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对比文件列表
1996-07-23_US5538821A_发明授权_US5538821A Resist ink composition and cured article prepared therefrom_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M+++.docx
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1998-12-22_US5852136A_发明授权_US5852136A Curable coating composition_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2002-11-27_JP2002338652A_发明专利_JP2002338652A Aqueous alkaline solution-soluble urethane forming epoxycarboxylate compound, photosensitive resin composition using the same and its hardened material_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2005-10-27_JP2005300764A_发明专利_JP2005300764A Curable resin composition, resist pattern forming method, and resin cured object_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
2026-07-29 13:28
2005-12-02_JP2005331938A_发明专利_JP2005331938A Photosensitive composition for black matrix_+++C_D_G_H_I_J_K+++.docx
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2006-06-08_None_发明专利_JPWO2004079452A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物_+++B_C_E_F_G_H_M_l+++.docx
2026-07-29 13:28
2007-06-07_KR100725432B_发明授权_KR100725432B1 감광성 수지 조성물 및 그 경화물_+++C_E_F_G_H_L_M+++.docx
2026-07-29 13:28
2007-07-19_US2007166642A_发明申请_US20070166642A1 Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof_+++A_B_C_E_F_G_H_L_M_d+++.docx
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2008-04-03_JP2008074938A_发明专利_JP2008074938A Photosensitive resin composition and its cured product_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_L_M_k+++.docx
2026-07-29 13:28
WO02094904A1_Description_20260718_2106_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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WO2004079452A1_Description_20260718_2107_+++C_G_H_L_M+++.docx
2026-07-29 13:28
2006-06-08_None_发明专利_JPWO2004079452A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物_+++B_C_E_F_G_H_M_l+++.docx

对比文件的名称:2006-06-08_None_发明专利_JPWO2004079452A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物

