**对比文件名称**：2008-03-20_US2008070120A_发明申请_US20080070120A1 Non-aqueous electrolyte secondary battery and making method
**目标专利名称**：1621制造锂二次电池用负极的方法CN110140239B
**模型名称**：GPT-4o（本次调用的模型名称）
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## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：其包含以下步骤<br>《直接公开》 | 对比文件[0009]公开：“在第二方面，本发明提供一种非水电解质二次电池的制造方法…所述方法包括在负极的至少正极侧形成含锂膜的步骤。” | 对比文件明确公开了制造电池的方法，该方法必然包含多个步骤，因此直接公开了“其包含以下步骤”这一方法限定。 |
| 技术特征B：i)将锂金属粉末和粘结剂分散在分散介质中<br>《直接公开》 | 对比文件[0031]公开：“向金属锂粉末、粘结剂和导电剂的混合物中加入选自N-甲基吡咯烷酮、甲苯、二甲苯、甲乙酮等的干燥溶剂，形成浆料。” | 该记载明确公开了将锂金属粉末和粘结剂（以及导电剂）加入溶剂（分散介质）中形成浆料，即实现了分散在分散介质中，因此直接公开。 |
| 技术特征C：以制备锂分散液<br>《直接公开》 | 对比文件[0031]公开：“…形成浆料。” 即制备得到锂粉、粘结剂和导电剂分散在溶剂中的浆料（锂分散液）。 | 由特征B的浆料直接得到锂分散液，对比文件公开了该制备步骤，因此直接公开。 |
| 技术特征D：ii)将所述锂分散液涂布在转移膜的一面<br>《隐含公开》 | 对比文件[0031]公开：“可选地，将该浆料形成为膜，然后将该含锂膜层压到负极上。” 但未指明在哪种基底上形成膜。 | 对比文件虽然未明确提及“转移膜”，但其公开了将浆料预制成独立膜随后层压到负极的方式。本领域技术人员为了形成独立膜，必然会使用临时载体（如转移膜）支撑，涂布干燥后再剥离转移；因此从对比文件的教导可以合理推断出该技术手段，故隐含公开。 |
| 技术特征E：以形成锂金属粉末的涂层<br>《直接公开》 | 对比文件[0031]公开：“将该浆料涂覆到负极并干燥…形成含锂膜。” 以及“将该浆料形成为膜”。 | 无论直接涂覆还是预制成膜，均形成了锂金属粉末的涂层（膜），因此直接公开。 |
| 技术特征F：和iii)使所述锂金属粉末的涂层与负极活性材料层接触<br>《直接公开》 | 对比文件[0031]公开：“可选地，将该浆料形成为膜，然后将该含锂膜层压到负极上。” 以及直接涂覆时涂层直接形成在负极活性材料层上。 | 直接涂覆时涂层已与负极活性材料层接触；层压方式中则通过层压使膜与负极活性材料层接触。故直接公开了接触步骤。 |
| 技术特征G：随后在非活性气体气氛中轧制<br>《未公开》 | 对比文件[0031]公开：“在露点为-40℃的氮气手套箱中，将该浆料涂覆到负极并干燥”，仅提及涂覆气氛；实施例中未对含锂膜进行轧制，也未公开轧制步骤和气氛。 | 对比文件没有公开任何对含锂膜进行轧制的步骤，亦未明确要求在非活性气体气氛中进行轧制。虽然涂覆在氮气中进行，但轧制是完全不同的操作，本领域技术人员不能从对比文件直接或合理推断出该技术特征。因此未公开。 |
| 技术特征H：以形成锂和负极活性材料的复合材料<br>《未公开》 | 对比文件[0033]公开：“在首次充电期间，形成在集流体上的锂分散到负极活性材料层内部”，即通过电化学活化形成合金，而非通过轧制形成复合材料。 | 对比文件形成锂与负极活性材料复合的方式是首次充电时的电化学嵌入，不是通过轧制复合。本领域技术人员无法从对比文件得到通过轧制形成复合材料的教导。因此未公开。 |
| 技术特征I：其中所述轧制使用辊压机进行<br>《未公开》 | 对比文件[0040]公开了使用辊压机压制负极活性材料层，但该辊压机并非用于含锂膜的轧制复合步骤。 | 对比文件虽然使用了辊压机，但仅用于成型负极活性材料层，与目标专利中用于形成复合材料的轧制步骤无关。因此未公开该技术特征。 |
| 技术特征J：使用的辊是非加热辊<br>《未公开》 | 对比文件全文未提及轧制辊的加热与否。 | 没有任何记载或暗示使用非加热辊，也未公开轧制步骤中辊的温度条件。因此未公开。 |
| 技术特征K：其中所述负极活性材料包含半金属氧化物或金属氧化物<br>《直接公开》 | 对比文件[0015]公开：“负极活性材料…包括硅…硅的氧化物…” 实施例1使用SiOₓ（x≈1.02），即硅的氧化物（半金属氧化物）。 | 对比文件明确公开了负极活性材料包含硅氧化物（半金属氧化物），因此直接公开。 |
| 技术特征L：在步骤iii)中形成锂和半金属氧化物或金属氧化物的复合材料<br>《未公开》 | 对比文件未公开步骤iii)（轧制）及其形成复合材料的方案；复合材料形成方式不同（首次充电）。 | 同特征H的论述，对比文件没有公开通过步骤iii)的轧制形成锂与半金属氧化物的复合材料。因此未公开。 |
| 技术特征M：其中所述半金属氧化物或金属氧化物是选自由Si、Sn、Zr、Mn、Ni、Fe、Ca、Ce、La、Cr、Al、Co、Sb、Bi、As、Ge、Pb、Zn、Cd、In、Ti、Cu、Bi、Mo和Ga构成的组中的至少一种的氧化物<br>《直接公开》 | 对比文件[0015]公开：“硅的氧化物”；实施例具体使用硅氧化物。Si属于该组。 | 对比文件公开了Si的氧化物，属于所列举的半金属/金属的至少一种，因此直接公开。 |
