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对比文件列表
2008-07-03_JP2008151773A_发明专利_JP2008151773A Method of mixture in microchannel_+++W_m_s+++.docx
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2009-09-03_WO2009106507A_发明申请_WO2009106507A2 GRAPHITE NANOPLATELETS AND COMPOSITIONS_+++I_N_O_Q_S_T_W_j_k_l_m_p_r_u_v+++.docx
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2010-01-01_TW201000398A_发明专利_TW201000398A 石墨奈米小板及組成物 GRAPHITE NANOPLATELETS AND COMPOSITIONS_+++I_N_O_Q_S_T_W_j_k+++.docx
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2010-02-04_US2010028681A_发明申请_US20100028681A1 Pristine and Functionalized Graphene Materials_+++W_o_q_s+++.docx
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2010-06-17_US2010147188A_发明申请_US20100147188A1 Graphite nanoplatelets and compositions_+++I_N_O_Q_S_T_W+++.docx
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2010-11-03_KR1020100117684A_发明公开_KR1020100117684A 흑연 나노판 및 조성물_+++I_N_O_Q_S_T_W_a_b_c_d_e_f_g_h_j_k_r_x_y_z+++.docx
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2010-12-22_EP2262727A_发明公开_EP2262727A2 GRAPHITE NANOPLATELETS AND COMPOSITIONS_+++I_N_O_Q_S_T_W+++.docx
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2011-04-28_JP2011513167A_发明专利_JP2011513167A Nanoplatelets and composition of graphite_+++I_J_K_N_O_S_T_W_q+++.docx
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2013-01-14_KR1020130004638A_发明公开_KR1020130004638A 그래핀, 흑연 나노 플레이트의 혼합 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++B_I_L_M_N_O_R_S_T_W_X_c+++.docx
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2013-06-18_KR101274441B_发明授权_KR101274441B1 그래핀, 흑연 나노 플레이트의 혼합 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++B_I_L_M_N_O_R_S_T_W_X_c+++.docx
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2013-07-22_KR1020130083128A_发明公开_KR1020130083128A 그래핀 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++E_H_I_L_M_N_O_R_S_T_W_a_f+++.docx
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2014-04-10_WO2014053510A_发明申请_WO2014053510A1 GRAPHEN-HALTIGE SUSPENSION, VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG, GRAPHENPLÄTTCHEN UND VERWENDUNG_+++B_C_L_N_O_S_T_W_y_z+++.docx
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2014-04-30_CN102015529B_发明授权_CN102015529B 纳米石墨片和组合物_+++I_N_O_Q_S_T_W+++.docx
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2008-07-03_JP2008151773A_发明专利_JP2008151773A Method of mixture in microchannel_+++W_m_s+++.docx

对比文件名称:2008-07-03_JP2008151773A_发明专利_JP2008151773A Method of mixture in microchannel

