1997-12-31_WO1997050026A_发明申请_WO1997050026A1 APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING A CURRENT WITH A POSITIVE TEMPERATURE COEFFICIENT_+++A_B_L_g+++.docx

对比文件名称:1997-12-31_WO1997050026A_发明申请_WO1997050026A1 APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING A CURRENT WITH A POSITIVE TEMPERATURE COEFFICIENT

目标专利名称:464偏置发生器CN101416136B

本次调用模型名称:GPT-4

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用公开性论述
技术特征A《直接公开》<br>包括:第一晶体管,其具有第一输入端口、第一输出端口和第一控制端口,说明书第[p0040]段,图2:“the transistors MPA, MPB, MP1, MP2, MP3, and MP4 are P-channel metal oxide semiconductor field effect transistors (PMOSFET) . Likewise, the transistors MNA and MNB are N-channel metal oxide semiconductor field effect transistors (NMOSFET).”<br>图2中明确示出了晶体管MP1,其具有漏极(输入端)、源极(输出端)和栅极(控制端)。对比文件图2公开了多个晶体管,例如PMOS晶体管MP1。该晶体管必然具有三个端口:作为输入端口的漏极、作为输出端口的源极和作为控制端口的栅极。这与技术特征A中定义的“第一晶体管,其具有第一输入端口、第一输出端口和第一控制端口”的结构完全相同。因此,本领域技术人员能够毫无疑义地确定对比文件公开了该技术特征。
技术特征B《直接公开》<br>其中所述第一控制端口处的电压决定从所述第一输入端口通过所述第一晶体管去往所述第一输出端口的第一电流,从所述第一输出端口连接至公共电势的参考负载说明书第[p0047]段:“The reference current IREF flows through the resistor R2.”<br>说明书第[p0049]段:“the source-gate voltages VSG(MP1) ... may be determined from equation (9) ... where ... ID represents the drain current...”。 图2中,晶体管MP1的源极(输出端口)通过电阻R2连接到地(Vss,公共电势)。对比文件图2中,晶体管MP1的栅极(第一控制端口)电压VSG(MP1)决定了其漏极电流ID1(即第一电流IREF),如公式(9)所描述。MP1的源极(第一输出端口)通过电阻R2连接到地(Vss,公共电势),该电阻R2即相当于参考负载。因此,对比文件直接公开了“第一控制端口电压决定第一电流”以及“第一输出端口通过参考负载连接至公共电势”这两个技术方案。
技术特征C《未公开》<br>第二晶体管,其具有第二输入端口和第二输出端口且具有连接至所述第一控制端口和所述第二输入端口的第二控制端口,说明书第[p0040]-[p0041]段及图2:“The transistor MP2 ... the gate of the transistor MP2 is connected at the node N1 to the source of the transistor MNB and to the emitter of the transistor Q2.” 图2显示MP2的栅极(第二控制端口)连接到节点N1,而节点N1连接到MP2的源极(第二输入端口?)、MNB的源极和Q2的发射极。对比文件中的第二晶体管(MP2)的控制端口(栅极)确实连接到了其自身的输入端口(源极),这符合目标专利中“连接至所述第二输入端口”的描述。然而,MP2的栅极(第二控制端口)并未连接至第一晶体管(MP1)的控制端口(栅极)。MP1的栅极连接到MPA的漏极和MNA的漏极,这是一个不同的节点。因此,对比文件未公开“第二控制端口连接至所述第一控制端口”这一关键的连接关系。
技术特征D《未公开》<br>其中所述第一控制端口处的所述电压决定从所述第二输入端口通过所述第二晶体管去往所述第二输出端口的第二电流,所述第一和第二控制端口连接至受偏器件说明书第[p0047]段及图2:“The reference current IREF flows through the resistor R2... the bias current IOUT1 ... mirrors the reference current IREF that flows out of the drain of the transistor MP2 and through the resistor R2.” 图2中,MP2的电流IREF是其栅源电压的函数,该电压由节点N1的电位决定,而节点N1电位受VDD、VSG(MP1)、VEB(Q2)等多个因素影响。在对比文件中,第二晶体管MP2的电流(IREF)并非由第一晶体管MP1的控制端口(栅极)电压单独决定,而是由包含MP1、Q2、MNB等多个元件电压的环路(节点N1电压)共同决定。此外,对比文件中的偏置电路是自包含的,用于生成具有正温度系数的电流,其晶体管(MP1、MP2等)的控制端口并未连接至一个外部的“受偏器件”以提供偏置电压。因此,该特征未被公开。
技术特征E《未公开》<br>提供所述第一电流的第一电流源说明书及附图未明确描述或图示一个独立的、向第一晶体管(MP1)提供第一电流的“第一电流源”。图2中流经MP1的电流IREF是由整个电路(包括MP2、R2、VDD等)的工作状态决定的。在对比文件的电路中,第一晶体管MP1的电流是由其自身(作为有源器件)在电路中的偏置状态产生的,并没有一个如目标专利中所述的、独立于第一晶体管并向其提供电流的“第一电流源”器件(例如图2中的第三晶体管202)。因此,该特征未被公开。
