对比文件的名称：2003-07-02_JP2003181857A_发明专利_JP2003181857A Method for manufacturing solution film
目标专利的名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：GPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（日文原文及中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具 《直接公开》 | 【0014】“流延ダイ１２”（流延模具12） | 对比文件公开的流延模具即为狭缝式模具，用于挤出涂布液，本领域技术人员可直接确定其结构，因此直接公开。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液 《直接公开》 | 【0015】“流延ダイ１２の先端からは、...ドープが膜状に押し出される。押し出されたドープは、走行する流延バンド１４の表面に仮着し、流延される。”（从流延模具的前端，...涂料以薄膜状挤出。挤出的涂料暂时附着在运行的流延带14的表面，进行流延。） | 对比文件明确公开了流延模具向支持体（基膜）供应涂布液，因此直接公开。 |
| 技术特征C：真空室 《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６”（减压室16） | 对比文件公开的减压室即为真空室，因此直接公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端 《未公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６は、流延バンド１４の走行方向に対して流延ダイ１２の上流側に設けられている”（减压室16设置在流延带14的行走方向相对于流延模具12的上游侧） | 对比文件明确将减压室安装在上游侧，而非模具前端（出口侧），且无任何暗示或教导改变位置，因此未公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙 《隐含公开》 | 未明确记载，但根据图1及涂布常识，减压室与支持体之间必然存在间隙。 | 本领域技术人员可以合理推断，为使涂布正常进行，真空室与基膜之间必须存在间隙，因此隐含公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱 《直接公开》 | 【0016】“バッファタンク２８”（缓冲罐28） | 对比文件公开的缓冲罐用于缓冲压力振荡，等同于压力振荡减低箱，因此直接公开。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室 《直接公开》 | 【0016】“吸引ダクト２２には、バッファタンク２８が設けられ”（吸引管道22上设有缓冲罐28） | 对比文件公开了缓冲罐通过吸引管道连接至减压室，因此直接公开。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接 《直接公开》 | 【0016】“吸引ダクト２２を介してブロア２４に接続されている”（通过吸引管道22连接到鼓风机24） | 对比文件公开了吸引管道（第一管道）连接鼓风机（真空泵）和减压室，因此直接公开。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接 《直接公开》 | 【0016】“吸引ダクト２２には、バッファタンク２８が設けられ”（吸引管道22上设有缓冲罐28） | 对比文件公开了缓冲罐连接在吸引管道上，即存在连接管道（第二管道）与第一管道连接，因此直接公开。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开任何压力表，因此未公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1 《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の１０〜１００倍の容量を有するバッファタンク２８”（具有减压室16的10-100倍容量的缓冲罐28） | 对比文件公开了缓冲罐容量大于等于减压室容量（10倍以上），即满足V1≤V2，因此直接公开了公式1的条件。 |
| 技术特征L：[公式1] 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未出现该公式标记，因此未公开。 |
| 技术特征M：V1≤V2 《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の１０〜１００倍の容量を有するバッファタンク２８”（具有减压室16的10-100倍容量的缓冲罐28） | 对比文件直接公开了V2≥10V1，满足V1≤V2，因此直接公开。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积 《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の容量”（减压室16的容量） | 对比文件公开了真空室体积的概念，因此直接公开。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积 《直接公开》 | 【0016】“バッファタンク２８の容量”（缓冲罐28的容量） | 对比文件公开了缓冲罐体积的概念，因此直接公开。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开任何类似公式2的数学关系，因此未公开。 |
| 技术特征Q：[公式2] 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未出现该公式标记，因此未公开。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开任何关于V1+V2与压力差、间隙、涂层长度等的关系，因此未公开。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3) 《隐含公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の容量”（减压室16的容量） | 对比文件公开了真空室容量，但未明确单位，本领域技术人员通常使用m3，可合理推断，因此隐含公开。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3) 《隐含公开》 | 【0016】“バッファタンク２８の容量”（缓冲罐28的容量） | 对比文件公开了缓冲罐容量，但未明确单位，本领域技术人员通常使用m3，可合理推断，因此隐含公开。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开任何常数A，因此未公开。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2) 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开真空室压力值及定义，因此未公开。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2) 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开大气压力定义，因此未公开。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m) 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开间隙宽度参数，因此未公开。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m) 《未公开》 | 无记载 | 对比文件未公开涂层水平长度参数，因此未公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜 《未公开》 | 【0014】“流延バンド１４”（流延带14）及其驱动辊 | 对比文件使用流延带作为支持体，并非通过辊供应的基膜（带本身循环运行，并非从辊上放卷），因此未公开。 |
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