返回项目页面
对比文件列表
2003-10-14_JP2003290646A_发明专利_JP2003290646A Micelle dispersion production method and micelle dispersion obtained thereby_+++A_B_C_D_L_M+++.docx
2026-07-03 01:19
2007-08-14_KR1020070081004A_发明公开_KR20070081004A MICRO-SLOT FOR INTERACTION CHAMBER AND HIGH PRESSURE MILLING APPARATUS THEREWITH_+++C_D_K_a_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2008-09-11_DE102007011205A_发明专利_DE102007011205A1 High pressure homogenizer producing fine dispersion with narrow size distribution, includes bluff body agitation between constriction and flow stabiliz_+++a_b_c_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2009-04-30_JP2009090230A_发明专利_JP2009090230A Method and apparatus for particle micronization treatment_+++a+++.docx
2026-07-03 01:19
2010-06-17_US2010147188A_发明申请_US20100147188A1 Graphite nanoplatelets and compositions_+++a_b_c_d_f_g_h_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2011-02-17_KR1020110016420A_发明公开_KR1020110016420A 나노 크기의 그래핀 구조 물질을 제조하는데 사용되는 산화흑연의 제조방법 및 그 제조장치_+++A_B_D_F_G_L_c+++.docx
2026-07-03 01:19
2011-02-17_WO2011019095A_发明申请_WO2011019095A1 A METHOD OF PRODUCING NANO-SIZE GRAPHENE-BASED MATERIAL AND AN EQUIPMENT FOR PRODUCING THE SAME_+++A_B_C_D_F_G_L+++.docx
2026-07-03 01:19
2011-04-08_KR1020110036721A_发明公开_KR1020110036721A 나노 크기의 그래핀 구조 물질의 제조방법 및 그 제조장치_+++A_B_C_D_f_g_h_l_m+++.docx
2026-07-03 01:19
2011-06-22_KR101043895B_发明授权_KR101043895B1 고압력 호모게나이저용 분사 모듈_+++A_B_C_D_L+++.docx
2026-07-03 01:19
2011-08-04_KR101053933B_发明授权_KR101053933B1 나노 크기의 그래핀 구조 물질을 제조하는데 사용되는 산화흑연의 제조방법 및 그 제조장치_+++A_B_D_F_G_L_c+++.docx
2026-07-03 01:19
2012-05-17_KR1020120049679A_发明公开_KR1020120049679A 전단응력을 이용한 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액의 제조방법 및 이에 의해 제조된 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액_+++a_b_c_d_f_g_h_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2012-05-23_CN102471068A_发明公开_CN102471068A 纳米尺寸的石墨烯类材料的制造方法及其制造设备_+++A_D_F_L_b_g+++.docx
2026-07-03 01:19
2012-08-09_US2012201738A_发明申请_US20120201738A1 METHOD OF PRODUCING NANO-SIZE GRAPHENE-BASED MATERIAL AND AN EQUIPMENT FOR PRODUCING THE SAME_+++A_B_D_F_G_L_c+++.docx
2026-07-03 01:19
2012-09-05_EP2493812A_发明公开_EP2493812A1 A METHOD OF PRODUCING NANO-SIZE GRAPHENE-BASED MATERIAL AND AN EQUIPMENT FOR PRODUCING THE SAME_+++A_B_D_F_G_L+++.docx
2026-07-03 01:19
2012-10-25_US2012270108A_发明申请_US20120270108A1 ANODE ACTIVE MATERIAL, ANODE AND LITHIUM BATTERY INCLUDING THE MATERIAL, AND METHOD OF PREPARING THE MATERIAL_+++a_b_c_d_f_g_h+++.docx
2026-07-03 01:19
2012-11-15_JP2012227147A_发明专利_JP2012227147A Negative electrode active material, negative electrode and lithium battery including the negative electrode active material, and method of producing the neg_+++a_b_c_d_f_g_h_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2013-03-18_KR1020130027768A_发明公开_KR1020130027768A 고압 분산 장치_+++A_C_D_L_b+++.docx
2026-07-03 01:19
2013-05-22_KR101264316B_发明授权_KR101264316B1 전단응력을 이용한 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액의 제조방법 및 이에 의해 제조된 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액_+++a_b_c_d_f_g_h_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2013-12-06_KR101337970B_发明授权_KR101337970B1 나노 크기의 그래핀 구조 물질의 제조방법 및 그 제조장치_+++A_B_D_F_G_L+++.docx
2026-07-03 01:19
2014-06-26_WO2014097234A_发明申请_WO2014097234A2 HOMOGENISING PROCESS AND APPARATUS WITH FLOW REVERSAL_+++A_B_C_D_f_g_h_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2014-06-30_JP2014118315A_发明专利_JP2014118315A Flaky graphite production device, and method for producing the same_+++B_H_L_M_a_f+++.docx
2026-07-03 01:19
2014-09-17_CN102471068B_发明授权_CN102471068B 纳米尺寸的石墨烯类材料的制造方法及其制造设备_+++A_B_C_D_F_G_L+++.docx
2026-07-03 01:19
2014-10-27_KR101455040B_发明授权_KR101455040B1 초고압 균질기를 이용한 연속식 금속산화물 나노입자의 제조 장치 및 이를 이용한 제조 방법_+++C_D_a_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-01-07_JP5649979B_发明专利_JP5649979B2 黒鉛のナノプレートレットおよび組成物_+++A_F_H_L+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-03-03_US8968695B_发明授权_US08968695B2 Method of producing nano-size graphene-based material and an equipment for producing the same_+++A_B_C_D_F_G_L+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-03-09_KR101499530B_发明授权_KR101499530B1 초고압 균질기를 이용한 천연고분자의 저분자화 방법_+++A_C_D_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-06-11_US2015158729A_发明申请_US20150158729A1 Method for Manufacturing Nano-Graphene Sheets_+++M_a_b_c_d_f_g_h_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-07-02_WO2015099378A_发明申请_WO2015099378A1 그래핀의 제조 방법과, 그래핀의 분산 조성물_+++A_C_D_F_G_H_M_b_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-07-02_WO2015099457A_发明申请_WO2015099457A1 그래핀의 제조 방법_+++A_C_D_F_G_H_M_b_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-07-06_KR1020150076093A_发明公开_KR1020150076093A 그래핀의 제조 방법과, 그래핀의 분산 조성물_+++A_C_D_F_H_M_b_g_l+++.docx
2026-07-03 01:19
2015-07-06_KR1020150076105A_发明公开_KR1020150076105A 그래핀의 제조 방법_+++A_B_C_D_F_G_H_M_l+++.docx
2026-07-03 01:19
WO2011019184A2_Description_20260621_2245_+++A_B_D_F_G_L_c+++.docx
2026-07-03 01:19
2007-08-14_KR1020070081004A_发明公开_KR20070081004A MICRO-SLOT FOR INTERACTION CHAMBER AND HIGH PRESSURE MILLING APPARATUS THEREWITH_+++C_D_K_a_l+++.docx

