2008-02-27_CN101131547A_发明公开_CN101131547A 处理基材的设备和方法_+++A_F+++.docx

对比文件的名称:2008-02-27_CN101131547A_发明公开_CN101131547A 处理基材的设备和方法

目标专利的名称:1830用于对物体进行湿处理的设备和方法及其中所用的流体扩散板和筒体CN102246277B

本次调用的模型名称:无

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用公开性论述
**特征A:所述流体扩散板包括**(《直接公开》)具体实施方式记载:“壳体220包括面向托盘12的上壁和大致上垂直于上壁向下延伸的侧壁。…壳体220内部限定空间。…扩散板240置于第一电极260上方限定的空间中”以及“在扩散板240上形成有多个扩散孔242”。对比文件明确公开了一种扩散板240,用于将源气体(气体属于流体)扩散到第一电极,该扩散板即为流体扩散板的一种。本领域技术人员可直接确定对比文件公开了流体扩散板,技术特征A被直接公开。
**特征B:内部空间**(未公开)对比文件未公开扩散板具有内部空间。对比文件中的扩散板240是实心板,仅作为分隔件将壳体内部空间划分成上缓冲区和下缓冲区,其自身不具有内部空间。因此未公开该特征。
**特征C:其由上表面、下表面和侧表面限定**(未公开)对比文件未公开扩散板具有由上表面、下表面和侧表面限定的内部空间。由于对比文件未公开扩散板具有内部空间,相应地未公开该内部空间由上下表面和侧表面限定。因此未公开该特征。
**特征D:流体供应单元**(未公开)具体实施方式记载了源气体管线29和供应孔222,用于将源气体供应到壳体220的上缓冲区223,但未公开与扩散板内部空间直接连接的流体供应单元。对比文件中的流体供应是供应到壳体内部,而非扩散板本身的内部空间,因此未公开用于将处理流体供应至扩散板内部空间的流体供应单元。
**特征E:其用于将处理流体供应至所述内部空间**(未公开)对比文件未公开将处理流体供应至扩散板内部空间。由于未公开扩散板具有内部空间,且无相应的供应单元,因此未公开该特征。
**特征F:其中贯穿所述上表面和所述下表面形成有多个通孔**(《直接公开》)具体实施方式记载:“在扩散板240上形成有多个扩散孔242”,并且图4、5示出扩散孔的形状,这些孔贯穿扩散板。对比文件明确公开了扩散板240上形成有多个扩散孔242,这些孔贯穿扩散板的上表面和下表面,使得气体可以通过。因此技术特征F被直接公开。
**特征G:使得所述通孔通过隔板与所述内部空间隔离;并且其中在所述上表面的未形成所述通孔的部分形成有穿过所述上表面与所述内部空间连通的多个流体排放孔**(未公开)对比文件未公开通孔通过隔板与内部空间隔离,也未公开流体排放孔。扩散孔242直接连通上缓冲区和下缓冲区,无隔板;扩散板上仅有扩散孔,无其他孔。对比文件中的扩散孔仅为简单的通孔,未设置隔板以与内部空间隔离,且未在上表面未形成通孔的部分设置与内部空间连通的流体排放孔。因此技术特征G未被公开。

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