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权利要求与技术特征
权利要求 1
A
该电磁波根据入射方向入射在所述设备上
B
所述设备包括介电材料层(112)
C
该介电材料层的表面具有形成台阶的水平变化
D
所述介电材料具有第一折射指数
E
具有小于所述介电材料的第一折射指数的第二折射指数的介质
F
其中该介质与所述台阶接触；并且中所述亚波长尺度物体(10)位于所述设备内的静区中
G
其中所述静区内的电磁场强度小于与所述亚波长尺度物体的电磁灵敏度相关的阈值
H
其中所述至少一个亚波长尺度物体(10)在所述静区内被屏蔽以免受所述电磁波(20)
I
其中所述静区沿着与所述入射电磁波(20)的入射方向相同的方向在所述台阶附近的所述表面上方延伸。
权利要求 2
J
其中所述台阶由在所述介电材料层(112)中制成的凹槽的边缘形成。
权利要求 3
K
其中所述台阶由在所述介电材料层(112)中制成的腔(111)的边缘形成。
权利要求 4
L
其中所述静区沿着所述电磁波的入射方向在所述腔内部和在所述腔上方部分地延伸。
权利要求 5
M
其中所述腔属于具有至少两个腔的组。
权利要求 6
N
其中所述腔的目标是圆柱形或锥形。
权利要求 7
O
其中所述腔在所述入射电磁波的入射方向上以及在与所述入射电磁波的入射方向正交的任何方向上的尺寸
P
在所述介电材料中所述入射电磁波的波长的一小部分与在所述介电材料中所述入射电磁波的几个波长之间。
权利要求 8
Q
其中所述设备还包括形成基板的层(110)
R
所述基板与所述介电材料层邻接。
权利要求 9
S
其中所述设备还包括形成覆板的层(113)
T
所述介电材料层位于所述基板和所述覆板之间。
权利要求 10
U
其中形成所述基板的层和形成所述覆板的层由与所述介电材料层(112)的介电材料相同的介电材料制成。
权利要求 11
V
其中所述介电材料选自包括下列项的组(i)玻璃
W
(ii)塑料
X
(iii)聚合物材料
Y
(iv)其中不发生等离子体效应的有机光学透明导电氧化物
Z
和(v)其中不发生等离子体效应的无机光学透明导电氧化物。