对比文件名称:2007-08-14_KR1020070081004A_发明公开_KR20070081004A MICRO-SLOT FOR INTERACTION CHAMBER AND HIGH PRESSURE MILLING APPARATUS THEREWITH

目标专利名称:1673包括优化出口的片材剥离装置CN107921440B

本次调用的模型名称:GPT-4

## 特征比对表格

第一栏:技术特征描述及公开性判断结果第二栏:对比文件原文引用(翻译成中文)第三栏:公开性论述
**技术特征A**:所述片材剥离装置包括:入口,片材供应到所述入口中。**[24]**:“高压分散机(100)包括入口(10)、增压室(20)、压力表(30)、反应室(40)及出口(50)。”<br>**[57]**:“本发明的高压分散机(200)包括入口(10),投入陶瓷浆料。”对比文件明确公开了入口(유입구10),该入口用于投入物料。其作用与目标专利入口相同,均为向装置内部供应待处理材料。尽管对比文件中的物料为陶瓷浆料而非片材,但入口的结构和功能完全一致,本领域技术人员可以毫无疑义地确定该入口同样适用于供应片材(如石墨),因此该技术特征被对比文件隐含公开。
**技术特征B**:高压泵,位于所述入口的前端,并产生用于对所述片材加压的压力。**[25]**:“陶瓷浆料混合物投入入口(10),利用压力泵在增压室(20)中压力上升。”<br>**[26]**:“增压室(20)中压力可升至最大25,000psi。”对比文件公开了压力泵和增压室用于加压,但其位置描述为“在增压室(20)中压力上升”,且装置流程为:入口→增压室→反应室,即增压室位于入口的后端(下游)。目标专利明确要求高压泵位于入口的前端(上游),两者在结构布局上存在本质差异。对比文件未给出任何将加压单元置于入口前端的提示,因此本领域技术人员不能从对比文件直接或隐含得出该特征。该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征C**:微通道,位于所述入口的后端,所述片材通过所述高压泵产生的压力穿过所述微通道,由此所述片材被均质化。**[45]**:“高压的陶瓷浆料被投入的入口管(41);与入口管(41)直径相比较小、在上游部与入口管(41)正交连通、在下游部分分支成多个管的反应管(42)。”<br>**[27]**:“反应室(40)……投入的浆料通过微槽(micro-slot)内部,受到剪切力而被分散。”对比文件中的反应管(42)即微通道,其直径小(10~50μm),物料在高压下通过时受剪切力实现均质化(分散)。该微通道位于入口管之后(即入口后端),且通过高压泵产生的压力驱动,与目标专利的技术方案相同。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征D**:出口,位于所述微通道的后端。**[45]**:“(反应管42下游)与分支后的反应管(42b)正交连通的多个出口管(43)。”<br>**[31]**:“通过出口管(43)的浆料与出口(40b)连通的排出口(50)向外部排出。”对比文件明确设有出口管(43)(即出口),其位于反应管(微通道)的下游(后端),物料通过微通道后经由出口排出。结构与目标专利一致。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征E**:其中,所述微通道的所述后端与从所述微通道的所述后端排出的所述片材所碰撞的出口壁面之间的最小距离(y,单位m)以及所述微通道的所述后端处的所述片材的速度(x,单位m/s)满足以下方程式1:[方程式1] y≥(2.7×10⁻⁵)x-(4.2×10⁻⁵)。**[53]**:“将出口管部分分支以降低流体速度,从而最小化作用于出口壁面的压力。”对比文件仅概括性地提到通过分支管降低流速来减小壁面压力,但完全没有涉及微通道后端与出口壁面之间的具体距离关系,更未给出任何数学公式或定量关系。本领域技术人员无法从对比文件中合理推导出或明确得到所述方程式。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征F**:所述方法包括以下步骤:1)将包含石墨的溶液供应到所述入口。