**对比文件名称**：2010-01-19_KR1020100006461A_发明公开_KR1020100006461A 입체영상표시장치
**目标专利名称**：1789立体图像显示器的多功能滤光片和包括其的立体图像显示装置 CN103154802B
**本次调用的模型名称**：未指定
### 特征比对表格
| 技术特征及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译，保留段落标号） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括，所述图像产生单元包括在一侧具有透明电极的上基板（隐含公开） | [34] 所述主显示面板110为液晶显示面板时，包括薄膜晶体管阵列基板111、相对设置的彩色滤光片基板112、位于阵列基板111和彩色滤光片基板112之间的主液晶层113，以及附着在阵列基板111和彩色滤光片基板112外表面上的第一偏振板114和第二偏振板115。 | 对比文件公开了主显示面板（图像产生单元）包含上基板（彩色滤光片基板112），但未明确提及透明电极。然而，本领域技术人员熟知液晶显示面板的上基板通常设有透明公共电极（如ITO）以驱动液晶，因此可以合理推断出上基板在一侧具有透明电极。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征B**：与所述上基板间隔开并在一侧具有透明电极的下基板（隐含公开） | 同上[34]段，提及阵列基板111。 | 对比文件公开了主显示面板包含下基板（阵列基板111），但未明确提及透明电极。本领域技术人员熟知阵列基板上通常设有透明像素电极（如ITO），因此可以合理推断出下基板在一侧具有透明电极。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征C**：插入所述上基板和所述下基板之间的液晶晶胞（直接公开） | [34] 位于阵列基板111和彩色滤光片基板112之间的主液晶层113。 | 对比文件明确公开了主液晶层113位于上下基板之间，即相当于液晶晶胞。该特征被直接公开。 |
| **技术特征D**：滤光片（未公开） | 无直接对应内容。 | 对比文件未公开任何称为“滤光片”的组件，其描述的辅助显示面板为液晶面板，并非本发明的滤光片。该特征未被公开。 |
| **技术特征E**：所述滤光片包括被图案化为调整右眼图像的偏振状态的第一区域和调整左眼图像的偏振状态的第二区域的3D滤光层（隐含公开） | [36] 辅助显示面板120位于主显示面板110的前方，辅助显示面板120包括相对设置的第一基板121和第二基板122，以及位于第一基板121和第二基板122之间的子液晶层123。<br>[40] 第一电极128沿着主显示面板的像素行图案化。<br>[46]-[48] 描述在TN模式下，off状态时液晶扭曲90°使偏振轴旋转，on状态时液晶垂直排列不改变偏振，从而可通过控制不同区域实现偏振调整。 | 对比文件公开了辅助显示面板，其通过图案化电极和液晶层实现不同区域对入射光偏振状态的调整（例如使左眼和右眼图像光具有不同偏振态），从而起到调整左眼和右眼图像偏振状态的作用。虽然对比文件使用的是有源液晶层而非被动的3D滤光层，但本技术特征中“被图案化为调整右眼/左眼图像偏振状态的第一/第二区域”的功能被对比文件部分公开，本领域技术人员有可能结合其他对比文件得到3D滤光层的方案。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征F**：具有RGB图案的滤色层（隐含公开） | [34] 彩色滤光片基板112。 | 对比文件公开了主显示面板中的彩色滤光片基板，其具有RGB图案用于实现彩色显示。虽然该滤色层属于主显示面板而非滤光片，但本技术特征中“具有RGB图案的滤色层”本身被对比文件公开，本领域技术人员有可能将其与其他对比文件结合以形成滤光片中的滤色层。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征G**：所述滤光片设置在所述上基板的外侧（隐含公开） | [36] 辅助显示面板120位于主显示面板110的前方。 | 对比文件公开了辅助显示面板设置在主显示面板的前方，即上基板的外侧。虽然辅助显示面板并非本发明的滤光片，但本技术特征中“设置在上基板的外侧”这一位置关系被对比文件部分公开，本领域技术人员有可能将其与其他对比文件结合得到滤光片设置在上基板外侧的方案。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征H**：还包括，位于所述3D滤光层和所述滤色层之间的粘合层（未公开） | 无。 | 对比文件未公开任何粘合层位于光学层之间。该特征未被公开。 |
| **技术特征I**：还包括，位于所述滤光片的最上层上的粘合层（未公开） | 无。 | 对比文件未公开任何粘合层位于滤光片最上层。该特征未被公开。 |
| **技术特征J**：其中，所述滤色层通过印刷法形成（未公开） | 无。 | 对比文件未公开滤色层的具体形成方法。该特征未被公开。 |
| **技术特征K**：其中，所述滤色层通过喷墨印刷法或凹版印刷法形成（未公开） | 无。 | 对比文件未公开滤色层的具体形成方法。该特征未被公开。 |
| **技术特征L**：其中，所述滤色层通过光刻法形成（未公开） | 无。 | 对比文件未公开滤色层的具体形成方法。该特征未被公开。 |
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