对比文件名称：2002-12-11_EP1265106A_发明公开_EP1265106A2 Lithographic apparatus and device manufacturing method
目标专利名称：1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B
本次调用的模型名称：大型语言模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：从而通过设定点分布轮廓移动一个部件<br>**《直接公开》** | [0023] 原文：“The mask table receives a setpoint SPR which is four times the setpoint SPW of the substrate table.” 翻译：“掩模台接收设定点SPR，该设定点是衬底台设定点SPW的四倍。”<br>[0011] 原文：“first driving means, for moving the support structure in a given reference direction … second driving means, for moving the substrate table parallel to the reference direction so as to be synchronous with the motion of the support structure.” 翻译：“第一驱动装置，用于在给定参考方向上移动支撑结构……第二驱动装置，用于平行于参考方向移动衬底台，以便与支撑结构的运动同步。” | 对比文件明确公开了通过设定点（setpoint）分布轮廓移动掩模台和衬底台这两个部件，本领域技术人员能够毫无疑义地确定该技术方案与目标专利特征A相同，均涉及通过设定点分布轮廓移动部件。 |
| **技术特征B**：所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态<br>**《直接公开》** | [0023] 原文：“The mask table receives a setpoint SPR … the substrate table receives setpoint SPW.” 翻译：“掩模台接收设定点SPR……衬底台接收设定点SPW。”<br>本领域公知，设定点分布轮廓是由不同时间点的目标状态（如目标位置）组成的序列。 | 对比文件公开的设定点SPR和SPW是随时间变化的轨迹，必然包含多个目标状态（如目标位置），因此本领域技术人员可以直接得出该特征。 |
| **技术特征C**：每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的<br>**《直接公开》** | [0023] 同上，设定点随时间变化。<br>[0025] 原文：“Assume that the substrate table position error eWS consists of sinusoids …” 该段描述了对误差信号的采样与预测，隐含了目标状态与时间点的对应关系。 | 对比文件中的设定点分布轮廓隐含了每个目标状态对应一个特定的目标时间（例如采样时刻），本领域技术人员可以直接理解此对应关系。 |
| **技术特征D**：按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件<br>**《不公开》** | [0024] 原文：“predictor output … is added to the mask table setpoint SPR … an extra force is generated which, when applied to the mask stage, should give it four times the acceleration of the WS.” 翻译：“预测器输出……被加到掩模台设定点SPR……产生一个额外的力，当施加到掩模台时，应使其具有四倍于WS的加速度。” | 对比文件虽然使用了前馈控制系统（通过预测器输出产生前馈力），但并未明确使用“第一组前馈数据”，且其前馈数据是通过实时预测动态生成，而非预先存储的一组数据，因此本领域技术人员不能毫无疑义地得出该特征。 |
| **技术特征E**：在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态<br>**《直接公开》** | [0011] 原文：“first measuring means, for determining the momentary position of the patterning means with respect to a fixed reference point; second measuring means, for determining the momentary position of the substrate table with respect to a fixed reference point.” 翻译：“第一测量装置，用于确定图形制造装置相对于固定参考点的瞬时位置；第二测量装置，用于确定衬底台相对于固定参考点的瞬时位置。” | 对比文件明确公开了在移动期间测量部件（掩模台和衬底台）的瞬时位置，即测量了部件的状态，本领域技术人员可以直接得出该特征。 |
| **技术特征F**：比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态，以获得一组误差<br>**《直接公开》** | [0011] 原文：“means for comparing the measured momentary position of the substrate table with a desired momentary position of the substrate table, for generating a position error signal in accordance with a difference between the said two positions.” 翻译：“用于比较衬底台测量的瞬时位置与期望的瞬时位置的装置，用于根据所述两个位置之间的差异产生位置误差信号。” | 对比文件直接公开了将测量位置与期望位置（即目标状态）进行比较，生成位置误差信号（一组误差），本领域技术人员可以直接得出该特征。 |
| **技术特征G**：用非线性滤波器滤波所述这组误差<br>**《不公开》** | 对比文件全文未提及任何非线性滤波器，其使用的预测器由线性FIR滤波器实现。 | 对比文件仅使用线性滤波器（如FIR滤波器）进行预测，没有公开任何非线性滤波器，本领域技术人员无法从对比文件得出该特征。 |
| **技术特征H**：根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据<br>**《不公开》** | 对比文件虽然根据预测的误差（经过线性滤波）产生前馈力，但目标专利特征H中的“经过滤波的误差”特指经非线性滤波器滤波后的误差，且对比文件未产生“改进的前馈数据”的概念（无迭代改进）。 | 对比文件的前馈数据基于线性滤波的误差，且非迭代改进，本领域技术人员不能直接得出该特征。 |
