对比文件名称：2017-02-23_None_发明专利_JPWO2014199572A1 光取り込みシートおよび光取り込みロッド、ならびにそれらを用いた受光装置、発光装置および光ファイバー用増幅器
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
本次调用的模型名称：未指定（本分析由AI完成）
### 特征比对表格
| 技术特征描述以及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括 《直接公开》 | [0086]段：“光取り込みシート51は例えば、以下の方法によって製造することができる。” 翻译：“光捕获片51例如可以通过以下方法制造。” | 对比文件明确公开了一种制造光捕获片的方法，该方法包括一系列步骤，因此直接公开了“制造方法包括”这一前序特征。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a) 《直接公开》 | [0087]段：“この上にレジストを塗布し”。翻译：“在其上涂布光刻胶”。光刻胶属于光敏树脂。 | 对比文件公开了在基底（低折射率膜）上涂布光刻胶（光敏树脂）的步骤，形成了带有光敏树脂层的结构，与步骤(a)实质上相同，因此直接公开。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b) 《隐含公开》 | [0090]段：“2光束干渉露光法による感光によって、レジストを露光する”。翻译：“通过双光束干涉曝光法曝光光刻胶”。[0095]段：“紫外レーザー光線を用いた2光束干渉露光法により、低屈折率膜…に光誘起屈折率変化を発生させ、回折格子を形成する”。翻译：“通过使用紫外激光的双光束干涉曝光法，在低折射率膜中引起光致折射率变化，形成回折格子”。 | 对比文件公开了通过激光双光束干涉曝光在光敏材料中记录衍射光栅的步骤，该过程本质上与全息光栅的记录原理相同。虽然未明确记载从基底两个表面照射，但本领域技术人员基于对比文件的教导，可以合理推断出通过调整光束方向可实现从两表面照射以记录体全息光栅，因此隐含公开步骤(b)。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开在涂覆光敏树脂时使涂层高度沿预定方向变化的技术特征。对比文件中光刻胶的涂覆是均匀的，没有厚度变化，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件中记录的衍射光栅（无论是表面浮雕还是折射率光栅）并非记录在光敏树脂涂层的整个高度上，而是记录在膜的表面或部分厚度中，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开光栅高度沿方向变化，也未公开树脂涂层高度逐渐增加。对比文件中光栅深度恒定，涂层厚度均匀，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开光栅高度逐渐增加的特征，因此未被公开。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度 《隐含公开》 | [0090]段涉及双光束干涉曝光形成光栅；[0091]段：“高屈折率膜24aの表面に深さ0.1μm以上のグレーティング24aGを形成する”。翻译：“在回顾折射率膜24a的表面形成深度0.1μm以上的光栅24aG”。 | 对比文件通过双光束干涉曝光法形成光栅，该方法通常能够形成线宽均匀（相同宽度）的光栅结构。本领域技术人员可以合理推断其光栅具有相同的宽度，因此隐含公开该特征。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开喷涂步骤，光刻胶是通过旋涂等方法涂覆，并非喷涂，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开喷涂量沿位置变化的技术特征，因此未被公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a-1) 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开浸渍涂覆步骤，因此未被公开。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a-2) 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开将基底从容器分离的步骤，因此未被公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开改变移动速度的分离步骤，因此未被公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a-1) 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开在基底与辅助基底之间提供光敏树脂的步骤，因此未被公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a-2) 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开移动基底或辅助基底的步骤，因此未被公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开相对移动速度变化的步骤，因此未被公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开在倾斜状态下提供光敏树脂的步骤，因此未被公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥 《未公开》 | 无相关公开内容 | 对比文件未公开干燥步骤，因此未被公开。 |
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