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对比文件列表
1996-02-13_None_发明专利_JPH0840712A Production of dispersion liquid of carbon electric conductor powder_+++B_E_F_W_Z+++.docx
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2002-01-08_JP2002500428A_发明专利_JP2002500428A Alkaline battery having a positive electrode incorporating a reinforced graphite_+++J_K_w+++.docx
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2008-07-03_JP2008151773A_发明专利_JP2008151773A Method of mixture in microchannel_+++W_m_s+++.docx
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2009-09-03_WO2009106507A_发明申请_WO2009106507A2 GRAPHITE NANOPLATELETS AND COMPOSITIONS_+++I_N_O_Q_S_T_W_j_k_l_m_p_r_u_v+++.docx
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2009-11-05_WO2009134492A_发明申请_WO2009134492A2 FUNCTIONALIZED GRAPHENE SHEETS HAVING HIGH CARBON TO OXYGEN RATIOS_+++T_W+++.docx
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2010-01-01_TW201000398A_发明专利_TW201000398A 石墨奈米小板及組成物 GRAPHITE NANOPLATELETS AND COMPOSITIONS_+++I_N_O_Q_S_T_W_j_k+++.docx
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2010-02-04_US2010028681A_发明申请_US20100028681A1 Pristine and Functionalized Graphene Materials_+++W_o_q_s+++.docx
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2010-06-17_US2010147188A_发明申请_US20100147188A1 Graphite nanoplatelets and compositions_+++I_N_O_Q_S_T_W+++.docx
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2010-11-03_KR1020100117684A_发明公开_KR1020100117684A 흑연 나노판 및 조성물_+++I_N_O_Q_S_T_W_a_b_c_d_e_f_g_h_j_k_r_x_y_z+++.docx
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2010-12-22_EP2262727A_发明公开_EP2262727A2 GRAPHITE NANOPLATELETS AND COMPOSITIONS_+++I_N_O_Q_S_T_W+++.docx
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2011-04-07_JP2011510906A_发明专利_JP2011510906A Of high carbon-to-oxygen ratio functionalized graphene sheet_+++t_w+++.docx
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2011-04-28_JP2011513167A_发明专利_JP2011513167A Nanoplatelets and composition of graphite_+++I_J_K_N_O_S_T_W_q+++.docx
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2012-02-16_WO2012020099A_发明申请_WO2012020099A1 GROUND EXPANDED GRAPHITE AGGLOMERATES, METHODS OF MAKING, AND APPLICATIONS OF THE SAME_+++k_w+++.docx
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2012-05-07_KR101142525B_发明授权_KR101142525B1 그래핀을 이용한 플렉시블 디스플레이의 제조방법 그리고 이를 이용한 디스플레이_+++F_W_b_c_e+++.docx
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2013-01-14_KR1020130004638A_发明公开_KR1020130004638A 그래핀, 흑연 나노 플레이트의 혼합 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++B_I_L_M_N_O_R_S_T_W_X_c+++.docx
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2013-04-25_US2013101497A_发明申请_US20130101497A1 PROCESS FOR THE FORMATION OF FOLIATED FINE GRAPHITE PARTICLES_+++K_W+++.docx
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2013-05-22_KR101264316B_发明授权_KR101264316B1 전단응력을 이용한 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액의 제조방법 및 이에 의해 제조된 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액_+++B_E_F_W_c_x+++.docx
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2013-05-23_JP2013100219A_发明专利_JP2013100219A Method for producing flake-shaped fine graphite particles_+++K_W+++.docx
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2013-06-18_KR101274441B_发明授权_KR101274441B1 그래핀, 흑연 나노 플레이트의 혼합 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++B_I_L_M_N_O_R_S_T_W_X_c+++.docx
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2013-07-18_US2013180912A_发明申请_US20130180912A1 MATERIAL AND APPLICATIONS THEREFOR_+++W+++.docx
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2013-07-22_KR1020130083128A_发明公开_KR1020130083128A 그래핀 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++E_H_I_L_M_N_O_R_S_T_W_a_f+++.docx
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2014-01-01_CN103492317A_发明公开_CN103492317A 制备石墨烯的方法_+++W+++.docx
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2014-01-20_JP2014009151A_发明专利_JP2014009151A Method for producing thin-layer graphite or thin-layer graphite compound_+++A_B_C_D_E_F_H_I_W_X_Y_Z_g+++.docx
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2014-02-13_US2014044968A_发明申请_US20140044968A1 PROCESS FOR THE PREPARATION OF GRAPHENE_+++w+++.docx
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2014-04-10_WO2014053510A_发明申请_WO2014053510A1 GRAPHEN-HALTIGE SUSPENSION, VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG, GRAPHENPLÄTTCHEN UND VERWENDUNG_+++B_C_L_N_O_S_T_W_y_z+++.docx
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2014-04-30_CN102015529B_发明授权_CN102015529B 纳米石墨片和组合物_+++I_N_O_Q_S_T_W+++.docx
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2014-07-16_CN102026916B_发明授权_CN102026916B 具有高的碳氧比的官能化的石墨烯片_+++T_W+++.docx
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2014-11-12_JP5623293B_发明专利_JP5623293B2 高炭素対酸素比の官能化グラフェンシート_+++T_W+++.docx
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2014-12-03_CN104176727A_发明公开_CN104176727A 石墨烯悬浮溶液及其制作方法_+++R_W_a_f_o+++.docx
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2015-05-11_None_发明专利_JPWO2013122045A1 薄片化黒鉛の製造方法及び薄片化黒鉛_+++K_W+++.docx
2026-07-03 01:13
2014-01-01_CN103492317A_发明公开_CN103492317A 制备石墨烯的方法_+++W+++.docx

