对比文件的名称：1989-06-14_CN1033422A_发明公开_CN1033422A 实时全息记录介质
目标专利的名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728781B
本次调用的模型名称：大型语言模型（未指定具体名称）
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| A: 所述制造方法包括《直接公开》 | 实施例部分公开了制作工艺：“1.清洗片基，2.涂布：将3～4%的明胶涂布到玻璃版或聚脂膜上，膜厚为0.1～0.2mm，3.将8～10%的明胶溶液10～12ml及5%的聚乙烯醇溶液6～8ml与过滤后的感光层的组分均匀混合，4.将上述均匀混合物涂布在涂有明胶的玻璃版或聚脂膜上，温度为38°～40℃，涂布量根据所需感光层的厚度而变化，5.将上述涂布好的干版降温至4～8℃，6.将有冷凝层的介质在净化的空气中吹干（温度为25°～30℃）。…3.曝光后的实时处理工艺：把上述全息感光板用He‑Ne激光器（633nm）进行暴光，…”。 | 对比文件以实施例形式完整公开了从基片处理、涂布感光层、干燥到激光曝光的制造方法，因此直接公开了“所述制造方法包括”这一上位特征。 |
| B: 通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a) 《直接公开》 | 同上，步骤4：“将上述均匀混合物涂布在涂有明胶的玻璃版或聚脂膜上”。其中，均匀混合物包含丙烯酸等光聚合单体（光敏树脂），玻璃版或聚脂膜即为基底。 | 对比文件通过将光敏树脂混合物涂布在基底（玻璃版或聚脂膜）的一个表面上，形成光敏基底（涂有感光层的干版），与特征B完全相同，故直接公开。 |
| C: 通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b) 《未公开》 | 曝光工艺部分：“把上述全息感光板用He‑Ne激光器（633nm）进行暴光，具体光路如图2所示，透射光栅曝光量为10～15mJ/cm²”。图2示出了典型全息记录光路（激光器、分束镜、反射镜、扩束镜、准直镜、干版），但未指明激光从光敏基底的两个表面分别照射。 | 对比文件仅提及用激光曝光，未明确激光同时照射基底的一个表面和另一个表面（即双面照射）。根据图2常规透射全息光路，参考光和物光通常从同侧入射，本领域技术人员不能毫无疑义地得出双面照射的特征，也未有任何隐含暗示，因此未公开。 |
| D: 其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化《未公开》 | “涂布量根据所需感光层的厚度而变化”表明整体厚度可调，但无任何内容暗示涂层厚度在基底平面内沿某个方向逐渐或非均匀变化。 | 目标专利说明书（[0055]）明确指出“施加光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化”，而对比文件仅能调节整体涂布厚度，并未公开高度在空间上的变化，因此本特征未被公开。 |
| E: 所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上《隐含公开》 | 实施例1中感光层厚度为0.1～0.2mm，且曝光采用激光干涉形成透射光栅。 | 全息记录介质通常为体记录材料，干涉条纹贯穿整个感光层厚度。目标专利说明书（[0050]）亦强调“全息光栅记录在光敏树脂涂层的整个高度上”。本领域技术人员从对比文件均匀的感光层厚度和干涉曝光可以合理推断全息光栅记录在整个涂层高度内，故隐含公开。 |
| F: 所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加《未公开》 | 对比文件无任何涉及涂层高度或光栅高度沿方向变化的内容。 | 目标专利中全息光栅高度随涂层高度变化（[0050]‑[0051]），而对比文件未公开涂层高度变化，也未公开光栅高度变化，因此未公开。 |
| G: 所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加《未公开》 | 同上，无相关内容。 | 与特征F同理，对比文件未公开光栅高度逐渐增加，故未公开。 |
| H: 所述全息光栅具有相同的宽度《隐含公开》 | 曝光条件：He‑Ne激光，功率均匀，曝光量10～15mJ/cm²，且图2光路通常提供均匀的干涉场。 | 目标专利说明书（[0057]）指出在均匀照射条件下全息光栅具有“基本上相同的宽度”。对比文件曝光时激光强度和照射时间一致，本领域技术人员可以合理推断所记录的全息光栅条纹宽度（横向尺寸）基本相同，因此隐含公开。 |
| I: 其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处《未公开》 | 对比文件涂布步骤均采用“涂布”方法，未提及喷涂。 | 目标专利的喷涂方案（说明书[0059]）与对比文件的涂布方式不同，对比文件未公开喷涂步骤。 |
| J: 喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化《未公开》 | 无喷涂相关记载。 | 特征I未公开，相应位置变化量自然也未被公开。 |
| K: 其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)《未公开》 | 对比文件无浸入容器步骤。 | 对比文件采用涂布法，未采用浸涂法，因此未公开。 |
| L: 和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未涉及浸涂及分离步骤，故未公开。 |
| M: 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离《未公开》 | 无相关内容。 | 特征K、L未公开，本特征也不存在。 |
| N: 其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)《未公开》 | 对比文件未提及辅助基底。 | 目标专利中辅助基底（说明书[0063]）用于控制涂层厚度，对比文件无此结构及步骤。 |
| O: 和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)《未公开》 | 无相关内容。 | 特征N未公开，本特征亦未公开。 |
| P: 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者《未公开》 | 无相关内容。 | 特征N、O未公开，本特征未公开。 |
| Q: 其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂《未公开》 | 对比文件涂布时未提及倾斜基底。 | 目标专利的倾斜涂布方法（说明书[0066]）在对比文件中无对应内容，故未公开。 |
| R: 将所述光敏树脂干燥《直接公开》 | 制作工艺步骤6：“将有冷凝层的介质在净化的空气中吹干（温度为25°～30℃）”。 | 对比文件明确公开了将涂布后的介质进行吹干（干燥）的步骤，与特征R一致，因此直接公开。 |
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