**[25]**:“陶瓷浆料混合物投入入口(10)”。对比文件虽公开了向入口投入物料,但该物料为陶瓷浆料,而非“包含石墨的溶液”。目标专利明确限定用于石墨烯制备,对比文件未涉及石墨或石墨烯。因此,该技术特征未被对比文件直接或隐含公开。
**技术特征G**:2)用高压泵对所述入口施加压力以使包含石墨的所述溶液通过所述微通道。**[25]**:“利用压力泵在增压室(20)中压力上升,使浆料通过反应室(40)”。对比文件公开了通过高压泵加压使陶瓷浆料通过微通道,但未涉及石墨溶液。步骤中限定的物料为“包含石墨的溶液”,对比文件无任何关于石墨的记载。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征H**:3)从所述出口回收石墨烯分散体。**[31]**:“通过出口管(43)的浆料通过排出口(50)向外部排出”,回收陶瓷浆料分散体。对比文件回收的是陶瓷浆料分散体,并非“石墨烯分散体”。目标专利明确限定产物为石墨烯,对比文件未提及石墨烯。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征I**:其中,所述微通道的所述后端与从所述微通道的所述后端排出的所述片材所碰撞的出口壁面之间的所述最小距离(y)为0.001m至0.050m。对比文件全文未提及微通道后端与出口壁面最小距离的具体数值或范围。对比文件未公开任何关于该距离的数值,更未涉及0.001m至0.050m的具体范围。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征J**:其中,所述微通道的所述后端处的所述片材的所述速度(x)为10m/s至600m/s。对比文件全文未提及微通道后端处物料速度的具体数值或范围。对比文件未公开任何关于速度的数值,更未涉及10m/s至600m/s的具体范围。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征K**:其中,所述出口是圆柱形的,并且所述微通道的所述后端位于圆柱形的所述出口的侧面。**[45]**:“(反应管42)与出口管(43)正交连通”。<br>**[48]**:“反应管(42)与出口管(43)正交结合”。对比文件中出口管(43)为管状,管状结构通常即为圆柱形,且明确记载反应管(微通道)与出口管正交连通,即微通道后端位于出口管的侧面(因为正交)。因此,本领域技术人员可以直接确认出口为圆柱形且微通道后端位于其侧面。该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征L**:其中,装备有用于将所述片材供应到所述入口(10)的供应线。**[25]**:“陶瓷浆料混合物投入入口(10)”,但未明确提及供应线。对比文件虽然未用文字专门描述“供应线”,但任何实际的高压分散装置都必然具备将物料输送至入口的管线或类似结构。本领域技术人员从其公开的内容可以合理推断出装置必然配备有供应线,否则物料无法连续投入。因此,该技术特征被对比文件隐含公开。
**技术特征M**:其中,步骤2)的所述压力为100巴至3000巴。**[26]**:“当需要分散直径约0.3μm以下的粉末时,将压力设为15,000~25,000psi。”<br>注:15,000~25,000psi约合1,034~1,724巴。对比文件虽公开了压力数值范围(15,000~25,000psi),但该特征依附于步骤2)——“用高压泵对所述入口施加压力以使包含石墨的所述溶液通过所述微通道”。由于步骤2)本身未被公开(物料涉及石墨),且对比文件压力范围(1,034~1,724巴)仅为目标范围(100~3,000巴)的一部分,未完全覆盖端点值。因此,该技术特征整体上未被对比文件直接或隐含公开。

基于以上比对,对比文件直接公开了技术特征C、D、K,隐含公开了技术特征A、L。

<<<C>>><<<D>>><<<K>>><<<a>>><<<l>>>

权利要求与技术特征
Powered by Django

网站备案号:渝ICP备2023012882号


重庆市非显而易见网络科技有限责任公司 A Anti NPE NPE