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对比文件列表
1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Q_R_S_U_V_W_k_l+++.docx
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2000-09-05_US6114670A_发明授权_US6114670A Nonlinear feedforward control for ramp following and overshoot minimization_+++A_B_C_D_E_R_f_q+++.docx
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2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time_+++A_B_C_D_E_F_R_q+++.docx
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2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage_+++A_B_C_D_E_F_q_r+++.docx
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2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_C_E_F_I_R_d_h_q_u_v_w+++.docx
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2004-09-02_WO2004074951A_发明申请_WO2004074951A1 METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING A PHYSICAL QUANTITY HAVING A PROGRAMMED VARIATION WITH A FEED-FORWARD CONTROL_+++A_B_C_E_F_I_Q_R_U_W_d_v+++.docx
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2004-11-24_EP1480093A_发明公开_EP1480093A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby_+++R_a_b_c_d_e_f+++.docx
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2004-12-02_US2004238758A_发明申请_US20040238758A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_D_E_F_R_c_q+++.docx
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2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods_+++A_B_C_D_F_e_q_r+++.docx
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2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus_+++A_D_E_F_b_c_q_r+++.docx
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2005-10-20_US2005231706A_发明申请_US20050231706A1 Feedforward control with reduced learning time for lithographic system to improve throughput and accuracy_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_K_L_Q_R+++.docx
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2005-11-17_JP2005322720A_发明专利_JP2005322720A Stage controlling apparatus and method therefor, exposure apparatus and method therefor, and device manufacturing method_+++A_B_C_D_E_F_I_J_K_L_Q_R_u_v_w+++.docx
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2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus_+++A_D_E_F_b_c_q_r+++.docx

对比文件名称:2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus

目标专利名称:1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法 CN101059658B

本次调用的模型名称:GPT-4(基于用户指令未指定,此处为通用推理模型)

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译成中文)公开性论述
技术特征A:从而通过设定点分布轮廓移动一个部件<br>《直接公开》[0057]:“轨迹规划器200接收期望轨迹的描述202,并为台架位置伺服产生设定点,以及为台架驱动电机230和力取消电机240产生相应的力前馈命令。”对比文件明确描述了通过设定点(set points)移动部件(台架),设定点分布轮廓即期望轨迹,部件(台架)按照设定点分布轮廓移动,因此技术特征A被直接公开,且作用相同(均用于控制部件移动)。
技术特征B:所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态<br>《隐含公开》[0065]:“例如,为了内存修复而对半导体元件进行重新定位的任务,轨迹被指定为一系列分段。分段包括一个位置/速度/时间分段和一个巡航速度/距离分段。”对比文件未直接使用“目标状态”一词,但“位置/速度/时间分段”明确指示了部件在特定时间应达到的位置和速度,这相当于多个目标状态。本领域技术人员可合理推断设定点分布轮廓包含多个目标状态,因此隐含公开。
技术特征C:每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的<br>《隐含公开》[0065]同上,分段定义中“位置/速度/时间”隐含着每个目标状态(位置、速度)对应特定的时间点。对比文件未明确表述“每个目标状态在对应目标时间获得”,但轨迹规划器生成的设定点序列必然带有时间标记,本领域技术人员能够理解每个设定点对应一个目标时间,因此隐含公开。
技术特征D:所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件<br>《直接公开》[0057]:轨迹规划器产生力前馈命令;[0063]:“参数估计器220……导出改进的估计206,用于轨迹规划器200。”对比文件公开了使用前馈命令(即第一组前馈数据)通过前馈控制系统移动部件,与目标专利中“使用第一组前馈数据移动部件”作用相同,都是基于设定点轮廓提供前馈控制,因此直接公开。
技术特征E:在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态<br>《直接公开》[0061]:“数字控制器通过四个通道的位置传感器232(编码器或干涉仪)从台架驱动系统230接收台架位置反馈234。”对比文件明确公开了在移动期间通过位置传感器测量部件(台架)的状态(位置),且测量是持续或离散时间进行,因此直接公开。
技术特征F:比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态,以获得一组误差<br>《直接公开》[0083]:“控制律310接收一个三自由度位置误差信号和来自电机的附加状态信息,并产生三个力命令,这些力命令旨在将跟踪误差驱动为零。”对比文件公开了使用位置误差信号(即比较测量状态与目标状态得到的误差),控制律基于该误差工作,因此直接公开。
技术特征G:用非线性滤波器滤波所述这组误差<br>未公开无对比文件未提及任何非线性滤波器,控制律采用线性或常规反馈,未公开对误差进行非线性滤波。
技术特征H:根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据<br>未公开无对比文件未公开根据滤波误差产生改进的前馈数据;参数估计器改进的是模型参数而非前馈数据本身。
技术特征I:所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件<br>未公开无对比文件未公开改进前馈数据用于更准确移动,因为其前馈数据是基于模型而非迭代学习改进。
技术特征J:所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)<br>未公开无对比文件未公开迭代学习过程,没有重复移动并更新前馈数据的步骤。
技术特征K:直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止<br>未公开无对比文件未公开基于误差阈值条件停止迭代。
技术特征L:输出满足阈值条件的改进的前馈数据<br>未公开无对比文件未公开输出改进前馈数据。
技术特征M:其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度<br>未公开无对比文件未公开任何幅度依赖的滤波。
技术特征N:其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量<br>未公开无对比文件未公开此类滤波特性。
技术特征O:其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带<br>未公开无对比文件未公开频带分解滤波。
技术特征P:对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作<br>未公开无对比文件未公开对每个频带单独滤波。
技术特征Q:其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组<br>《隐含公开》[0061]:测量位置反馈;[0065]:轨迹分段包含时间参数。对比文件未明确说明测量时间与目标时间对应,但数字控制器通常以固定采样率运行,采样时刻可设定为与目标时间一致或取其子集,本领域技术人员可合理推断,因此隐含公开。
技术特征R:其中所述目标状态包括以下所述的至少一个:所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度<br>《隐含公开》[0065]:位置/速度/时间分段;[0070]:“线性变化摆线加速度轮廓:A(t)=(sin(π*t/T)*(ko+kl*t)”,其中A为加速度轮廓。对比文件明确提及目标位置、目标速度(分段定义)以及目标加速度(加速度轮廓),因此隐含公开目标状态包括位置、速度、加速度。
技术特征S:其中对于所述滤波器进行配置<br>未公开无对比文件无滤波器,故无配置。
技术特征T:使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分<br>未公开无对比文件无此类噪声带滤波。
技术特征U:其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示<br>未公开无对比文件未公开误差以特定数组形式表示。
技术特征V:其中0≤i≤n<br>未公开无对比文件未公开。
技术特征W:n是组中的采样数<br>未公开无对比文件未公开。
技术特征X:所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示<br>未公开无对比文件未公开。
技术特征Y:步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积<br>未公开无对比文件未公开。
技术特征Z:其中所述的Φ(ey(i))的定义如下:<br>Φ(e_y(i)) = diag(φ(e_y(0)), ..., φ(e_y(n)))<br>φ(e_y(i)) = 1 - att(e_y(i))<br>att(e_y(i)) = max(0, 1 - (e_y(i)-δ)^2/e_y(i)^2)<br>其中δ为所述滤波器的上噪声带<br>未公开无对比文件未公开任何形式的滤波器矩阵定义或死区非线性函数。

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