目标专利的名称:1831氨基甲酸酯多官能单体、该单体的制备方法及含有该单体的光敏树脂组合物CN101998947B

本次调用的模型名称:DeepSeek Chat

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译成中文)公开性论述
**技术特征A:通过反应如下化合物制备《未公开》**对比文件公开了碱溶性聚氨酯树脂(A)的制备方法,通过二异氰酸酯化合物(a)、分子中具有烯键式不饱和基的二醇化合物(b)、分子中具有羧基的二醇化合物(c)进行聚氨酯化反应,再与环状酸酐(e)反应(见合成例1-7)。未涉及目标专利的制备方法。目标专利的氨基甲酸酯多官能单体是通过反应(a)环氧化合物、(b)酸基团二元醇、(c)异氰酸酯基不饱和化合物制备的。对比文件中的树脂(A)是通过二异氰酸酯与二醇(包括不饱和二醇和羧基二醇)反应,再与酸酐反应,反应物和反应路径均不同。本领域技术人员不能从对比文件直接得到目标专利的单体结构,也无法合理推断出该制备方法。
**技术特征B:(a)一种具有两个以上环氧基的环氧化合物《直接公开》**在对比文件关于分子中具有烯键式不饱和基的二醇化合物(b)的描述中:“分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビスフェノール−F型エポキシ樹脂、ビスフェノール−S型エポキシ樹脂、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物;水素化ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、…等が挙げられる。”(发明内容部分)对比文件明确公开了具有两个环氧基的环氧化合物,并列举了双酚A型环氧树脂等具体实例,这些化合物与目标专利的(a)相同。因此,本领域技术人员可以毫无疑义地确定该特征被公开。
**技术特征C:(b)一种具有酸基团的二元醇化合物《直接公开》**在对比文件关于分子中具有羧基的二醇化合物(c)的描述:“分子中にカルボキシル基を有するジオール化合物(c)としては、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸が特に好ましい。”(发明内容部分)对比文件直接公开了二羟甲基丙酸(dimethylolpropionic acid)和二羟甲基丁酸(dimethylolbutanoic acid),这些化合物分子中同时具有羧基和两个羟基,与目标专利的(b)一致。
**技术特征D:(c)一种具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物《未公开》**对比文件中的二异氰酸酯化合物(a)为异佛尔酮二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯等,分子中不含乙烯不饱和基;不饱和基通过不饱和二醇(b)引入,该不饱和二醇由环氧化合物与不饱和酸反应得到,不含有异氰酸酯基。对比文件未公开任何同时具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物。本领域技术人员无法从对比文件直接得到或合理推断出这种化合物。
**技术特征E:其中所述(a)具有两个以上环氧基的环氧化合物选自《直接公开》**对比文件在描述不饱和二醇(b)时,列举了多种环氧化合物,并明确指出“分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物としては、例えば、…”,即公开了“选自”的概念。对比文件明确给出了环氧化合物的选择范围,本领域技术人员可以直接确定该特征。
**技术特征F:双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂《直接公开》**对比文件在列举环氧化合物时,明确包括“ビスフェノール−A型エポキシ樹脂”(双酚A型环氧树脂)以及“ビスフェノール型エポキシ化合物”等芳族环氧树脂。双酚A型环氧树脂属于芳族环氧树脂,对比文件直接公开了这两种树脂。
**技术特征G:其中所述b)具有酸基团的二元醇化合物由下式I表示《直接公开》**对比文件公开了“ジメチロールプロピオン酸”(二羟甲基丙酸),其结构为HO-CH₂-C(CH₃)(COOH)-CH₂-OH,符合式I(R₁=甲基)。二羟甲基丙酸的结构与式I完全一致,本领域技术人员通过名称可知其结构,因此直接公开。
**技术特征H:其中R₁为甲基或乙基《直接公开》**对比文件公开了二羟甲基丙酸(R₁=甲基)和二羟甲基丁酸(R₁=乙基)。对比文件明确公开了这两种化合物,因此直接公开了R₁为甲基或乙基。
**技术特征I:其中所述c)具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物由下式II表示《未公开》**对比文件未公开任何类似式II的化合物。对比文件中的不饱和基团来自不饱和二醇,异氰酸酯基来自二异氰酸酯,两者分别存在于不同分子中,不存在同时具有两者的化合物。
**技术特征J:其中R₂为氢或C₁-C₅烷基《未公开》**对比文件未公开式II,因此未公开R₂的定义。由于特征I未公开,特征J也不被公开。
**技术特征K:n为1-12的整数《未公开》**对比文件未公开式II,因此未公开n的范围。由于特征I未公开,特征K也不被公开。
**技术特征L:还包括《隐含公开》**对比文件在树脂(A)的制备中,明确使用环状酸酐(e)与羟基反应,例如:“環状酸無水物(e)を反応させて得られるアルカリ水溶液可溶性ウレタン樹脂(A)”。(发明内容及合成例)目标专利的单体可还含有单酸酐,通过酸酐与羟基反应引入羧基。对比文件同样教导了在树脂中使用酸酐进行类似改性,本领域技术人员可以合理推断将该技术应用于单体中,因此隐含公开。
**技术特征M:丁二酸酐、戊二酸酐、甲基丁二酸酐、马来酸酐、甲基马来酸酐、邻苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、顺-5-降冰片烯-(内型,外型)-2,3-二羧酸酐,或其组合《直接公开》**对比文件列举环状酸酐(e)的具体例子:“2塩基酸1無水物の具体例としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。”(发明内容部分)对比文件直接公开了丁二酸酐(無水コハク酸)、马来酸酐(無水マレイン酸)、邻苯二甲酸酐(無水フタル酸)、四氢邻苯二甲酸酐(テトラヒドロ無水フタル酸,通常指1,2,3,6-异构体)、六氢邻苯二甲酸酐(ヘキサヒドロ無水フタル酸)。这些酸酐均属于目标专利特征M的列表,因此直接公开。

### 公开性代码输出

根据上述判断,对比文件直接公开了技术特征B、C、E、F、G、H、M,隐含公开了技术特征L。因此,在回答结尾插入对应代码。

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