| **技术特征I**：所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件<br>**《直接公开》** | [0012] 原文：“With the present invention, the drawbacks of the prior art are avoided and an improvement of 30 to 50% in the high-frequency synchronization error between the substrate and mask tables can be achieved.” 翻译：“利用本发明，避免了现有技术的缺点，并且可以实现衬底台和掩模台之间高频同步误差30%至50%的改进。” | 对比文件明确公开了前馈控制（预测器输出）用于提高同步准确性，即更加准确地移动部件，本领域技术人员可以直接得出该特征。 |
| **技术特征J**：使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)<br>**《不公开》** | 对比文件未涉及任何迭代学习过程，无重复移动、测量、比较、滤波、产生前馈数据的迭代步骤。 | 对比文件仅使用一次前馈（预测），未公开迭代方式，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征K**：直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止<br>**《不公开》** | 对比文件未公开任何阈值条件或迭代终止判断。 | 对比文件无迭代过程，因此无阈值条件，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征L**：输出满足阈值条件的改进的前馈数据<br>**《不公开》** | 对比文件未公开阈值条件或输出改进的前馈数据。 | 对比文件无迭代，无阈值，无相应输出，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征M**：其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度<br>**《不公开》** | 对比文件使用的滤波器（预测器）是线性滤波器，不依赖于误差幅度。 | 对比文件未公开任何幅度依赖的滤波，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征N**：其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量<br>**《不公开》** | 对比文件无此类幅度依赖特性。 | 对比文件未公开抑制小幅度误差的特性，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征O**：其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带<br>**《不公开》** | [0025]-[0030] 描述了基于正弦拟合的预测，但该预测器并非将误差信号分解为多个分立频带后单独滤波，而是通过一个整体FIR滤波器同时处理多个预设频率。 | 对比文件未明确分解误差信号为多个分立频带，本领域技术人员无法直接得出该特征。 |
| **技术特征P**：对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作<br>**《不公开》** | 同上，对比文件未对每个频带单独施加滤波操作。 | 对比文件无单独频带滤波，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征Q**：其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组<br>**《隐含公开》** | [0011] 测量瞬时位置，[0023] 设定点随时间变化，本领域常规做法中测量时间与设定点时间同步或对应。 | 虽然对比文件未明确写明对应关系，但本领域技术人员根据数字控制系统的常规实践，可以合理推断测量位置的时间点与设定点的时间点相对应，因此隐含公开。 |
| **技术特征R**：其中所述目标状态包括以下所述的至少一个：所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度<br>**《直接公开》** | [0023] 设定点SPR和SPW通常表示目标位置轨迹；[0024] 通过“double-differentiated”得到加速度，表明目标状态隐含速度和加速度。 | 对比文件中的设定点分布轮廓至少包括目标位置，本领域技术人员可以直接得出该特征。 |
| **技术特征S**：其中对于所述滤波器进行配置<br>**《不公开》** | 对比文件未公开目标专利中的非线性滤波器，更未公开其配置方式。 | 对比文件无相应滤波器，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征T**：使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分<br>**《不公开》** | 对比文件无此类死区特性。 | 对比文件未公开任何基于幅度阈值的传递特性，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征U**：其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示<br>**《不公开》** | 对比文件仅提及误差信号，未具体表示为数据点阵列。 | 对比文件无相关描述，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征V**：其中0≤i≤n<br>**《不公开》** | 对比文件未公开误差数据点的索引范围。 | 对比文件无相关描述，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征W**：n是组中的采样数<br>**《不公开》** | 对比文件未公开采样数n。 | 对比文件无相关描述，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征X**：所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示<br>**《不公开》** | 对比文件未公开任何滤波器矩阵。 | 对比文件无相关描述，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征Y**：步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积<br>**《不公开》** | 对比文件未公开相应步骤。 | 对比文件无相关描述，本领域技术人员无法得出该特征。 |
| **技术特征Z**：其中所述的Φ(ey(i))的定义如下：……<br>**《不公开》** | 对比文件未公开任何公式形式的滤波器定义。 | 对比文件无相关描述，本领域技术人员无法得出该特征。 |
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