**对比文件名称：** 2015-01-15_US2015017548A_发明申请_US20150017548A1 SULFIDE SOLID ELECTROLYTE MATERIAL, BATTERY, AND PRODUCING METHOD FOR SULFIDE SOLID ELECTROLYTE MATERIAL
**目标专利名称：** 1514硫化物型固体电解质、其制备方法和包含其的全固态电池CN113937350B
**本次调用的模型名称：** GPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A：** 硫化物型固体电解质包含由Li₁₃Sn₂InS₁₂表示的锂‑锡‑金属‑硫化物(LTMS)型化合物。<br><br>**判断：未公开** | [0010] “硫化物固体电解质材料包含M1元素、M2元素和S元素，其特征在于，所述M1选自Li、Na、K、Mg、Ca和Zn中的至少一种；所述M2选自P、Sb、Si、Ge、Sn、B、Al、Ga、In、Ti、Zr、V和Nb中的至少一种，并且在X射线衍射测量中使用CuKα射线在2θ=29.58°±0.50°位置具有峰，并且其特征在于……所述M2至少包含P和Sn。”<br>[0057] “所述M2至少包含P和Sn。” | 对比文件仅将In列为可与P、Sn共存的众多可选元素之一，并反复强调M2必须同时包含P和Sn（[0010]、[0057]）。其全部实施例均基于Li-P-Sn-S体系（如Li₃.₂₇₅Sn₀.₂₇₅P₀.₇₂₅S₄），无任何实施例涉及不含P的Li-Sn-In-S化合物，更未公开Li₁₃Sn₂InS₁₂这一具体化学计量比。对比文件的技术构思是保留P和Sn以提高离子电导率和稳定性，与本专利用In完全替代P的构思相反。本领域技术人员由对比文件无法毫无疑义地得到该具体化合物，也无法合理推断出其技术方案，因此既未直接公开也未隐含公开。 |
| **技术特征B：** 所述硫化物型固体电解质用于形成全固态电池的固体电解质层。<br><br>**《直接公开》** | [0025] “一种电池，包含正极活性材料层、负极活性材料层和形成在所述正极活性材料层与所述负极活性材料层之间的电解质层，其特征在于，所述正极活性材料层、所述负极活性材料层和所述电解质层中的至少一个包含上述硫化物固体电解质材料。”<br>[0078] “本发明的电池……其特征在于，至少一层含有上述硫化物固体电解质材料。” | 对比文件明确记载了包含硫化物固体电解质材料的电池，并具体指出该材料可用于电解质层（[0025]、[0078]）。该描述与本特征完全对应，且作用相同（均用于构成全固态电池的固体电解质层）。本领域技术人员阅读对比文件后能够直接得出该技术方案，因此直接公开。 |
| **技术特征C：** 方法包括步骤i)将锂硫化物、锡硫化物和含M的硫化物混合，其中M是In。<br><br>**判断：未公开** | [0103] “原料组成包含M1元素、M2元素和S元素。M1元素和M2元素与上述相同。” [0104] “含M2的化合物可以是硫化物……例如In₂S₃等。”<br>[0010] “所述M2至少包含P和Sn。”<br>实施例1-4均使用Li₂S、P₂S₅、SnS₂（以及可选的SiS₂、GeS₂），未使用In的硫化物。 | 对比文件虽然公开了制备硫化物固体电解质的一般步骤：混合含M1、M2、S的原料（[0103]-[0104]），并提及含M的硫化物可选用In₂S₃等，但其始终要求M2必须包含P和Sn（[0010]），所有实施例均包含P。而本特征的方法在混合时仅使用锂硫化物、锡硫化物和含In硫化物，不包含任何含P原料，这与对比文件的核心教导相悖。本领域技术人员从对比文件无法得到省略P的混合方案，也不能合理推断出该步骤。因此，该特征既未直接公开也未隐含公开。 |
| **技术特征D：** （未提供内容）<br><br>**判断：无** | 无 | 无 |
| **技术特征E：** ii)对混合物进行热处理。<br><br>**《直接公开》** | [0110] “加热步骤，通过加热所述非晶化离子导电材料获得上述硫化物固体电解质材料。”<br>[0111] “通过加热使结晶度提高，使高离子电导率的晶相A析出。”<br>实施例1：“将非晶化离子导电材料在550℃下加热8小时。” | 对比文件明确公开了对机械研磨得到的非晶化离子导电材料进行热处理的步骤（[0110]-[0111]），并在实施例中实施（如550℃加热8小时）。该步骤与特征E的“对混合物进行热处理”完全对应，作用相同（诱导结晶、提高离子电导率）。因此直接公开。 |
| **技术特征F：** 其特征在于，所述热处理在400℃至850℃下进行一次或多次。<br><br>**《隐含公开》** | [0112] “加热温度优选300℃以上，更优选350℃以上，进一步优选400℃以上，特别优选450℃以上。另一方面，加热温度优选1000℃以下，更优选700℃以下，进一步优选650℃以下，特别优选600℃以下。”<br>实施例均在550℃进行一次热处理。 | 对比文件公开的加热温度范围（300–1000℃）完全覆盖400–850℃（[0112]），且明确指出优选400℃以上；其最窄优选范围（450–600℃）亦落入该区间。尽管对比文件未明确以端点形式给出“400℃至850℃”，但本领域技术人员基于其公开的宽范围及可行上限（1000℃），容易想到选择400–850℃内的温度进行加热。此外，对比文件虽在实施例中仅进行一次加热，但并未限定只能一次，本领域技术人员根据工艺需要可以重复加热。因此，该特征可以从对比文件合理推断得出，属于隐含公开。 |
### 公开性代码
根据判断结果，在文本末尾插入以下代码：
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