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对比文件列表
2002-06-27_US2002082683A_发明申请_US20020082683A1 Radiopaque markers for implantable prostheses_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M_N_O_P_Q_R_S_T_U+++.docx
2026-07-03 00:57
2013-04-25_JP2013077391A_发明专利_JP2013077391A Negative electrode for lithium ion secondary battery, and lithium ion secondary battery including the negative electrode for lithium ion secondary battery_+++A_B_C_T_U_d+++.docx
2026-07-03 00:57
2013-12-26_US2013344382A_发明申请_US20130344382A1 LI-ION BATTERY POSITIVE PLATE STRUCTURE_+++A_B_C_D_E_F_T_U_i+++.docx
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2014-01-09_JP2014003015A_发明专利_JP2014003015A Pole piece structure of lithium ion battery anode_+++A_B_C_D_E_T_U_i+++.docx
2026-07-03 00:57
2014-05-07_GB2507535A_发明专利_GB2507535A Multilayer electrode for metal ion battery_+++A_B_C_D_E_T_U_i+++.docx
2026-07-03 00:57
2015-01-19_JP2015011959A_发明专利_JP2015011959A リチウムイオン二次電池_+++A_B_C_D_E_F_i+++.docx
2026-07-03 00:57
2015-01-29_JP2015018663A_发明专利_JP2015018663A リチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池_+++A_B_C_E_F+++.docx
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2015-07-27_KR1020150086288A_发明公开_KR1020150086288A 장치 및 장치의 형성 방법_+++A_B_C_D_E_T_U+++.docx
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2015-09-02_CN104885262A_发明公开_CN104885262A 装置和形成装置的方法_+++A_B_C_D_E_T_U+++.docx
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2015-09-09_EP2915204A_发明公开_EP2915204A1 DEVICE AND METHOD OF FORMING A DEVICE_+++A_B_C_D_E_T_U_i+++.docx
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2015-10-01_US2015280221A_发明申请_US20150280221A1 DEVICE AND METHOD OF FORMING A DEVICE_+++A_B_C_D_E_T_U_i+++.docx
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2015-12-24_JP2015537347A_发明专利_JP2015537347A デバイスおよびデバイスの形成方法_+++A_B_C_D_E_I_T_U+++.docx
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2017-07-21_KR1020170084798A_发明公开_KR1020170084798A 비표면적이 큰 음극 활물질층을 포함하는 음극 및 이의 제조방법_+++A_B_C_D_T_U_j+++.docx
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2017-09-25_KR1020170107213A_发明公开_KR1020170107213A 리튬이차전지용 다층전극, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 리튬이차전지_+++A_B_C_D_E_F_T_U_i+++.docx
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2018-01-10_EP2915204B_发明授权_EP2915204B1 MULTILAYERED ELECTRODE AND METHOD OF ITS FORMATION_+++A_B_C_D_E_T_U_i+++.docx
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2018-02-07_JP6277197B_发明专利_JP6277197B2 デバイスおよびデバイスの形成方法_+++A_B_C_D_E_T_U_i+++.docx
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2018-06-26_US10008716B_发明授权_US10008716B2 Device and method of forming a device_+++A_B_C_D_E_T_U_i+++.docx
2026-07-03 00:57
2018-08-09_JP2018125077A_发明专利_JP2018125077A リチウムイオン二次電池用負極_+++A_B_C_E_F_t_u+++.docx
2026-07-03 00:57
2019-06-11_KR1020190065172A_发明公开_KR20190065172A 음극 및 이를 포함하는 이차전지_+++A_B_C_D_E_F_j_r_t_u+++.docx
2026-07-03 00:57
2021-08-02_None_发明专利_JPWO2020021763A1 非水電解質二次電池用負極および非水電解質二次電池_+++A_B_C_I+++.docx
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WO2020021763A1_Description_20260618_2342_+++A_B_C_I_T_U+++.docx
2026-07-03 00:57
2015-12-24_JP2015537347A_发明专利_JP2015537347A デバイスおよびデバイスの形成方法_+++A_B_C_D_E_I_T_U+++.docx

