对比文件名称：2016-06-02_US2016154532A_发明申请_US20160154532A1 LIGHT GUIDE PANEL INCLUDING DIFFRACTION GRATINGS
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
本次调用的模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| A: 所述制造方法包括（未公开） | 对比文件[0027]-[0028]记载了导光板衍射光栅的制造方法（压印光刻或光刻），但未涉及全息光学元件的制造。 | 对比文件公开的是触控导光板中衍射光栅的制造方法，而目标专利要求的方法包含后续全息光栅记录步骤(b)。对比文件未公开任何全息光栅记录过程，因此特征A（方法整体）未被公开。 |
| B: 通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)（直接公开） | [0028]：“在一些实现中，衍射光栅可以通过加成或减成光刻操作形成。在前者的一些实现中，衍射光栅可以通过掩蔽（例如使用光刻胶）、曝光、显影和蚀刻导光板的暴露区域或在导光板的暴露区域上沉积材料以形成衍射光栅来形成。” | 该内容明确公开了使用光刻胶（光敏树脂）对基底（导光板）进行掩蔽处理，本领域技术人员可直接毫无疑义地得出在基底表面涂覆光敏树脂以形成光敏基底的步骤（a）。光刻胶属于光敏树脂，涂覆步骤是光刻工艺的常规操作，因此特征B被对比文件直接公开。 |
| C: 通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)（未公开） | 对比文件[0028]提及的曝光步骤是采用掩模对光刻胶进行单面图案化曝光，并非用激光同时照射基底的两个表面以干涉记录全息光栅。 | 对比文件中的曝光属于光刻工艺的一部分，用于形成掩模图案，而不是通过双面激光干涉记录全息光栅。对比文件未公开任何全息记录过程，因此特征C未被公开。 |
| D: 其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化（未公开） | 对比文件未记载光敏树脂涂层高度变化。 | 对比文件中光刻胶涂覆通常形成均匀厚度的涂层，没有暗示或公开涂层高度沿某一方向变化。本领域技术人员无法从对比文件得出该特征，因此未公开。 |
| E: 所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上（未公开） | 对比文件未记载全息光栅。 | 对比文件涉及的是表面浮雕衍射光栅，并非记录在光敏树脂涂层中的全息光栅，更没有提及光栅记录在涂层的整个高度上，因此未公开。 |
| F: 所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加（未公开） | 对比文件未记载全息光栅高度变化或涂层高度逐渐增加。 | 对比文件中的衍射光栅高度通常一致，且涂层厚度均匀，无逐渐变化特征。未公开。 |
| G: 所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加（未公开） | 对比文件未记载。 | 同上，未公开。 |
| H: 所述全息光栅具有相同的宽度（未公开） | 对比文件未提及全息光栅宽度。 | 对比文件的衍射光栅可能有相同宽度，但并未明确，且不是全息光栅。未公开。 |
| I: 其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处（未公开） | 对比文件未记载喷涂。 | 对比文件未公开任何喷涂方法，也未暗示。未公开。 |
| J: 喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化（未公开） | 对比文件未记载。 | 未公开。 |
| K: 其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)（未公开） | 对比文件未记载浸入法。 | 对比文件未公开任何浸入涂覆或提拉法。未公开。 |
| L: 和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)（未公开） | 对比文件未记载。 | 未公开。 |
| M: 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离（未公开） | 对比文件未记载。 | 未公开。 |
| N: 其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)（未公开） | 对比文件未记载辅助基底。 | 对比文件未公开在基底与辅助基底之间提供光敏树脂的方法。未公开。 |
| O: 和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)（未公开） | 对比文件未记载。 | 未公开。 |
| P: 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者（未公开） | 对比文件未记载。 | 未公开。 |
| Q: 其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂（未公开） | 对比文件未记载。 | 对比文件未公开任何倾斜涂覆方法。未公开。 |
| R: 将所述光敏树脂干燥（未公开） | 对比文件未记载干燥步骤。 | 对比文件虽在光刻工艺中可能有烘干步骤，但并非用于调整涂层高度，也未公开在倾斜状态下干燥。未公开。 |
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