对比文件名称：2012-06-13_CN102489706A_发明公开_CN102489706A 一种孔径可控的多孔毛细芯的制备方法
目标专利名称：1629制造金属泡沫的方法CN108883470B
本次调用的模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括对包含金属组分和盐的生坯结构进行烧结的步骤，所述金属组分包含相对磁导率为90或更大的导电金属《直接公开》 | [0006]“(1)选取毛细芯烧结原料基体粉末，在基体粉末中均匀混入与基体粉末不反应的可溶性盐粉末；(2)将混合后的粉末冷压成型成毛细芯所需形状，将成型后的原料在惰性气体保护下进行无压烧结；或者将混合后的粉末直接在惰性气体保护下加压烧结”。[0009]“所述的基体粉末为金属粉末或金属氧化物粉末，优先选自镍粉、钛粉、铜粉、不锈钢粉末、三氧化铝粉末中的一种或几种(可任意比例)”。 | 对比文件公开了将金属基体粉末（如镍粉）与可溶性盐混合、成型后烧结，形成包含金属组分（镍）和盐的生坯结构并进行烧结。镍是公知的相对磁导率≥90的导电磁性金属（典型相对磁导率约600），因此本领域技术人员可以直接确定该技术特征被公开。 |
| 技术特征B：其中所述金属组分中的所述导电金属的比例为80重量％或更大《直接公开》 | [0021]实施例1：“采用颗粒度均匀的纯镍粉，均匀混入可溶性盐粉末NaCl，其质量比为NaCl∶Ni为40∶60”；[0024]实施例2：“镍粉与钛粉的混合粉末，其中钛粉占金属粉末重量的10％”（即镍占90%）。 | 实施例1中金属组分为纯镍，导电金属（镍）比例为100重量%；实施例2中镍占金属组分的90重量%，均≥80重量%，故直接公开了该比例限定。 |
| 技术特征C：其中所述生坯结构呈膜状《未公开》 | 对比文件未记载生坯结构呈膜状；[0006]步骤(2)描述“冷压成型成毛细芯所需形状”，未限定为膜状。 | 对比文件没有公开生坯结构为膜状，也未提及通过涂覆形成薄层，本领域技术人员不能直接或隐含得出该特征。 |
| 技术特征D：其中所述膜的厚度为1000μm或更小；并且所述生坯结构的烧结仅通过向所述结构施加电磁场来进行《未公开》 | 对比文件未记载膜厚度及电磁场烧结；[0013]烧结方法为“无压烧结（普通电热炉烧结、微波烧结、放电烧结等）”或“加压烧结”。 | 对比文件既未公开膜厚度，也未采用电磁场进行感应加热烧结，因此未公开该特征。 |
| 技术特征E：通过施加所述电磁场，通过所述金属组分的所述导电金属中的感应加热现象产生焦耳热，从而烧结所述结构《未公开》 | 对比文件未公开电磁场或感应加热机制。 | 对比文件的烧结工艺不涉及感应加热，无电磁场施加，故未公开。 |
| 技术特征F：其中所述电磁场通过施加频率在100kHz至1000kHz范围内的电流来形成《未公开》 | 对比文件未公开。 | 对比文件无电磁场，更无频率限定。 |
| 技术特征G：其中施加所述电磁场持续1分钟至30分钟范围内的时间《未公开》 | 对比文件未公开电磁场施加时间。 | 对比文件无电磁场，未公开。 |
| 技术特征H：其中通过涂覆所述金属组分和所述盐的混合物来形成所述生坯结构《未公开》 | [0006]步骤(2)采用“冷压成型”或“直接在惰性气体保护下加压烧结”，未采用涂覆方式。 | 对比文件形成生坯结构的方式为模压成型或直接装模加压，并非涂覆，故未公开。 |
| 技术特征I：其中所述导电金属为镍、铁或钴《直接公开》 | [0009]“优先选自镍粉、钛粉、铜粉、不锈钢粉末、三氧化铝粉末中的一种或几种”，明确包括镍粉。 | 镍属于权利要求列举的导电金属之一，对比文件直接公开了使用镍作为金属组分。 |
| 技术特征J：其中所述盐为NaCl、KCl、K2CO3、KOH、NaOH、CsCl、CaCl2、MgBr2、MgCl2、Na2SiO3、Na2CO3、NaHCO3、NH4Br或NH4Cl《直接公开》 | [0010]“可溶性盐粉末为NaCl、KCl、无水CuCl2、NiCl2或K3PO4等”。 | 对比文件公开了NaCl和KCl，两者均属于权利要求所述盐的名单内，因此直接公开了该技术特征。 |
| 技术特征K：其中所述导电金属的平均粒径在10μm至100μm的范围内《未公开》 | 对比文件未记载导电金属的粒径数值，仅描述“颗粒度均匀”（[0021]）。 | 对比文件未提供金属粉末的平均粒径范围或具体数值，本领域技术人员无法直接获得该特征。 |
| 技术特征L：其中所述盐的粒径在30μm至250μm的范围内《直接公开》 | [0012]“可溶性盐粉末的粒度范围为20目到1600目”；[0021]实施例1：“NaCl的颗粒度保持在400目”。 | 20目≈841μm，1600目≈10μm，该范围覆盖30-250μm区间；实施例1中400目≈37μm，落在30-250μm范围内，因此对比文件直接公开了具有该粒径的盐。 |
| 技术特征M：其中所述电磁场通过施加100A至1000A范围内的电流来形成《未公开》 | 对比文件未公开。 | 对比文件无电磁场，未公开。 |
| 技术特征N：其中所述导电金属在20℃下的电导率为8MS/m或更大《直接公开》 | [0009]公开使用镍粉，虽未直接记载电导率，但镍是公知良导体。 | 镍在20℃电导率约14.5MS/m，远大于8MS/m。对比文件公开使用镍粉，本领域技术人员可以确定该导电金属必然满足该电导率条件，因此直接公开。 |
| 技术特征O：其中所述生坯结构包含基于重量的30重量％或更大的所述导电金属《直接公开》 | [0021]实施例1：NaCl:Ni=40:60，故生坯结构中镍占60wt%；[0024]实施例2：NaCl与金属混合粉末20:80，金属混合粉末中镍占90%，故镍占生坯结构72wt%。 | 实施例中镍在生坯结构中的比例均大于30wt%，直接公开了该特征。 |
| 技术特征P：其中相对于100重量份的所述金属组分，所述生坯结构包含10重量份至1000重量份的所述盐《直接公开》 | [0021]实施例1：NaCl:Ni=40:60，即相对于100重量份Ni，盐为66.7重量份；其他实施例类似。 | 实施例1中盐相对于金属组分的比例在10-1000重量份范围内，直接公开。 |
| 技术特征Q：还进行在烧结之后除去所述盐的步骤《直接公开》 | [0006]步骤(3)：“烧结完毕后，放入清水中清洗，将其中的可溶性盐清洗掉，最后烘干得多孔毛细芯”。 | 对比文件明确记载了烧结后清洗除盐的步骤，直接公开。 |
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