**对比文件名称:** 2015-12-24_JP2015537347A_发明专利_JP2015537347A デバイスおよびデバイスの形成方法

**目标专利名称:** 1515负极和包括所述负极的二次电池 CN114730859B

**本次调用的模型名称:** GPT-4

## 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
**技术特征A:包括负极集电器 (直接公开)**[0099]:“金属离子电池200包括:金属层等的导电阳极集电器层201、……”对比文件明确公开了“导电阳极集电器层”,其功能等同于目标专利的负极集电器,均为电流收集和支撑活性材料层。
**技术特征B:设置在所述负极集电器上的第一负极活性材料层 (直接公开)**[0099]:“……第1复合阳极层203a、第2复合阳极层203b……”;[0079]:“第1的复合电极层形成在导电层上。”对比文件中的第1复合阳极层直接形成在导电阳极集电器层上,相当于目标专利的第一负极活性材料层。
**技术特征C:和设置在所述第一负极活性材料层上的第二负极活性材料层 (直接公开)**[0099]:“……第1复合阳极层203a、第2复合阳极层203b……”;[0080]:“第2的复合电极层形成在第1的复合电极层上。”对比文件中的第2复合阳极层位于第1复合阳极层之上,符合目标专利第二层位于第一层之上的层叠关系。
**技术特征D:其中所述第一负极活性材料层包括第一负极活性材料和第一导电剂;并且中所述第二负极活性材料层包括第二负极活性材料和第二导电剂 (直接公开)**[0100]:“复合阳极层203a、203b分别至少含有粘合剂和一种以上电活性材料的粒子……也可以含有一种以上额外的成分,例如一种以上非活性导电材料,如炭黑。”<br>[0220]:“各复合阳极层可各自独立地含有一种以上粒状非活性导电添加剂,例如碳纤维、碳纳米管、科琴黑、灯黑、乙炔黑、沥青(黑)和石墨烯。”<br>[0237]:“第1复合阳极层……含有石墨、VGCF(导电纤维)、PVDF。”对比文件明确教导每个复合阳极层均可包含导电添加剂(即导电剂),第一层在实施例中使用了VGCF(导电纤维)作为导电剂,第二层可使用碳纳米管等,因此同时公开了各层包含各自活性材料和导电剂。
**技术特征E:其中所述第二负极活性材料包括硅基活性材料 (直接公开)**[0108]:“第2复合层优选包含硅作为主活性成分。”<br>[0107]:“第二复合阳极层的主活性成分是含硅活性材料。”对比文件明确第二复合层使用硅基活性材料作为主活性成分,与目标专利一致。
**技术特征F:所述硅基活性材料包括SiOx(0≤x<2) (未公开)**对比文件中未出现SiOx的记载。[0009]仅引用背景技术中提到硅氧化物,非对比文件自身技术方案;全文中使用的活性硅均为硅单质(如硅颗粒、硅纤维等),未涉及SiOx。对比文件没有公开硅基活性材料为SiOx,且本领域技术人员不能从对比文件直接或唯一地推定出必须使用SiOx,因此该特征未被对比文件直接或隐含公开。
**技术特征G:所述第二导电剂包括其中2至5,000个单壁碳纳米管单元并排结合的碳纳米管结构 (未公开)**[0220]:“……碳纳米管(CNT)……”<br>[0238]:“Cmix包括碳纳米管……”<br>对比文件仅在导电添加剂列表中列出碳纳米管,未描述其微观结构为多个单壁碳纳米管单元并排结合的特定形式,更未给出单元数量范围。对比文件未公开任何有关“碳纳米管结构”(即由2-5000个单壁碳纳米管单元并排结合的束状结构)的内容,本领域技术人员无法从对比文件推导出该特定结构。