目标专利名称:1628利用高速均质化预处理和高压均质化制备石墨烯的方法CN107108226B

本次调用的模型名称:未指定

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用公开性论述
技术特征A:未公开对比文件[2]:“本発明は、マイクロ流路内で、少なくとも2つの被混合物質を混合するマイクロ流路内混合方法に関する。”(本发明涉及一种在微流路内混合至少两种被混合物质的微流路内混合方法。)对比文件涉及微流路内混合方法,完全不涉及石墨烯制备,未公开含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化的步骤。
技术特征B:未公开对比文件[2]:全文未出现“高压均质器”或类似设备。对比文件未公开使进料溶液通过高压均质器的步骤。
技术特征C:未公开对比文件[2]:描述了具有入口(ポート)、出口(ポート)和微流路(マイクロ流路)的微流控芯片,但未提及“高压均质器”。对比文件虽然公开了入口、出口和微米级微通道,但该装置是微流控芯片而非高压均质器,且未涉及高压操作,因此不能毫无疑义地得出高压均质器的结构。
技术特征D:未公开对比文件[2]:全文未提及高速均质化或搅拌转速。对比文件未公开以3000-8000rpm搅拌分散液的高速均质化条件。
技术特征E:未公开对比文件[2]:全文未提及均质化时间。对比文件未公开高速均质化进行0.5-3小时的时间范围。
技术特征F:未公开对比文件[2]:全文未提及高速均质器。对比文件未公开使用高速均质器进行搅拌的步骤。
技术特征G:未公开对比文件[2]:全文未提及转子和定子结构以及剪切速率。对比文件未公开高速均质器转子和定子间剪切速率>10⁴秒⁻¹的条件。
技术特征H:未公开对比文件[2]:全文未涉及膨胀石墨和分散剂的重量比。对比文件未公开膨胀石墨与分散剂重量比2.5-20的范围。
技术特征I:未公开对比文件[2]:全文未涉及膨胀石墨浓度。对比文件未公开膨胀石墨在分散液中浓度0.5-5重量%的条件。
技术特征J:未公开对比文件[2]:全文未涉及振实密度。对比文件未公开膨胀石墨振实密度0.01-0.5g/cm³的参数。
技术特征K:未公开对比文件[2]:全文未涉及BET表面积。对比文件未公开膨胀石墨BET表面积5-50m²/g的参数。
技术特征L:未公开对比文件[2]:全文未涉及芘类低分子量衍生物。对比文件未公开芘类低分子量衍生物作为分散剂。
技术特征M:隐含公开对比文件[2]:“ヒドロキシプロピルセルロース(日本曹達社製)を2.5%(Weight / Volume)となるように10mM Trisバッファーで溶解したもの”(将羟丙基纤维素(日本曹达公司制造)配制成2.5%重量/体积的10mM Tris缓冲溶液)。对比文件明确公开了羟丙基纤维素(纤维素聚合物),虽然其在此作为热溶解性结合剂而非分散剂,但该化学物质本身已被记载。在非常宽松的隐含公开标准下,本领域技术人员有可能将该物质用作石墨烯制备中的分散剂,因此技术特征M被隐含公开。
技术特征N:未公开对比文件[2]:全文未涉及阳离子表面活性剂。对比文件未公开阳离子表面活性剂作为分散剂。
技术特征O:未公开对比文件[2]:全文未涉及阴离子表面活性剂。对比文件未公开阴离子表面活性剂作为分散剂。
技术特征P:未公开对比文件[2]:全文未涉及正十二烷基b-D-麦芽糖苷。对比文件未公开正十二烷基b-D-麦芽糖苷作为分散剂。
技术特征Q:未公开对比文件[2]:全文未涉及两性表面活性剂。对比文件未公开两性表面活性剂作为分散剂。
技术特征R:未公开对比文件[2]:全文未涉及聚乙烯吡咯烷酮类聚合物。对比文件未公开聚乙烯吡咯烷酮类聚合物作为分散剂。
技术特征S:隐含公开对比文件[2]:“0.2%Tween20水溶液{10%Tween20(和光純薬社製)を滅菌水で50倍希釈}”(0.2%Tween20水溶液(将10%Tween20(和光纯药制造)用灭菌水稀释50倍))。对比文件明确公开了Tween20(聚氧乙烯山梨醇酯),属于聚氧化乙烯类聚合物。虽然其用作表面活性剂而非专门作为分散剂,但该物质已被记载。在非常宽松的隐含公开标准下,本领域技术人员有可能将其用作石墨烯制备中的分散剂,因此技术特征S被隐含公开。
技术特征T:未公开对比文件[2]:全文未涉及环氧乙烷-环氧丙烷共聚物。对比文件未公开环氧乙烷-环氧丙烷共聚物作为分散剂。
技术特征U:未公开对比文件[2]:全文未涉及丹宁酸。对比文件未公开丹宁酸作为分散剂。
技术特征V:未公开对比文件[2]:全文未涉及多环芳烃氧化物的混合物。对比文件未公开含有60重量%以上分子量300-1000的多环芳烃氧化物的混合物作为分散剂。
技术特征W:直接公开对比文件[2]多处使用“滅菌水”(灭菌水)及“0.2%Tween20水溶液”等,明确记载了水作为溶剂。对比文件直接公开了水作为溶剂,而本特征溶剂列表包含水。本领域技术人员能毫无疑义地从对比文件得出水可以作为分散液的溶剂,因此技术特征W被直接公开。
技术特征X:未公开对比文件[2]:全文未涉及膨胀石墨、剥离或石墨烯。对比文件未公开进料溶液中膨胀石墨在施加剪切力下通过微通道被剥离以制备石墨烯的过程。
技术特征Y:未公开对比文件[2]:仅提及“マイクロ流路”,未给出具体直径数值。对比文件未公开微通道直径50-300μm的具体范围。
技术特征Z:未公开对比文件[2]:全文未涉及高压(500-3000巴)条件。对比文件未公开进料溶液在500-3000巴压力下引入高压均质器入口并通过微通道的条件。

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