基膜之间存在间隙，因此技术特征E被直接公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱（直接公开） | 段落【0019】：“在减压室30与鼓风机32之间，设有减压度调整用阀33及压力变动低减用缓冲器34。” | 对比文件公开了压力变动低减用缓冲器（バッファ），相当于压力振荡减低箱，因此技术特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室（直接公开） | 段落【0019】同上，缓冲器34设置在减压室30与鼓风机32之间，即连接至减压室。 | 对比文件公开了缓冲器连接至减压室，因此技术特征G被直接公开。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接（直接公开） | 段落【0019】：“减压是通过将减压室30用金属配管31或柔性软管连接到鼓风机32，连续吸引减压室30内部的空气来进行。” | 对比文件公开了金属配管（第一管道）连接减压室与鼓风机（真空泵），因此技术特征H被直接公开。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接（未公开） | 段落【0019】记载缓冲器34设置在减压室30与鼓风机32之间，但未说明分支连接。 | 对比文件公开了缓冲器串联在主管道中，未公开通过第二管道分支连接至第一管道一侧的结构，因此技术特征I未被直接公开，也不符合隐含公开条件。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力（未公开） | 对比文件未提及压力表。 | 对比文件没有公开压力表，因此技术特征J未被公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1（未公开） | 对比文件未公开任何公式。 | 对比文件未公开公式1，因此技术特征K未被公开。 |
| 技术特征L：[公式1]（未公开） | 同上。 | 对比文件未公开公式1，因此技术特征L未被公开。 |
| 技术特征M：V1≤V2（未公开） | 对比文件未公开V1、V2及其关系。 | 对比文件未公开体积比较关系，因此技术特征M未被公开。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积（未公开） | 对比文件未公开真空室的体积。 | 对比文件未公开真空室的体积，因此技术特征N未被公开。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积（未公开） | 对比文件未公开缓冲器的体积。 | 对比文件未公开压力振荡减低箱的体积，因此技术特征O未被公开。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2（未公开） | 对比文件未公开公式2。 | 对比文件未公开公式2，因此技术特征P未被公开。 |
| 技术特征Q：[公式2]（未公开） | 同上。 | 对比文件未公开公式2，因此技术特征Q未被公开。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW（未公开） | 对比文件未公开该关系式。 | 对比文件未公开该具体公式，因此技术特征R未被公开。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3)（未公开） | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开，因此技术特征S未被公开。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3)（未公开） | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开，因此技术特征T未被公开。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N（未公开） | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开，因此技术特征U未被公开。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2)（未公开） | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开，因此技术特征V未被公开。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2)（未公开） | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开，因此技术特征W未被公开。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)（未公开） | 对比文件未公开间隙宽度参数。 | 对比文件未公开，因此技术特征X未被公开。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)（未公开） | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开，因此技术特征Y未被公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜（直接公开） | 段落【0013】：“由背辊11支撑并连续行走的基材12”；全文基材“web”由辊支撑。 | 对比文件公开了基膜由背辊支撑和输送，隐含基膜通过辊供应，因此技术特征Z被直接公开。 |
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