**技术特征H:所述碳纳米管结构以0.01重量%至1.0重量%的量被包括在所述第二负极活性材料层中 (未公开)**[0238]:“第2复合阳极层组成:活性硅:PAANa:SFG6:Cmix = 70:14:12:4。Cmix由碳纳米管、VGCF、EC600以5:5:2的比例形成。”<br>碳纳米管占第二层的重量比约为4%×(5/12)≈1.67%,超出1.0%。<br>[0220]:“添加剂以0.25-20%的量存在。”对比文件明确给出的碳纳米管含量范围高于目标专利限定的0.01-1.0%,且未给出可降低至该范围的启示,因此未公开该技术特征。
**技术特征I:所述第一导电剂包括选自由所述碳纳米管结构和多壁碳纳米管单元构成的群组中的至少一种 (直接公开)**[0220]:“……碳纳米管(CNT)……”(碳纳米管通常包括单壁和多壁)<br>[0237]:“第1复合阳极层使用了VGCF(气相生长碳纤维)”,但[0220]允许使用碳纳米管;且对比文件未排除多壁碳纳米管。本领域技术人员熟知碳纳米管包含多壁碳纳米管单元,对比文件在可使用的导电添加剂中列出了碳纳米管,因此公开了多壁碳纳米管单元(或通常的碳纳米管)作为第一导电剂的选项。
**技术特征J:其中所述碳纳米管结构在所述第二负极活性材料层中互连以形成网络结构 (未公开)**对比文件未对碳纳米管在层中的形态进行描述,未提及碳纳米管互连成网络。对比文件没有公开或暗示碳纳米管在第二层中以碳纳米管结构形式互连形成网络,因此该特征未被公开。
**技术特征K:其中在所述碳纳米管结构中 (未公开)**无对应内容。对比文件未定义任何“碳纳米管结构”,因此不涉及该过渡特征的公开。
**技术特征L:所述单壁碳纳米管单元在所述单壁碳纳米管单元的长轴彼此平行布置的状态下结合 (未公开)**无对应内容。对比文件未描述碳纳米管的排列方式,更未提及单壁碳纳米管单元的平行并排结合。
**技术特征M:其中所述碳纳米管结构的平均长度为1μm至500μm (未公开)**无对应内容。对比文件未给出任何关于碳纳米管结构长度的数值范围。
**技术特征N:其中所述碳纳米管结构的平均长度为2μm至50μm (未公开)**无对应内容。同特征M。
**技术特征O:其中所述碳纳米管结构的平均直径为2nm至500nm (未公开)**无对应内容。对比文件未给出任何关于碳纳米管结构直径的数值范围。
**技术特征P:其中所述碳纳米管结构的平均直径为5nm至200nm (未公开)**无对应内容。同特征O。
**技术特征Q:其中在所述碳纳米管结构中 (未公开)**无对应内容。同特征K。
**技术特征R:所述单壁碳纳米管单元的平均直径为0.5nm至10nm (未公开)**无对应内容。对比文件未提及单壁碳纳米管单元的直径范围。
**技术特征S:其中所述碳纳米管结构是其中彼此结合有2至50个单壁碳纳米管单元的碳纳米管结构 (未公开)**无对应内容。对比文件未公开碳纳米管结合的具体单元数量。
**技术特征T:其中所述第一负极活性材料层的厚度为1μm至100μm (直接公开)**[0157]:“第1复合电极层203a的厚度优选在约20μm~40μm的范围内。”对比文件公开的20-40μm完全落入目标专利的1-100μm范围内,因此直接公开该厚度范围。
**技术特征U:其中所述第二负极活性材料层的厚度为1μm至100μm (直接公开)**[0157]:“第2复合电极层203b的厚度优选在5μm~20μm的范围内。”对比文件公开的5-20μm完全落入目标专利的1-100μm范围内,因此直接公开该厚度范围。

## 公开性代码汇总

- 被直接公开的技术特征:A、B、C、D、E、I、T、U

- 未被直接或隐含公开的技术特征:F、G、H、J、K、L、M、N、O、P、Q、R、S(不输出任何代码)

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