对比文件的名称：1999-06-21_JP2907137B_发明专利_JP2907137B2 Liquid crystal display device
目标专利的名称：1585基板CN110770646B
本次调用的模型名称：Advanced AI language model
| 技术特征及公开性判断 | 对比文件原文引用（译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括基础层《直接公开》 | [0036]“透明ガラス基板”（透明玻璃基板） | 对比文件公开了透明玻璃基板作为基础层，与目标专利的“基础层”作用相同，均为支撑间隔物等结构。本领域技术人员可毫无疑义地确定该特征，因此直接公开。 |
| 技术特征B：和设置在所述基础层上的复数个间隔物《直接公开》 | [0026]“遮光膜上にカラーフィルタ形成材料で円柱状の突起物を形成し、これをスペーサとする。”以及[0047]“スペーサの形状を図７に示すような半球体とした” | 对比文件明确在基板（基础层）上形成多个柱状或半球状突起作为间隔物，数量为多个，作用在于保持基板间隙。直接公开。 |
| 技术特征C：其中每个间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物《直接公开》 | [0047]“スペーサの形状を図７に示すような半球体とした” | 对比文件第四实施方式将间隔物形状设为半球体，半球体的顶部为半球形部分，即间隔物的顶部具有半球形。直接公开。 |
| 技术特征D：其中所述半球形部分为所述间隔物的包含弯曲形状的部分《直接公开》 | [0047]同上 | 半球体必然包含弯曲形状，对比文件的半球体间隔物整体为弯曲的半球形，顶部即为弯曲部分。因此直接公开。 |
| 技术特征E：其中所述弯曲形状的截面具有最大曲率为150mm⁻¹或更小的轨迹《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未提及半球形部分截面的曲率数值，也未给出任何曲率范围或相关教导。本领域技术人员无法从对比文件直接或合理推断出最大曲率≤150mm⁻¹。未公开。 |
| 技术特征F：其中所述间隔物中的每个间隔物为包括所述半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件虽公开了圆柱状间隔物和半球状间隔物，但圆柱状间隔物顶部平坦无半球形部分，半球状间隔物则无柱状下部。未公开柱状体与半球形顶部的组合结构。未公开。 |
| 技术特征G：其中所述半球形部分的高度在5μm至20μm的范围内；并且相对于所述基础层的总面积，被所述间隔物占据的面积比率为20％或更小《未公开》 | [0034]“突起部は３．６μｍとなる…パネルギャップｄは４．４μｍである” | 对比文件中间隔物（包括半球体实例）的突起高度约为3.6μm，总单元间隙为4.4μm，远小于5μm，且未公开间隔物面积比率的具体数值或范围。因此未公开。 |
| 技术特征H：其中，所述复数个间隔物的标准间距为P，当在所述基础层的表面上任选地选择具有10P作为一条边长度的两个或更多个正方形区域时，存在于每个正方形区域中的间隔物的数量的标准偏差为2或更小《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未涉及任何关于间隔物间距的标准偏差统计或相关分布要求。未公开。 |
| 技术特征I：其中所述复数个间隔物布置为使得相邻间隔物之间的间距的分布由间隔正态分布图表示《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开间隔物间距的分布图或正态分布特征。未公开。 |
| 技术特征J：其中，在所述间隔正态分布图中，相邻间隔物之间的间距表示在所述间隔正态分布图的X轴上并且具有给定间距的相邻间隔物的比率表示在所述间隔正态分布图的Y轴上《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开任何关于正态分布图的定义或应用。未公开。 |
| 技术特征K：其中具有给定间距的相邻间隔物的比率的总和为1；并且所述复数个间隔物设置成使得所述间隔正态分布图的半高宽为0.5μm至1,000μm以及所述间隔正态分布图的最大高度小于1《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开半高宽、最大高度等参数。未公开。 |
| 技术特征L：其中所述轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件的半球体间隔物截面轨迹为弧形，无曲率为0的平坦部分；圆柱状间隔物虽有平坦顶部，但非半球形间隔物。因此未公开。 |
| 技术特征M：其中所述半球形部分的宽度在2μm至40μm的范围内《隐含公开》 | [0034]“スペーサは円柱であり、その直径は…約１０μｍである” | 对比文件虽未直接给出半球体宽度，但圆柱间隔物直径约10μm，落在2‑40μm内；半球体间隔物在同类应用中尺寸通常相近，本领域技术人员可合理推断其宽度也在该范围。因此隐含公开。 |
| 技术特征N：其中在所述间隔物的底部形成其中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状的渐缩部分《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开间隔物底部的渐缩形状或相关曲面特征。未公开。 |
| 技术特征O：其中配向膜形成在所述基础层和所述间隔物上；并且形成在所述间隔物上的所述配向膜的顶部具有半球形《隐含公开》 | [0038]“カラーフィルタを形成したガラス基板に配向膜を形成し”以及[0047]半球体间隔物 | 对比文件在基板和间隔物上形成配向膜（配向膜），间隔物为半球体，则配向膜覆盖后其顶部自然呈现半球形。本领域技术人员结合常识可合理推出该特征。因此隐含公开。 |
| 技术特征P：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的截面轨迹的最大曲率为2,000mm⁻¹或更小《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开配向膜半球形部分的曲率值或范围。未公开。 |
| 技术特征Q：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的所述截面轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开配向膜截面轨迹包含平坦部分。未公开。 |
| 技术特征R：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的高度在1μm至50μm的范围内《隐含公开》 | [0034]“パネルギャップｄは４．４μｍである” | 对比文件中间隔物高度约4.4μm，配向膜覆盖后总高度略增，仍落在1‑50μm内；本领域技术人员可推断配向膜高度在此范围。隐含公开。 |
| 技术特征S：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的宽度在1μm至80μm的范围内《隐含公开》 | [0034]“直径は…約１０μｍ” | 对比文件中间隔物宽度约10μm，配向膜覆盖后宽度略大，仍落在1‑80μm内；可合理推断。隐含公开。 |
| 技术特征T：当任选地选择所述复数个间隔物中的三个、四个或六个间隔物时《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未涉及间隔物选择方式或形成闭合图形的概念。未公开。 |
| 技术特征U：条件是当选择选定的间隔物以形成作为闭合图形的三角形、四边形或六边形时《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开间隔物排列形成特定闭合图形的条件。未公开。 |
| 技术特征V：在所述闭合图形中不存在其他间隔物《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开闭合图形内无其他间隔物的限制。未公开。 |
| 技术特征W：所述间隔物设置成使得所述三角形、所述四边形或所述六边形中的边的长度中的至少一者不同《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开间隔物间距的不同边长要求。未公开。 |
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