对比文件的名称：2006-04-13_JP2006095456A_发明专利_JP2006095456A Coating method and coating apparatus for coating liquid
目标专利的名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：ChatGPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于涂布装置整体结构）公开了：“狭缝式模具18”。 | 对比文件明确公开了狭缝式模具（slot die），与本特征相同，因此直接公开。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于涂布方法）公开了：“从狭缝式模具的狭缝前端吐出涂布液，在基膜之间形成液桥”。 | 对比文件公开了狭缝式模具向基膜供应涂布液的功能，与本特征相同，因此直接公开。 |
| 技术特征C：真空室《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于减压室）公开了：“减压室26”。 | 对比文件明确公开了真空室（减压室），与本特征相同，因此直接公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于减压室设置）公开了：“在狭缝式模具18的前端部分下方设置减压室26”。 | 对比文件公开了真空室安装在狭缝式模具的前端（下方），与本特征相同，因此直接公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于间隙）公开了：“在背板26a与基膜14之间、侧板26B与基膜14之间分别存在间隙S”。 | 对比文件公开了真空室与基膜之间存在间隙，与本特征相同，因此直接公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于缓冲装置）公开了：“减小减压室26内压力变动的缓冲装置34”。 | 对比文件公开了用于减小压力变动的缓冲装置，其功能相当于本特征的压力振荡减低箱，因此直接公开。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于空气管道连接）公开了：“在空气管道28的中途设置缓冲装置34”，且该空气管道连接减压室和鼓风机。 | 对比文件公开了缓冲装置通过空气管道连接至减压室，即连接至真空室，因此直接公开。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于管道连接）公开了：“减压室26通过空气管道28连接至鼓风机30”。 | 对比文件公开了第一管道（空气管道）连接真空室和真空泵（鼓风机），因此直接公开。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接（未公开） | 对比文件仅公开了缓冲装置34串联在空气管道28的中途，未公开任何第二管道或分支连接结构。 | 对比文件未公开第二管道及与第一管道一侧的连接方式，该特征未直接公开；本领域技术人员从对比文件不能合理推断出该特定分支连接结构，因此未隐含公开。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力（未公开） | 对比文件说明书第[2]段（关于压力计）公开了：“在减压室26内设置压力计36”，未公开在第一管道上安装压力表。 | 对比文件公开的压力计位于减压室内部，不在第一管道上，该特征未直接公开；本领域技术人员从对比文件不能合理推断出压力表安装在第一管道一侧，因此未隐含公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1（未公开） | 对比文件未公开任何关于真空室体积与缓冲装置体积的关系或公式。 | 对比文件未公开公式1，因此未直接公开；也没有任何内容隐含该公式，因此未隐含公开。 |
| 技术特征L：[公式1]（未公开） | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征M：V1≤V2（未公开） | 对比文件未公开任何体积比较关系。 | 对比文件未公开该不等式，因此未公开。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积（未公开） | 对比文件未公开真空室体积的具体数值或与任何其他体积的关系。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积（未公开） | 对比文件未公开压力振荡减低箱（缓冲装置）的体积。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2（未公开） | 对比文件未公开任何类似公式2的内容。 | 对比文件未公开公式2，因此未直接公开；也没有任何内容隐含该公式，因此未隐含公开。 |
| 技术特征Q：[公式2]（未公开） | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW（未公开） | 对比文件未公开该不等式。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3)（未公开） | 对比文件未公开真空室体积或单位。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3)（未公开） | 对比文件未公开缓冲装置体积或单位。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N（未公开） | 对比文件未公开任何常数A。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2)（未公开） | 对比文件公开了减压室压力为负压，但未明确使用P1表示及单位N/m2。 | 对比文件未公开该特征的具体表示，因此未公开。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2)（未公开） | 对比文件未公开大气压力的表示。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)（未公开） | 对比文件公开了间隙S，但未用D表示宽度，也未给出具体数值范围。 | 对比文件未公开该特征的具体表示，因此未公开。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)（未公开） | 对比文件未公开涂层水平长度W的概念。 | 对比文件未公开该特征，因此未公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜《直接公开》 | 对比文件说明书第[2]段（关于基膜）公开了：“卷绕支撑在支撑辊12上连续走行的基膜14”。 | 对比文件公开了基膜通过辊（支撑辊）供应，与本特征相同，因此直接公开。 |
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