对比文件的名称：2010-09-09_JP2010197798A_发明专利_JP2010197798A Optical element having forgery prevention function and forgery prevention display body equipped with the same
目标专利的名称：1635装饰构件及其制造方法CN111565930B
本次调用的模型名称：GPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 | ||
| 技术特征A：包括： // 直接公开 | [0009]段：“請求項１に示す発明は、少なくとも一部の表面が反射層で覆われた微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン及び反射層に対して観察点からより遠い側に光学層が配置された偽造防止機能を有する光学素子であって、該光学層が少なくとも一部の可視光を吸収する光吸収層であり、該微細凹凸パターンは、周期２００ｎｍ以上８００ｎｍ未満の繰り返し凸形状であって平面的に最密充填整列しているものを含むことを特徴とする偽造防止機能を有する光学素子である。”其中“を有する”表示包括。 | 对比文件明确公开了光学元件包括微细凹凸图案、反射层、光吸收层（光学层）等多个部件，即涵盖了“包括”这一概念，因此直接公开。 | ||
| 技术特征B：基板 // 直接公开 | [0035]段：“厚み２３μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる支持体上”（在由厚度23μm的透明聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）膜构成的支撑体上）。 | 对比文件公开了在PET膜（即基板）上形成各层，直接公开了基板。 | ||
| 技术特征C：装饰层，所述装饰层设置在所述基板上 // 直接公开 | [0035]段：在所述PET膜上依次形成微细凹凸图案形成层、铝反射层（厚度50nm）、以及含碳黑的光学层（光吸收层）等。 | 对比文件在基板上设置了反射层和光吸收层，这些层构成可产生光学效应的装饰层，并且明确设置于基板上，因此直接公开。 | ||
| 技术特征D：当与所述装饰层的平面垂直的方向被定义为x轴 // 未公开 | 无 | 对比文件仅提及法线、入射角等方向概念，但未明确定义x轴坐标，本领域技术人员无法从对比文件中直接或隐含地推导出该定义。 | ||
| 技术特征E：所述装饰层的表面上的方向被定义为y轴 // 未公开 | 无 | 对比文件未定义y轴。 | ||
| 技术特征F：在380nm≤λ≤780nm的波长范围内的标准光源D65的条件下使用检测器来检测所述装饰层上的所述y轴的宽度的中心点时 // 未公开 | 无 | 对比文件未涉及标准光源D65、具体波长范围以及检测y轴宽度中心点的步骤。 | ||
| 技术特征G：所述检测器的中心与所述装饰层上的所述y轴的所述宽度的所述中心点连接的线在x－y轴平面上与所述x轴所形成的角度被定义为中心视角θ // 未公开 | 无 | 对比文件未定义中心视角。 | ||
| 技术特征H：从所述检测器的所述中心到所述装饰层上的y轴方向上的所述宽度的所述中心点的距离被定义为Dv // 未公开 | 无 | 对比文件未定义Dv。 | ||
| 技术特征I：在－15°至+15°的所述中心视角θ的至少一部分中由下式1表示的深度参数值δ1m为0.15以上 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开深度参数δ1m及其数值范围。 | ||
| 技术特征J：[式1] δ1m＝ | Δh | max/Dv // 未公开 | 无 | 对比文件未公开该公式。 |
| 技术特征K：其中， | Δh | max是由下式2表示的Δh的最大值 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征L：[式2] // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征M：其中，Δd由下式3表示 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征N：[式3] // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征O：其中，θ被定义为由所述检测器的所述中心与通过所述检测器检测到的所述装饰层上的所述y轴上的任意点连接的线在所述x－y轴平面上与所述x轴所形成的视角 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开该视角定义。 | ||
| 技术特征P：θ和θ分别由下式4和下式5表示 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征Q：[式4] // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征R：[式5] // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征S：其中，θ和θ分别是在视角θ和θ下的角亮度 // 未公开 | 无 | 对比文件未涉及角亮度与视角的关联定义。 | ||
| 技术特征T：其中，θ满足下式6的范围 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征U：[式6] // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征V：其中，θ和θ分别是θ和θ的最小值和最大值 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开。 | ||
| 技术特征W：其中，所述装饰构件具有一个以上的点 // 直接公开 | [0009]段：“該微細凹凸パターンは、周期２００ｎｍ以上８００ｎｍ未満の繰り返し凸形状であって平面的に最密充填整列しているものを含む”（该微细凹凸图案包括重复的凸形状，在平面上最密填充排列）。 | 对比文件公开了微细凹凸图案包含大量重复的凸部，即具有一个以上的点，因此直接公开。 | ||
| 技术特征X：在所述一个或多个点处，根据－15°至+15°的所述中心视角θ的角亮度图的斜率除以角亮度得到的值的绝对值为0.025以上 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开角亮度图的斜率与亮度的比值。 | ||
| 技术特征Y：其中，角度单位是度(°)。 // 直接公开 | 实施例部分：“６０°の入射角”（60°的入射角）。 | 对比文件明确使用“°”表示角度单位，因此直接公开。 | ||
| 技术特征Z：其中，Dv是500mm。 // 未公开 | 无 | 对比文件未公开Dv的具体数值。 |
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