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对比文件列表
1990-04-17_US4918150A_发明授权_US4918150A Composition comprising vinyl ester, unsaturated urethane and polybasic acid_+++B_D_E_F_L_m+++.docx
2026-07-29 13:28
1990-07-24_US4943516A_发明授权_US4943516A Photosensitive thermosetting resin composition and method of forming solder resist pattern by use thereof_+++B_D_E_F_L_M_i_j_k+++.docx
2026-07-29 13:28
1996-07-23_US5538821A_发明授权_US5538821A Resist ink composition and cured article prepared therefrom_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M+++.docx
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1997-06-17_US5639828A_发明授权_US5639828A Carbamate or isocyanate component, carbamate-reactive or active H component and epoxide_+++B_D_E_F_l_m+++.docx
2026-07-29 13:28
1998-05-26_US5756600A_发明授权_US5756600A Urethane-modified epoxy vinyl ester resin_+++B_D_E_F_I_J_K_L_M+++.docx
2026-07-29 13:28
2001-04-19_WO2001027182A_发明申请_WO01027182A1 HIGH PHOTO-SENSITIVITY CURABLE RESIN, PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD THEREOF, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL_+++D_I_j_k+++.docx
2026-07-29 13:28
2005-12-02_JP2005331938A_发明专利_JP2005331938A Photosensitive composition for black matrix_+++C_D_G_H_I_J_K+++.docx
2026-07-29 13:28
2007-07-19_US2007166642A_发明申请_US20070166642A1 Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof_+++A_B_C_E_F_G_H_L_M_d+++.docx
2026-07-29 13:28
2008-04-03_JP2008074938A_发明专利_JP2008074938A Photosensitive resin composition and its cured product_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_L_M_k+++.docx
2026-07-29 13:28
2008-04-24_US2008096133A_发明申请_US20080096133A1 PHOTOCURABLE AND THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF AND PRINTED CIRCUIT BOARD OBTAINED USING THE SAME_+++B_D_E_F_l_m+++.docx
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2005-12-02_JP2005331938A_发明专利_JP2005331938A Photosensitive composition for black matrix_+++C_D_G_H_I_J_K+++.docx

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### 回答开头

**对比文件名称:** 2005-12-02_JP2005331938A_发明专利_JP2005331938A Photosensitive composition for black matrix

**目标专利名称:** 1831氨基甲酸酯多官能单体、该单体的制备方法及含有该单体的光敏树脂组合物 CN101998947B

**本次调用的模型名称:** GPT-4 (ChatGPT)

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### 特征比对表格

技术特征及公开性判断对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
**A:通过反应如下化合物制备 – 未公开**无直接对应内容对比文件公开的聚氨酯丙烯酸酯通过异氰酸酯化合物(a-1)与多元羟基化合物(a-2)反应制备,未涉及环氧化合物和二元醇化合物的反应体系,与本发明的反应物组合不同,因此未公开。
**B:(a)一种具有两个以上环氧基的环氧化合物 – 未公开**无直接对应内容对比文件未使用任何具有两个以上环氧基的环氧化合物作为反应物,仅在环氧丙烯酸酯的制备中提及环氧树脂,但该树脂并非本发明单体的反应物,因此未公开。
**C:(b)一种具有酸基团的二元醇化合物 – 《直接公开》**制造例4:“ジメチロールプロピオン酸67g(=0.5mol)”(二羟甲基丙酸67g(0.5mol))二羟甲基丙酸(dimethylolpropionic acid)分子中含有两个羟基和一个羧基,属于具有酸基团的二元醇化合物,对比文件明确将其作为反应物使用,因此直接公开。
**D:(c)一种具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物 – 《直接公开》**制造例1:“2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート142g(1.0mol)”(2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯142g(1.0mol))2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯同时含有丙烯酰基(乙烯不饱和基)和异氰酸酯基,对比文件明确将其作为反应物,因此直接公开。
**E:其中所述(a)具有两个以上环氧基的环氧化合物选自 – 未公开**无直接对应内容对比文件未公开任何环氧化合物作为本发明的反应物,故未公开其选择范围。
**F:双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂 – 未公开**无直接对应内容对比文件虽在环氧丙烯酸酯的合成中举例双酚A环氧树脂等,但并非用于本发明的单体反应,因此未公开。
**G:其中所述b)具有酸基团的二元醇化合物由下式I表示 – 《直接公开》**制造例4使用的二羟甲基丙酸结构为HO-CH₂-C(CH₃)(COOH)-CH₂-OH,完全符合式I(R₁为甲基)对比文件明确使用的二羟甲基丙酸正是式I所定义的化合物,因此直接公开。
**H:其中R1为甲基或乙基 – 《直接公开》**同特征G,二羟甲基丙酸中R₁为甲基对比文件公开的二羟甲基丙酸其R₁为甲基,属于甲基或乙基的选项之一,因此直接公开。
**I:其中所述c)具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物由下式II表示 – 《直接公开》**制造例1使用的2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯结构为CH₂=CH-COO-CH₂CH₂-NCO,完全符合式II(R₂=H,n=2)对比文件明确使用的该化合物正是式II所定义的化合物,因此直接公开。
**J:其中R2为氢或C1-C5烷基 – 《直接公开》**同特征I,2-丙烯酰氧基乙基异氰酸酯中R₂=H对比文件公开的化合物中R₂为氢,属于氢或C1-C5烷基的选项之一,因此直接公开。
**K:n为1-12的整数 – 《直接公开》**同特征I,该化合物中n=2对比文件公开的化合物中n=2,属于1-12的整数范围,因此直接公开。
**L:还包括 – 未公开**无直接对应内容对比文件未公开本发明单体中额外包含其他成分(如酸酐),因此未公开。
**M:丁二酸酐、戊二酸酐、甲基丁二酸酐、马来酸酐、甲基马来酸酐、邻苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、顺-5-降冰片烯-(内型,外型)-2,3-二羧酸酐,或其组合 – 未公开**制造例7、8使用了四氢邻苯二甲酸酐和琥珀酸酐,但用于环氧丙烯酸酯的合成,并非本发明单体;且未公开组合关系。对比文件在环氧丙烯酸酯的制备中使用了部分酸酐,但未公开这些酸酐作为本发明单体的一部分,也未公开其与本发明单体的组合,因此未公开。

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### 结论代码

根据上述比对,对比文件直接公开了技术特征 C、D、G、H、I、J、K,未公开其他特征,故在结尾插入以下代码:

<<<C>>><<<D>>><<<G>>><<<H>>><<<I>>><<<J>>><<<K>>>

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