**对比文件名称：** 2018-04-12_US2018102678A_发明申请_US20180102678A1 ARMATURE AND ROTATING ELECTRIC MACHINE INCLUDING ARMATURE
**目标专利名称：** 1546马达CN113273054B
**本次调用的模型名称：** DeepSeek
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：其中 **《直接公开》** | 对比文件[0025]：“如图1所示，旋转电机10包括电枢(定子)11、转子13、一对轴承14和旋转轴15，所有这些都容纳在框架(壳体)12中。”（原文：“As shown in FIG. 1, the rotating electric machine 10 includes an armature (or stator) 11, a rotor 13, a pair of bearings 14 and a rotating shaft 15, all of which are received in a frame (or housing) 12.”） | 目标专利的特征A为连接词“其中”，用于引出后续限定；对比文件中“包括”（includes）等词语起到相同作用，均用于技术特征的表述过渡。本领域技术人员可直接确定该词为惯用连接手段，无实质技术区别，故直接公开。 |
| 技术特征B：关于所述轴的轴线 **《直接公开》** | 对比文件[0026]：“框架12通过一对轴承14可旋转地支撑旋转轴15。”（原文：“the frame 12 rotatably supports the rotating shaft 15 via the pair of bearings 14.”） 对比文件[0030]：“电枢铁芯11b为环形，具有多个槽11s，每个槽沿电枢铁芯的轴向方向延伸。”（原文：“the armature core 11b is annular (or hollow cylindrical) in shape and has a plurality of slots 11s formed therein. Each of the slots 11s extends in an axial direction of the armature core 11b.”） | 目标专利的B特征限定“关于所述轴的轴线”，即旋转轴的轴线。对比文件明确记载了旋转轴（rotating shaft）以及其轴向方向（axial direction），同时多处涉及轴线相关的几何关系（如径向、轴向），该特征在对比文件中被直接体现，无任何歧义。 |
| 技术特征C：第一角度(θ1)与第二角度(θ2) **《未公开》** | 对比文件[0058]‑[0061]记载了凹槽的角间距θp=360°/(p×m)，但未提及第一角度θ1和第二角度θ2的概念。（原文：“the plurality of grooves 11c are circumferentially spaced from one another at an angular pitch θp in mechanical angle. θp=360°/(p×m).”） | 目标专利的θ1和θ2是相对于齿端面中心线和轴线连线的角度，而对比文件只给出凹槽之间的角间距θp，未涉及齿中心线定义的角度，也未标示θ1、θ2。本领域技术人员无法从对比文件直接获得或等同得出这两个角度的具体命名与位置关系，故未公开。 |
| 技术特征D：不同 **《未公开》** | 对比文件[0058]仅公开凹槽以相同角间距θp分布，未提及凹槽相对于齿中心的不对称性；从附图4可看出两个凹槽在齿宽方向似乎对称，但未有任何关于“不同”的教导或暗示。 | 目标专利强调θ1与θ2不同以实现不对称凹槽布局，对比文件未公开任何凹槽位置不对称的内容，相反其角间距θp暗示了规则排列，故未公开“不同”。 |
| 技术特征E：所述第一角度(θ1) **《未公开》** | 同特征C，对比文件无θ1的记载。 | 对比文件未出现第一角度θ1的任何定义或数值，无法获得该特征。 |
| 技术特征F：是由将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的虚拟线(L)与形成有所述第一凹槽的一侧的所述齿端表面形成的 **《未公开》** | 对比文件未提及任何虚拟线（L）的概念，也未描述角度由齿端表面中心、轴线与凹槽侧边形成。对比文件仅定义凹槽的角间距θp，但该角间距不以齿中心为参考。 | 目标专利明确界定θ1的几何构成，对比文件不存在对齿端表面中心及虚拟线的任何描述，本领域技术人员无法推导出该特定角度定义。 |
| 技术特征G：所述第二角度(θ2) **《未公开》** | 同特征C，无θ2记载。 | 对比文件未公开第二角度θ2。 |
| 技术特征H：是由所述虚拟线(L)与形成有所述第二凹槽的另一侧的所述齿端表面形成的 **《未公开》** | 对比文件无对应描述。 | 与特征F类似，对比文件未提供虚拟线及以凹槽另一侧为边界的角度定义，故未公开。 |
| 技术特征I：其中 **《直接公开》** | 对比文件[0030]：“其中，每个槽11s沿电枢铁芯11b的轴向方向延伸。”（原文：“Each of the slots 11s extends in an axial direction of the armature core 11b.”）[0032]：“其中，电枢线圈11a以集中缠绕方式绕制在齿上。” | 对比文件多处使用“其中”（where/in which）连接特征描述，与目标专利的“其中”功能一致，直接公开。 |
| 技术特征J：所述第一凹槽和所述第二凹槽 **《直接公开》** | 对比文件[0056]：“在本实施方式中，每个大宽度齿11b3在其远端表面11f上形成有两个凹槽11c。”（原文：“In the present embodiment, each of the large-width teeth 11b3 has two grooves 11c formed in its distal end surface 11f.”） | 目标专利的“第一凹槽和第二凹槽”指齿端面上两个间隔布置的凹槽；对比文件明确公开每个大宽度齿具有两个凹槽（grooves），其结构与功能（改善磁场分布）与目标专利实质相同，故直接公开。 |
