本次调用的模型名称：专利创造性评估模型
对比文件名称：2009-01-15_发明申请_US20090015812A1 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
目标专利名称：使用无视差假影的折叠式光学器件的多相机系统CN110647000B
## 特征比对表格 ##
| 技术特征描述以及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述系统包括：多个相机的阵列，其经定位以捕获表示所述目标场景的多个部分的图像数据，所述阵列具有共用的虚拟投影中心。<br>**未被公开** | 未找到对应内容。对比文件涉及微光刻照明系统，其包含光栅元件板（例如场光栅元件板）以分裂光束并产生多个二次光源（见[0018]段），但这些是用于照明掩模版（reticle）的光学元件，并非用于捕获场景图像的“相机阵列”。 | 对比文件公开的是一种用于均匀照明掩模版平面的照明系统，其核心是将来自一个主光源的光通过多个场光栅元件分裂，并引导至多个光瞳光栅元件，最终在像面（掩模版平面）上叠加成像（见[0018]-[0020]段）。该系统不具备“相机”的功能，即没有图像传感器来捕获和处理外部场景的图像数据。其中提到的“二次光源”或“三次光源”是照明光束的中间像点，并非具有虚拟投影中心的相机阵列。两者技术领域、目的和技术方案本质不同，因此本领域技术人员无法从对比文件中得出或推理出“具有共用虚拟投影中心的多个相机阵列”这一技术特征。 |
| 技术特征B：所述多个相机中的每一者经定位以捕获所述图像数据的表示所述目标场景的所述多个部分中的各部分的一部分图像数据，且所述多个相机中的每一者包括：图像传感器。<br>**未被公开** | 未找到对应内容。对比文件全文未提及“图像传感器”（image sensor）。 | 对比文件的光学系统终点是像面（掩模版），光线被引导至该平面进行照明（例如[0018], [0126]段）。系统本身不包含任何用于感光并输出电子图像信号的图像传感器。该文件解决的是照明均匀性和光瞳填充问题，而非图像捕获问题。因此，技术特征B（图像传感器）未被对比文件公开。 |
| 技术特征C：透镜组合件，其包括至少一个透镜，所述透镜组合件具有投影中心。<br>**直接公开** | [0018]段：“The light of this primary light source is collected by a collector unit and directed to a first optical element... A field lens forming a second optical component is arranged between the pupil plane and the image plane of the illumination system to image the secondary light sources into an exit pupil of the illumination system...”<br>[0126]段：“The field lens 12 images these secondary sources in the exit pupil of the illumination system or the entrance pupil of the subsequent projection objective forming tertiary light sources.” | 对比文件明确公开了包含透镜（或反射镜，在光学系统中透镜组合件可广义理解为具有聚焦功能的光学组件）的“场透镜”（field lens），其作用是将二次光源成像到照明系统的出瞳（即后续投影物镜的入瞳）。根据光学原理，任何透镜或透镜组合件都有其投影中心（例如入射光瞳中心）。虽然对比文件未明确写出“投影中心”一词，但透镜组合件具有投影中心是本领域的公知光学特性。该透镜组合件在对比文件整体技术方案中起到成像和光路引导的作用，与其在目标专利中作为相机的一部分将光聚焦到图像传感器上的作用在“聚焦光线”这一基本光学功能上实质相同。因此，本领域技术人员能够毫无疑义地得出对比文件的场透镜（作为透镜组合件的一种形式）具有投影中心，技术特征C被直接公开。 |
| 技术特征D：以及第一反射性表面，其经定位以将表示所述目标场景的所述多个部分中的一者的入射光朝所述透镜组合件反射。<br>**隐含公开** | [0022]段：“For reflective field raster elements the deflection angles are generated by the tilt angles of the field raster elements.”<br>[0030]段：“The field raster elements are preferably rectangular... The field raster elements are preferably tilted planar mirrors or prisms with planar surfaces...”<br>[0126]段图1及相关描述：“The field raster elements 5 of the first raster element plate 7 decompose the light beam and produce secondary light sources at the site of the pupil raster elements 9.” | 对比文件详细描述了“场光栅元件”（field raster elements），其优选为倾斜的平面镜（反射性表面），用于将入射光束分解并反射/偏转向对应的光瞳光栅元件（见[0022], [0030]段）。虽然对比文件中场光栅元件反射光的目标是“光瞳光栅元件”或“二次光源”位置，而目标专利中第一反射性表面反射光的目标是“透镜组合件”，但两者在“将入射光朝特定方向反射以进行后续处理”这一基本功能上具有相似性。在对比文件的上下文中，光瞳光栅元件之后通常跟随场透镜（相当于透镜组合件）对光线进行进一步处理。因此，本领域技术人员可以合理推断，一个反射表面（如场光栅元件）被用于将光引导至一个光学系统（包含透镜组合件）是常见的设置。技术特征D被对比文件部分公开，结合其光学系统的常规构成，可以隐含公开。 |
