对比文件名称：2016-07-15_KR1020160085132A_发明公开_KR1020160085132A 전도성 구조체 및 이의 제조방법 (导电结构及其制造方法)
目标专利名称：1635装饰构件及其制造方法CN111565930B
本次调用的模型名称：（未指定，以系统当前模型为准）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译，段落号） | 公开性论述 |
| 特征A：包括： <br><br> **无公开** | **无直接对应内容。** <br> 对比文件标题及[0001]：“本申请涉及一种**导电结构**及其制造方法，特别是涉及一种包括黑化层、能够提高导电层隐蔽性的导电结构及其制造方法。” <br> 对比文件[0022]：“提供一种能够应用于触摸屏面板、改善金属薄膜电极隐蔽性及外部光反射、衍射特性的**导电结构**。” | 对比文件明确其主题是“导电结构”，用于触摸屏面板以解决导电层隐蔽性的问题。目标专利的主题是“装饰构件”，旨在提供具有视觉深度感的表面特性。两者在发明名称、解决的技术问题、实现的功能效果上均存在本质差异。对比文件没有公开“装饰构件”这一技术主题，本领域技术人员无法从对比文件中直接或合理推断得出该特征。 |
| 特征B：基板 <br><br> **《直接公开》** | 对比文件[0026]：“基材(基板)是通常用于形成导电结构而使用的基板，所述基板的材料可以根据应用领域适当选择。例如，基板可以是玻璃或无机材料基板、塑料基板或薄膜等。根据实施例，可以使用PET、聚碳酸酯薄膜等。这里，所述基板的厚度可以为25~188μm。” | 对比文件直接公开了一种用于支撑其他功能层的“基板”部件，其使用的材料（如PET、PC薄膜）和功能（作为后续层结构的支撑体）与目标专利中的基板完全相同。本领域技术人员能够毫无疑义地从对比文件中得出“基板”这一技术特征。 |
| 特征C：装饰层，所述装饰层设置在所述基板上 <br><br> **《隐含公开》** | 对比文件[0024]：“本发明的导电结构包括基板(100)、下黑化层(200)、导电层(300)及上黑化层(400)。” <br> 对比文件[0031]：“黑化层与高反射导电层结合，在特定厚度条件下，能够实现相消干涉及自身的吸光性。” <br> 对比文件[0037]：“上黑化层和下黑化层的材料为吸光性材料，例如金属、金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物。” | 对比文件公开了设置在基板上的多层结构（下黑化层/导电层/上黑化层）。目标专利说明书[0056]明确记载，装饰层的一个实施例包括“设置在基板上的光反射层和设置在光反射层上的光吸收层；或设置在基板上的光吸收层和设置在光吸收层上的光反射层”。对比文件中的导电层（Cu）相当于光反射层，黑化层（CuOxNy）相当于光吸收层。对比文件明确论述了通过“相消干涉”和“自身吸光性”降低反射率的功能，这与目标专利中装饰层利用干涉和吸光作用进行颜色表现的技术原理高度一致。虽然对比文件未使用“装饰层”这一术语，但本领域技术人员基于对比文件公开的层状结构、材料组成及光学干涉原理，可以合理推断出该技术特征被对比文件隐含公开。 |
| 特征D-Z：<br>当与所述装饰层的平面垂直的方向被定义为x轴...在－15°至+15°的中心视角θcv的至少一部分中由下式1表示的深度参数值δ1m为0.15以上...（及后续所有关于视角定义、坐标轴定义、检测器、Dv、深度参数值δ1m、δ1b、δ2、式1至式6、角亮度斜率与角亮度之比绝对值等全部技术特征） <br><br> **均无公开** | **无任何相关内容。** <br> 对比文件全文未涉及“视角”、“x轴/y轴定义”、“检测器”、“标准光源D65”、“中心视角θcv”、“Dv”、“深度参数值δ1m/δ1b/δ2”、“式1至式6”、“角亮度图的斜率除以角亮度得到的绝对值为0.025以上”等任何与光学深度感知测量相关的概念、定义、公式或数值范围。 | 对比文件的技术方案完全围绕导电层（Cu）与黑化层（CuOxNy）的堆叠结构及其总反射率、CIELab色坐标（L, a*, b*）进行改进，目的在于降低金属导电层对于人眼的外部反射可见性。对比文件中没有任何关于通过视角变化测量角亮度差异来定义感官深度参数的技术启示。本领域技术人员从对比文件中既不能直接得出，也无法通过合理推断得出特征D至Z所限定的任何技术方案。 |
### 结尾代码
根据上述判断，对比文件直接公开了技术特征B，隐含公开了技术特征C。
<<<B>>><<<c>>>