| 技术特征K：形成在所述轴的轴向方向上 **《直接公开》** | 对比文件[0056]：“每个凹槽11c沿电枢铁芯11b的轴向方向延伸，以在轴向上贯穿电枢铁芯。”（原文：“Each of the grooves 11c extends in the axial direction of the armature core 11b so as to penetrate the armature core 11b in the axial direction.”） | 该特征要求凹槽在轴的轴向方向形成；对比文件明确凹槽沿轴向延伸，与目标专利一致，直接公开。 |
| 技术特征L：其中 **《直接公开》** | 对比文件[0044]：“其中，电枢铁芯11b具有磁轭11b1、多个窄宽度齿11b2和多个宽宽度齿11b3。”（原文：“the armature core 11b has a back yoke 11b1, a plurality of small-width teeth 11b2 and a plurality of large-width teeth 11b3.”） | 同特征A、I，对比文件的“其中”（having、including等）作为连接词直接公开。 |
| 技术特征M：关于所述轴的轴线 **《直接公开》** | 对比文件[0032]：“齿沿电枢铁芯的周向方向布置，且电枢铁芯具有轴线。”[0030]关于轴向延伸的描述也隐含轴线存在。 | 该特征与B实质相同，对比文件已公开旋转轴及其轴线，故直接公开。 |
| 技术特征N：由所述齿端表面的一侧与形成有所述第二凹槽的一侧的所述齿端表面形成的 **《未公开》** | 对比文件[0058]‑[0061]仅记载凹槽间距，未以齿端表面一侧为边界定义任何角度。 | 目标专利的第四角度θ4由特定边界构成，对比文件既无第四角度也无其构成方式的教导，故未公开。 |
| 技术特征O：第四角度(θ4) **《未公开》** | 对比文件无“第四角度”或其等同表述。 | 目标专利独立定义θ4，对比文件未涉及，未公开。 |
| 技术特征P：是所述第二角度(θ2)的两倍 **《未公开》** | 对比文件未公开θ2，更无θ4与θ2的倍数关系。 | 特征P依赖于θ2的存在，而θ2未公开，故该关系未被对比文件公开或暗示。 |
| 技术特征Q：其中 **《直接公开》** | 对比文件[0062]：“其中，宽度比Wr1是背轭径向宽度W1与小宽度齿周向宽度W2的比值。”（原文：“The width ratio Wr1 is the ratio of the radial width W1 of the back yoke 11b1 to the circumferential width W2 of the small-width teeth 11b2.”） | “其中”为惯用连接词，对比文件广泛使用，直接公开。 |
| 技术特征R：从将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的所述虚拟线(L)到所述第二凹槽的另一侧的第二距离(D2) **《未公开》** | 对比文件[0061]记载了凹槽的径向深度11c1和周向宽度11c2，但未定义齿端表面中心、虚拟线L或到凹槽另一侧的距离D2。 | 目标专利的D2是特定几何距离，对比文件未提供任何类似测量基准或数值，故未公开。 |
| 技术特征S：是所述第二凹槽的深度(D)的1.578倍 **《未公开》** | 对比文件[0061]仅要求凹槽径向深度≥气隙GL，周向宽度≥2GL，未出现任何倍数如1.578倍。 | 该精确倍数关系在对比文件中毫无记载，本领域技术人员无法合理推断，故未公开。 |
| 技术特征T：（空白） **《未公开》** | 无对应内容。 | 该特征无实质技术意义，对比文件不存在相应记载，视为未公开。 |
| 技术特征U：所述第一角度(θ1)与所述第二角度(θ2)之间的差 **《未公开》** | 对比文件未定义θ1和θ2，故无差值的讨论。 | 同特征C、D，对比文件无角度差的概念，未公开。 |
| 技术特征V：在所述第二角度(θ2)的10％以内 **《未公开》** | 对比文件未提供任何角度差的数值范围。 | 对比文件无θ2及其偏差范围，未公开。 |
| 技术特征W：其中 **《直接公开》** | 对比文件[0085]：“其中，电枢11包括多相电枢线圈11a和电枢铁芯11b。电枢铁芯11b包括磁轭11b1、宽宽度齿11b3和窄宽度齿11b2。”（原文：“the armature 11 includes the multi-phase armature coil 11a and the armature core 11b. The armature core 11b includes the back yoke 11b1, the large-width teeth 11b3 and the small-width teeth 11b2.”） | “其中”再次出现，直接公开。 |
| 技术特征X：所述第一凹槽的深度(D)与在周向方向上的宽度(W)的比 **《未公开》** | 对比文件[0061]给出了凹槽深度和宽度分别与气隙的关系，但未给出深度/宽度的比值。 | 目标专利限定了深度与宽度的比值范围，对比文件未提及其比值，本领域技术人员无法直接或隐含得到该比例关系。 |
| 技术特征Y：在0.24至0.29的范围内 **《未公开》** | 对比文件无任何比值范围。 | 该数值范围未在对比文件中出现，也未通过其他参数推导出，故未公开。 |
根据上述比对，对比文件直接公开了技术特征A、B、I、J、K、L、M、Q、W；未公开技术特征C、D、E、F、G、H、N、O、P、R、S、T、U、V、X、Y。
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