| 技术特征E：所述第一反射性表面提供于平面内。<br>**隐含公开** | [0030]段：“Preferably, the field raster elements are tilted planar mirrors or prisms with planar surfaces, which are much easier to produce and to qualify than curved surfaces.”<br>[0063B]图描述：“FIG. 63B: Raster element plate with tilted raster elements on a planar supporting plate.” | 对比文件明确教导场光栅元件优选为“平面镜”（planar mirrors）并安装在“平面支撑板”（planar supporting plate）上，即这些反射性表面本身是平面，并且位于一个支撑平面内。这直接对应于“第一反射性表面提供于平面内”的特征。虽然目标专利的“平面”可能特指镜平面，而对比文件描述的是元件表面为平面且安装在平面上，但本领域技术人员能够理解，一个平面反射表面必然位于其自身所定义的平面内。因此，该技术特征被对比文件隐含公开。 |
| 技术特征F：所述平面位于沿着将所述透镜组合件的所述投影中心与所述虚拟投影中心相连接的线的中点，且以一角度与所述线正交。<br>**未被公开** | 未找到对应内容。 | 这是目标专利实现无视差效果的核心几何关系。对比文件中的场光栅元件（反射面）的定位和倾斜是为了实现特定的照明模式（如环形照明）、均匀化光强分布以及将二次光源定位在光瞳平面内（例如[0022]-[0023], [0035]段）。其设计考虑因素包括入射光方向、二次光源的期望位置、光瞳填充等，完全没有提及任何与“虚拟投影中心”相关的概念，也没有描述反射面平面需要位于透镜投影中心与某个虚拟点连线中点的特定几何约束。该特征在对比文件中既无文字记载，也无法从其整体技术方案中推理得出。 |
| 技术特征G：表面，其位于所述阵列与所述目标场景之间，所述表面包括光圈，所述光圈经定位以允许表示所述目标场景的光传递到所述多个相机中的每一者的所述第一反射性表面。<br>**隐含公开** | [0023]段：“The diameter of the beam path is preferably reduced after the collector unit to arrange filters or transmission windows with a small size.”<br>[0069]段：“To reduce the length of the illumination system the field lens comprises preferably a third field mirror... Since the plane with the tertiary light sources is arranged conjugated to the exit pupil, this plane can be used to arrange masking blades to change the illumination mode or to add transmission filters.”<br>[0083]段图48A-48C及相关描述中显示了在光路中设置孔径或滤光片的位置。 | 对比文件提到了在光路中设置“透射窗口”（transmission windows）、“滤光片”（filters）或“掩模叶片”（masking blades）以调整光束直径、进行滤波或改变照明模式。这些元件通常需要安装在具有光圈的表面或结构上，以允许特定部分的光通过。虽然对比文件没有明确描述一个位于“阵列与目标场景之间”的单一表面及其光圈用于将光传递到每个反射面，但其教导了在光学系统的适当位置（特别是光瞳共轭面）设置孔径光阑或滤波元件是常见做法。本领域技术人员可以合理推断，为了实现光路控制或滤波，在光路中引入带光圈的表面是可行的。因此，技术特征G被对比文件隐含公开。 |
| 技术特征H：处理器。<br>**未被公开** | 未找到对应内容。 | 对比文件描述的是一个纯粹的光学机械照明系统，用于微光刻。全文未提及任何电子“处理器”。其功能通过光学元件的物理排列和特性实现，不涉及数字图像处理或控制。因此，技术特征H未被公开。 |
| 技术特征I：以及存储器，其存储指令，所述指令配置所述处理器以至少部分地基于包含所述目标场景的所述多个部分中的每一者的所述图像数据，产生所述目标场景的所述图像。<br>**未被公开** | 未找到对应内容。 | 如前述，对比文件不包含处理器，因此自然也谈不上存储指令配置处理器进行图像数据处理的存储器。该特征涉及数字图像的后处理与合成，与对比文件的光学照明领域无关。因此，技术特征I未被公开。 |
| 技术特征J：其中所述多个相机中的每一者的所述图像传感器位于共用平面内。<br>**未被公开** | 未找到对应内容。 | 对比文件未公开图像传感器，因此更不可能公开关于图像传感器空间排列（位于共用平面内）的特征。因此，技术特征J未被公开。 |
## 直接公开判断 ##
技术特征C被对比文件直接公开。
## 隐含公开判断 ##
技术特征D、E、G被对比文件隐含公开。
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