| 技术特征N：其中所述半金属氧化物或金属氧化物是选自由SiO、SnO和SnO₂构成的组中的至少一种<br>《直接公开》 | 对比文件实施例1使用SiOₓ（x≈1.02），即SiO（氧化亚硅）。 | 对比文件公开了SiO，属于该具体组，因此直接公开。 |
| 技术特征O：其中所述半金属氧化物或金属氧化物的表面涂布有无定形碳层<br>《直接公开》 | 对比文件[0038]公开：“在甲烷/氩气混合气流中于1150℃进行碳沉积…沉积碳含量22.0%”，得到表面沉积有碳的导电硅复合物。 | 该碳层通常为无定形碳（由CVD得到），且沉积在半金属氧化物表面，因此直接公开。 |
| 技术特征P：其中所述无定形碳层在其中包含导电材料<br>《未公开》 | 对比文件未公开在无定形碳层中额外添加导电材料；碳层本身作为导电成分存在。 | 对比文件没有教导在已形成的无定形碳层内进一步包含导电材料（如额外的碳纳米管、炭黑等），因此未公开。 |
| 技术特征Q：其中所述锂分散液以70:30至95:5的重量比包含所述锂金属粉末和所述粘结剂<br>《隐含公开》 | 对比文件[0029]公开：“粘结剂优选以每100重量份金属锂使用0.1至70重量份的量。” 即锂:粘结剂=100:0.1～100:70，换算后锂含量范围为58.8%～99.9%。 | 目标专利的70:30（锂含量70%）至95:5（锂含量95%）完全落入对比文件公开的宽范围（58.8%～99.9%）内。本领域技术人员可以根据需要在此宽范围内选择具体比例，从而合理得到目标专利的比例范围，因此隐含公开。 |
| 技术特征R：其中基于所述锂分散液的总重量，以10重量％至40重量％的量包含所述分散介质<br>《未公开》 | 对比文件[0031]仅提及加入溶剂形成浆料，未给出分散介质的含量比例。 | 对比文件未公开分散介质的任何具体含量范围，本领域技术人员无法直接或合理推断出10wt%～40wt%这一具体区间，因此未公开。 |
| 技术特征S：其中所述粘结剂包含选自由聚偏二氟乙烯‑六氟丙烯、聚偏二氟乙烯‑三氯乙烯、聚偏二氟乙烯‑三氟氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯‑乙酸乙烯酯、聚环氧乙烷、乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、氰乙基支链淀粉、氰乙基聚乙烯醇、氰乙基纤维素、氰乙基蔗糖、支链淀粉、羧甲基纤维素、丙烯腈‑苯乙烯‑丁二烯共聚物、聚酰亚胺、聚偏二氟乙烯、聚丙烯腈和丁苯橡胶构成的组中的至少一种<br>《直接公开》 | 对比文件[0029]公开粘结剂可选自“聚偏二氟乙烯、丁苯共聚物、聚四氟乙烯树脂、聚丁二烯橡胶、乙烯‑乙烯醇共聚物树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺‑酰亚胺树脂”。其中聚偏二氟乙烯和丁苯橡胶（SBR）明确落入目标专利列表。 | 对比文件公开的粘结剂种类中包含聚偏二氟乙烯和丁苯橡胶，这两者均属于目标专利所列举的组，因此直接公开。 |
| 技术特征T：其中所述分散介质包含选自由N‑甲基‑2‑吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲苯、庚烷、己烷、甲苯、丙酮、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、环己烷、二甲亚砜、乙腈、吡啶和胺类构成的组中的至少一种<br>《直接公开》 | 对比文件[0031]公开：“选自N-甲基吡咯烷酮、甲苯、二甲苯、甲乙酮等的干燥溶剂。” N-甲基吡咯烷酮（NMP）、甲苯、二甲苯均在目标专利列举的组中。 | 对比文件公开的溶剂包含NMP、甲苯、二甲苯，这些均属于目标专利所列的分散介质种类，因此直接公开。 |
| 技术特征U：其中所述转移膜包含选自由聚烯烃、聚乙烯醇类聚合物、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚苯醚、聚苯硫醚和纤维素衍生物构成的组中的至少一种<br>《未公开》 | 对比文件全文未提及转移膜，更未提及转移膜材料。 | 对比文件既未公开转移膜本身，也未公开其材料组成。因此未公开。 |
| 技术特征V：其中通过喷雾干燥进行所述涂布<br>《未公开》 | 对比文件[0031]和实施例均采用常规的浆料涂覆（如使用刮刀涂布），未采用喷雾干燥。 | 对比文件完全没有提及喷雾干燥工艺，本领域技术人员不能从中推断出该涂布方式。因此未公开。 |
| 技术特征W：其中步骤iii)中的所述轧制以0.3m/秒至2m/秒的压制速度进行<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何压制速度。 | 对比文件没有任何关于轧制或压制速度的内容，因此未公开。 |
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## 公开性代码
直接公开特征：A, B, C, E, F, K, M, N, O, S, T
隐含公开特征：D, Q
相应代码为：
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