技术特征F《未公开》<br>提供比所述第一电流大的所述第二电流的第二电流源。说明书及附图未明确描述或图示一个独立的、向第二晶体管(MP2)提供第二电流的“第二电流源”,也未记载第二电流大于第一电流。图2中,流经MP2的电流IREF与流经MP1的电流IREF是同一电流(通过电流镜MP2-MP3复制)。对比文件中不存在一个独立的“第二电流源”器件。此外,电路中的关键电流是IREF,它在MP1和MP2支路中是镜像关系,大小相等(或成固定比例,但说明书未强调比例大于1),并未公开第二电流“比所述第一电流大”的关系。因此,该特征未被公开。
技术特征G《隐含公开》<br>其特征在于,第一晶体管尺寸与第二晶体管尺寸相同。说明书第[p0040]段:“the transistors MPA, MPB, MP1, MP2, MP3, and MP4 are P-channel metal oxide semiconductor field effect transistors (PMOSFET). ... the transistor MP2 is matched with the transistors MP3 and MP4”。说明书未明确声明MP1与MP2尺寸相同。虽然对比文件没有明确记载MP1和MP2的尺寸相同,但本领域技术人员可以合理推断。在图2的电流镜结构(由MP2、MP3、MP4构成)中,为了精确复制电流,MP2、MP3、MP4通常是匹配的,即尺寸相同。MP1虽然不在同一个电流镜中,但其与MP2同为PMOSFET,且连接在对称的支路(分别与MNA和MNB构成对称结构,且Q1与Q2匹配)中。为了实现电路的对称性和精确的温度补偿功能,将MP1和MP2设计为尺寸相同是常见且合理的技术手段。因此,本领域技术人员有可能从对比文件公开的对称结构和匹配要求中,推理出将MP1和MP2设置为相同尺寸的方案。
技术特征H《未公开》<br>其特征在于,所述第一电流源包括具有第三输入端口、第三输出端口和连接至所述第三输出端口的第三控制端口的第三晶体管,且其中所述第二电流源包括具有第四输入端口、第四输出端口和连接至所述第三控制端口的第四控制端口的第四晶体管。说明书第[p0040]段及图2:“the transistors ... MP2, MP3, and MP4 ... The gate of the transistor MP2 is connected at the node N3 to the gate of the transistor MP3 , and to the gate of the transistor MP4 thereby forming a second current mirror.” 图2中,MP2的栅极(控制端口)连接到节点N3,MP3和MP4的栅极也连接到节点N3。MP2的栅极并未连接到其自身的源极或漏极。对比文件图2中存在由MP2、MP3、MP4构成的电流镜。MP2可以视为“第三晶体管”,MP3或MP4可视为“第四晶体管”,且MP3/MP4的控制端口(栅极)确实连接到了MP2的控制端口(栅极,即节点N3),这与“第四控制端口连接至第三控制端口”部分相符。然而,目标专利要求“第三晶体管的控制端口连接至其输出端口”(即二极管连接方式)。在对比文件中,MP2(第三晶体管)的控制端口(栅极)连接到节点N3,而节点N3连接到电阻R2和MP2的漏极(根据图2,MP2漏极接Vss,但节点N3连接的是MP2的栅极和R2,并非直接连接MP2的漏极或源极),并未明确公开MP2的栅极连接到其自身的源极(输出端口)。因此,关键的“二极管连接”结构未被公开。
技术特征I《未公开》<br>其特征在于,第四晶体管尺寸比第三晶体管尺寸大。说明书未提及晶体管MP2、MP3、MP4之间的具体尺寸比例关系。对比文件仅说明MP2、MP3、MP4是匹配的(matched),这意味着它们通常具有相同或非常相似的尺寸以实现准确的电流镜像,并未公开第四晶体管(MP3或MP4)的尺寸比第三晶体管(MP2)大的技术方案。
技术特征J《未公开》<br>其特征在于,所述第四晶体管尺寸至少为所述第三晶体管尺寸的两倍。说明书未提及晶体管MP2、MP3、MP4之间的具体尺寸比例关系。同技术特征I,对比文件未公开任何关于晶体管MP2与MP3/MP4之间尺寸比例的具体数值,特别是“至少两倍”这样的关系。
技术特征K《未公开》<br>其特征在于,所述第四晶体管尺寸至少为所述第三晶体管尺寸的四倍。说明书未提及晶体管MP2、MP3、MP4之间的具体尺寸比例关系。同技术特征I、J,对比文件未公开“至少四倍”的尺寸比例关系。
技术特征L《直接公开》<br>其特征在于,所述第一晶体管、所述第二晶体管、所述第三晶体管以及所述第四晶体管是场效应晶体管(FET),且所述第一和第二输入端口是漏极、所述第一和第二输出端口是源极以及所述第一和第二控制端口是栅极。说明书第[p0040]段:“the transistors MPA, MPB, MP1, MP2, MP3, and MP4 are P-channel metal oxide semiconductor field effect transistors (PMOSFET).” 图2明确显示了这些晶体管的连接,其漏极、源极、栅极分别对应输入、输出、控制端口。对比文件明确公开了MP1、MP2、MP3、MP4均为PMOSFET(场效应晶体管的一种)。对于FET,其端口定义是固定的:漏极为输入端,源极为输出端,栅极为控制端。因此,该特征被对比文件直接公开。
技术特征M《未公开》<br>其特征在于,所述第二电流至少为所述第一电流的两倍。说明书未记载流经MP2的电流(IREF)与流经MP1的电流(I1)之间存在“至少两倍”的大小关系。实际上,根据图2和描述,I1和I2(流经Q1和Q2的电流)因电流镜MPA-MPB而相等,IREF是另一个镜像电流,并未与I1或I2建立“至少两倍”的比例关系。对比文件没有公开任何关于“第二电流”(如果认为MP2的电流是第二电流)与“第一电流”(如果认为MP1的电流是第一电流)之间的大小比例,更未达到“至少两倍”的特定数值关系。
技术特征N《未公开》<br>其特征在于,所述第二电流至少比所述第一电流大四倍。说明书未记载流经MP2的电流(IREF)与流经MP1的电流(I1)之间存在“至少四倍”的大小关系。同技术特征M,对比文件未公开任何关于“第二电流”是“第一电流”“至少四倍”的特定数值关系。

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