对比文件名称：2021-07-22_US2021223585A_发明申请_US20210223585A1 Systems and Methods for Manufacturing Waveguide Cells
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
本次调用的模型名称：OpenAI GPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括<br>《直接公开》 | 段落[0006]：“一个实施例包括一种制造波导单元的方法，所述方法包括提供第一基底，确定预定义光栅特性，以及使用至少一个沉积头将光记录材料层沉积到所述第一基底上。” | 对比文件明确公开了制造波导单元的方法，包括多个步骤，与目标专利的制造方法在主题上一致，本领域技术人员可以直接得出该方法包括相关步骤。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)<br>《直接公开》 | 段落[0052]：“在许多实施例中，波导单元可以通过用光记录材料涂覆第一基底来构建，所述光记录材料能够用作光记录介质。” | 对比文件直接公开了用光记录材料（相当于光敏树脂）涂覆基底的一个表面以形成光敏基底，与目标专利的步骤(a)实质相同。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)<br>《未公开》 | 段落[0004]：“全息光学元件，例如体相位光栅，可以通过用两个相互相干的激光束照射材料来记录在这种液体混合物中。”<br>段落[0061]：“SBG中的光栅结构可以通过使用具有空间周期性强度调制的干涉曝光在HPDLC材料薄膜中记录。” | 对比文件仅公开了用两束相干激光照射记录介质，但未明确照射方向，更没有公开从光敏基底的“一个表面”和“另一个表面”（即两侧）分别照射。本领域技术人员无法毫无疑义地得出必须从两侧照射，也无法合理推断出该特定方式，因此未公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化<br>《直接公开》 | 段落[0055]：“在其他实施例中，波导单元具有锥形轮廓。锥形波导单元可以通过在光记录材料中分散不同尺寸的珠子来构建。……通过以递增尺寸的图案在整个材料层中散布珠子，当材料被夹在两个基板之间时，可以形成锥形光记录材料层。” | 对比文件明确公开了通过使用不同尺寸的珠子使光记录材料层（相当于光敏树脂涂层）的厚度沿一个方向逐渐变化（锥形），即高度沿预定方向变化。该特征与目标专利的涂覆方式不同但作用相同（获得变化的高度），属于直接公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上<br>《隐含公开》 | 段落[0060]：“体布拉格光栅可以表征为具有周期性折射率变化的透明介质。”<br>段落[0061]：“在记录过程中，单体聚合，混合物发生相分离……交替的富液晶区和贫液晶区形成光栅的条纹平面。” | 对比文件描述了体光栅的结构和记录过程，体光栅通常形成于整个记录层厚度内，但未明确记载“整个高度”。本领域技术人员根据体光栅的基本原理可以合理推断光栅记录在涂层的整个高度上，因此隐含公开。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《直接公开》 | 段落[0055]（同上）：“锥形波导单元……可以形成锥形光记录材料层。”<br>段落[0061]：“全息光栅记录在材料层中。” | 对比文件直接公开了涂层高度沿预定方向逐渐增加（锥形层），由于光栅记录在该层内，光栅的高度必然随涂层高度变化而变化，即光栅高度也沿该方向变化。本领域技术人员可以直接得出该结论。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《直接公开》 | 同特征F的引用。 | 基于特征F的论述，涂层高度逐渐增加导致光栅高度也逐渐增加，对比文件隐含了该直接结果，但锥形层的直接公开使得光栅高度逐渐增加成为必然，因此属于直接公开。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度<br>《隐含公开》 | 段落[0061]：“使用干涉曝光记录，光栅条纹间距由干涉角决定。” | 对比文件未直接提及光栅宽度（周期）的均匀性，但干涉曝光通常产生均匀的条纹间距，且对比文件没有指示改变宽度。本领域技术人员可以合理推断在均匀曝光条件下光栅宽度相同，因此隐含公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处<br>《直接公开》 | 段落[0052]：“光学记录材料可以通过喷墨、旋涂和/或喷涂工艺沉积到第一基底上。”<br>段落[0104]：“沉积工作单元可包括用于将材料沉积到基底上的喷涂机构，例如喷涂喷嘴。” | 对比文件多次提及使用喷涂工艺（包括喷墨打印和喷雾）将光记录材料沉积到基底上，多个位置处可以通过移动喷头实现，因此直接公开了喷涂至多个位置。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化<br>《直接公开》 | 段落[0119]：“沉积头包括用于控制混合物的温度、稀释和相对浓度的混合物控制器，以及用于控制喷雾角度、发散角度和喷雾开启/关闭持续时间的喷雾控制器。”通过控制这些参数可以改变每单位面积的沉积量。 | 对比文件公开了通过控制喷雾特性（如持续时间、角度等）来调节沉积层的局部特性，包括厚度。为了实现特征D的厚度变化，必然需要根据位置改变喷涂量。控制器的存在使得该特征直接实现，因此直接公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a-1)<br>《未公开》 | 未发现相关记载。对比文件提及的沉积方法包括喷墨、旋涂、喷涂，但未提及浸涂（dip coating）工艺。 | 对比文件没有公开浸涂步骤，本领域技术人员也不能合理推断出该特征，因此未公开。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a-2)<br>《未公开》 | 同特征K，无对应内容。 | 特征K未公开，该从属特征自然也未被公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离<br>《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开浸涂及变速分离，因此未公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a-1)<br>《未公开》 | 段落[0052]描述了将光记录材料夹在两个基底之间，但这是在沉积之后放置第二基底，并非在涂覆过程中使用辅助基底。 | 目标专利中的辅助基底是在涂覆过程中用于控制树脂厚度的构件，而对比文件没有公开在涂覆时使用辅助基底。该特征未被公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a-2)<br>《未公开》 | 无相关内容。 | 基于N未公开，该特征也未公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者<br>《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开辅助基底及其移动速度控制，因此未公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂<br>《未公开》 | 未发现相关记载。对比文件提到基底可以是弯曲的，但未提及倾斜涂覆。 | 对比文件没有公开基底倾斜状态下的涂覆方式，因此未公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥<br>《未公开》 | 段落[0100]提到在清洁流程中干燥基底，但并非针对光敏树脂涂层。 | 对比文件未公开在涂覆光敏树脂后进行干燥步骤，更没有公开在倾斜状态下的干燥，因此未公开。 |
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