1994-10-11_None_发明专利_JPH06287608A Production of metallic porous material_+++B_C_D_E_F_I_N_O_k+++.docx

对比文件的名称:1994-10-11_None_发明专利_JPH06287608A Production of metallic porous material

目标专利的名称:1629制造金属泡沫的方法CN108883470B

本次调用的模型名称:GPT-4

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
技术特征A:包括对包含金属组分和盐的生坯结构进行烧结的步骤,所述金属组分包含相对磁导率为90或更大的导电金属。 **《未公开》**对比文件[0008]记载:“将合成树脂发泡体片材浸渍在由Ni微粉末和高分子粘合剂构成的浆料中”;[0010]记载:“通过使片材通过高频线圈在短时间内进行烧结”。生坯结构中不含盐,仅含Ni粉末和有机树脂。对比文件公开了烧结步骤,并使用了相对磁导率远大于90的镍作为导电金属,但生坯结构中的造孔剂为合成树脂而非盐。因此,特征A整体未被公开。
技术特征B:其中所述金属组分中的所述导电金属的比例为80重量%或更大。 **《直接公开》**对比文件[0031]实施例记载浆料组成:“Inco公司Type123 Ni微粉末65wt%、酚醛树脂乳液25wt%、水10wt%”。金属组分即Ni粉末,不含其他金属。Ni粉末在金属组分中的比例为100%,大于80%,直接公开。
技术特征C:其中所述生坯结构呈膜状。 **《直接公开》**对比文件全文使用“シート”(片材)描述生坯结构,例如[0008]“合成树脂发泡体片材”、[0010]“干燥片材”。生坯结构为片状(膜状),直接公开。
技术特征D:其中所述膜的厚度为1000μm或更小;并且所述生坯结构的烧结仅通过向所述结构施加电磁场来进行。 **《直接公开》**对比文件[0025]记载:“电池极板薄至1mm~2mm”,厚度1mm(1000μm)在≤1000μm范围内;[0010]记载:“通过使片材通过高频线圈在短时间内进行烧结”,[0025]记载:“在通过高频线圈的十秒以内完成烧结”。对比文件公开了膜厚1mm(1000μm),且烧结完全依靠高频感应加热(施加电磁场),无其他热源。直接公开。
技术特征E:通过施加所述电磁场,通过所述金属组分的所述导电金属中的感应加热现象产生焦耳热,从而烧结所述结构。 **《直接公开》**对比文件[0025]记载:“高频加热金属时,由于趋肤效应仅表面发热……Ni微粉末各粒子同时发热,均匀且迅速地烧结”。明确描述了高频感应使Ni粉末自发热(焦耳热)实现烧结,直接公开。
技术特征F:其中所述电磁场通过施加频率在100kHz至1000kHz范围内的电流来形成。 **《直接公开》**对比文件[0032]记载:“5KW,1000千赫兹的高频电源”“10KW,1000千赫兹的高频电源”。频率1000kHz落在100-1000kHz范围内,直接公开。
技术特征G:其中施加所述电磁场持续1分钟至30分钟范围内的时间。 **《未公开》**对比文件[0025]记载:“在通过高频线圈的十秒以内完成烧结”。烧结时间仅10秒,远小于1分钟,不在本特征范围内,未公开。
技术特征H:其中通过涂覆所述金属组分和所述盐的混合物来形成所述生坯结构。 **《未公开》**对比文件[0008]记载:“将合成树脂发泡体片材浸渍在由Ni微粉末和高分子粘合剂构成的浆料中”。浆料不含盐。涂覆的是Ni粉末与粘合剂的混合物,不含盐,未公开。
技术特征I:其中所述导电金属为镍、铁或钴。 **《直接公开》**对比文件全文以镍(Ni)作为金属组分,例如[0002]“Ni金属多孔材料”、[0031]“Inco Type123 Ni微粉末”。镍被直接公开,属于镍、铁或钴之一。直接公开。
技术特征J:其中所述盐为NaCl、KCl、K2CO3、KOH、NaOH、CsCl、CaCl2、MgBr2、MgCl2、Na2SiO3、Na2CO3、NaHCO3、NH4Br或NH4Cl。 **《未公开》**对比文件未使用任何盐,未提及上述盐种类。未公开。
技术特征K:其中所述导电金属的平均粒径在10μm至100μm的范围内。 **《隐含公开》**对比文件[0030]记载:“可列举Ni微粉末粒度的自由度”,[0031]实施例使用Inco Type123或255微粉末。虽未明确粒径数值,但本领域公知该类商业镍粉平均粒径通常在10-100μm范围内,且方法对粒度不敏感。根据非常宽松的隐含公开标准,对比文件未排除该粒径范围,且本领域技术人员在实施时有可能采用该范围。因此隐含公开。
技术特征L:其中所述盐的粒径在30μm至250μm的范围内。 **《未公开》**对比文件未使用盐。未公开。
技术特征M:其中所述电磁场通过施加100A至1000A范围内的电流来形成。 **《未公开》**对比文件[0032]仅给出功率(5KW、10KW)和频率(1000KHz),未公开电流数值。对比文件没有记载电流值,无法直接或隐含得出该范围,未公开。
技术特征N:其中所述导电金属在20℃下的电导率为8MS/m或更大。 **《直接公开》**对比文件使用镍,本领域公知镍在20℃电导率约14.5MS/m(目标专利说明书也引用相同数值)。镍的电导率满足≥8MS/m,直接公开。
技术特征O:其中所述生坯结构包含基于重量的30重量%或更大的所述导电金属。 **《直接公开》**对比文件[0031]实施例浆料中Ni粉末占65wt%,干燥后生坯中Ni比例更高,远大于30%。直接公开。
技术特征P:其中相对于100重量份的所述金属组分,所述生坯结构包含10重量份至1000重量份的所述盐。 **《未公开》**对比文件无盐。未公开。
技术特征Q:还进行在烧结之后除去所述盐的步骤。 **《未公开》**对比文件在烧结前通过脱蜡除去树脂基材([0010]“高分子结合剂大部分分解除去”),但无烧结后除盐步骤。未公开。

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