对比文件名称：2017-03-02_JP2017046579A_发明专利_JP2017046579A 単相永久磁石モータ及びこれを用いるヘアドライヤ
目标专利名称：1546马达CN113273054B
本次调用的模型名称：DeepSeek Chat
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译，标注段落号） | 公开性论述 |
| 技术特征A：其中<br>《直接公开》 | [0006] “其中，两个相邻齿的相邻磁极片通过槽开口彼此间隔开或通过磁桥彼此连接，所述槽开口或磁桥的中心从所述两个相邻齿的对称中心偏移。” | 对比文件[0006]中明确使用了“其中”作为连接词，直接公开了该技术特征。 |
| 技术特征B：关于所述轴的轴线<br>《直接公开》 | [0007] “所述磁极片的内周面与所述转子同轴，所述转子的外周面与所述磁极片的内周面之间形成具有实质均匀厚度的气隙。” | 对比文件明确指出磁极片内周面与转子同轴，隐含了“关于轴的轴线”这一空间基准，本领域技术人员能直接确认该概念被公开。 |
| 技术特征C：第一角度(θ1)与第二角度(θ2)<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件全文未出现“第一角度”“第二角度”的定义，也未公开对应于齿内表面凹槽的任何角度参数，因此未公开。 |
| 技术特征D：不同<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开第一角度与第二角度是否不同，无相关教导。 |
| 技术特征E：所述第一角度(θ1)<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件无“第一角度”的概念。 |
| 技术特征F：是由将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的虚拟线(L)与形成有所述第一凹槽的一侧的所述齿端表面形成的<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开齿端表面中心、虚拟线L、第一凹槽等要素，也未公开该角度定义。 |
| 技术特征G：所述第二角度(θ2)<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件无“第二角度”的概念。 |
| 技术特征H：是由所述虚拟线(L)与形成有所述第二凹槽的另一侧的所述齿端表面形成的<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开齿端表面中心、虚拟线L、第二凹槽等要素，也未公开该角度定义。 |
| 技术特征I：其中<br>《直接公开》 | [0006] “其中，两个相邻齿的相邻磁极片通过槽开口彼此间隔开或通过磁桥彼此连接，所述槽开口或磁桥的中心从所述两个相邻齿的对称中心偏移。” | 对比文件[0006]明确使用了“其中”一词，直接公开了该引导词特征。 |
| 技术特征J：所述第一凹槽和所述第二凹槽<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件全文未提及在齿内表面开设第一凹槽或第二凹槽；其描述的都是磁极片和槽开口，无凹槽结构。 |
| 技术特征K：形成在所述轴的轴向方向上<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开任何凹槽，故未公开凹槽的延伸方向。 |
| 技术特征L：其中<br>《直接公开》 | [0015] “其中，所述槽开口或所述磁桥的中心从两个相邻齿的对称中心偏移45度至135度的电角度。” | 对比文件[0015]开头使用了“其中”一词，直接公开了该引导词。 |
| 技术特征M：关于所述轴的轴线<br>《直接公开》 | [0007] “所述磁极片的内周面与所述转子同轴” | 对比文件[0007]公开了同轴关系，直接公开了“关于轴的轴线”这一基准。 |
| 技术特征N：由所述齿端表面的一侧与形成有所述第二凹槽的一侧的所述齿端表面形成的<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开齿端表面、第二凹槽，也未公开该角度构成。 |
| 技术特征O：第四角度(θ4)<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未定义第四角度。 |
| 技术特征P：是所述第二角度(θ2)的两倍<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开第二角度，也未公开其与任何角度的倍数关系。 |
| 技术特征Q：其中<br>《直接公开》 | [0016] “其中，所述齿及所述外环部分开形成，两个相邻齿的相邻磁极片通过磁桥彼此连接。” | 对比文件[0016]开头使用了“其中”，直接公开。 |
| 技术特征R：从将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的所述虚拟线(L)到所述第二凹槽的另一侧的第二距离(D2)<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开虚拟线L、第二凹槽、第二距离等。 |
| 技术特征S：是所述第二凹槽的深度(D)的1.578倍<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开第二凹槽深度，更无该数值关系。 |
| 技术特征T：（无具体内容） | 不适用 | 特征T为空白，无技术含义，无需判断公开性。 |
| 技术特征U：所述第一角度(θ1)与所述第二角度(θ2)之间的差<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未定义第一、第二角度，无角度差概念。 |
| 技术特征V：在所述第二角度(θ2)的10％以内<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开第二角度，也未公开任何百分比范围。 |
| 技术特征W：其中<br>《直接公开》 | [0019] “其中，给气装置还包括电机保持架和电机罩。” | 对比文件[0019]开头使用了“其中”，直接公开。 |
| 技术特征X：所述第一凹槽的深度(D)与在周向方向上的宽度(W)的比<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开第一凹槽，无深度和宽度概念。 |
| 技术特征Y：在0.24至0.29的范围内<br>《未公开》 | 未记载 | 对比文件未公开该比例范围。 |
根据上述比对，对比文件直接公开的技术特征包括A、B、I、L、M、Q、W；未直接或隐含公开其他特征。
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