本次调用的模型名称:GPT-4

对比文件名称:2014-01-01_CN103492317A_发明公开_CN103492317A 制备石墨烯的方法

目标专利名称:1628利用高速均质化预处理和高压均质化制备石墨烯的方法CN107108226B

### 特征比对表格

第一栏:技术特征描述及公开性判断结果第二栏:对比文件原文引用第三栏:公开性论述
**A**: 包括:步骤1,对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化来制备进料溶液的步骤 **(未公开)**对比文件[0024]:“石墨可以为任何形式,但优选为天然石墨。” [0056]:“将…石墨粉末与…离子液混合和研磨达0.5-4小时。” 全文未提及高速均质化或进料溶液的制备。对比文件的方法采用将石墨与离子液直接混合研磨的步骤,未涉及高速均质化预处理,也未使用膨胀石墨(仅背景技术提及)。本领域技术人员无法从对比文件得出“对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化”的技术方案。
**B**: 步骤2,使所述进料溶液通过高压均质器的步骤 **(未公开)**对比文件全文未涉及高压均质器或使溶液通过高压均质器的步骤。[0056]仅提及研磨后通过离心、稀释等处理。对比文件通过研磨(手动、球磨等)实现剥离,没有使用高压均质器。步骤2的技术特征未被公开。
**C**: 所述高压均质器包括入口、出口以及连接在所述入口和所述出口之间并且具有微米级直径的微通道 **(未公开)**对比文件未描述任何高压均质器的结构。[0027]提及研磨机构(grinding mechanism),但属于不同类型的设备。对比文件中没有任何关于高压均质器入口、出口及微通道的记载,本领域技术人员不能由此得出该特征。
**D**: 其中,所述高速均质化通过以3000至8000rpm搅拌所述分散液来进行 **(未公开)**对比文件[0056]仅提及“以3000rpm的速度离心30分钟”用于分离,但未涉及高速均质化的搅拌转速。[0027]研磨时间提及但未给出转速。3000-8000rpm是高速均质化的特定参数,对比文件中只有离心转速3000rpm,与高速均质化搅拌无关,故未公开。
**E**: 其中,所述高速均质化进行0.5至3小时 **(未公开)**对比文件[0027]:“混合和研磨的总时间在0.1-4小时的范围内(例如0.3-4),优选为10分钟至2小时(例如0.5至2)。” 但这是研磨时间,非高速均质化时间。对比文件公开了研磨时间,但目标专利中的高速均质化时间是基于转子-定子设备,与研磨时间概念不同,不能直接等同,故未公开。
**F**: 并使用高速均质器进行搅拌 **(未公开)**对比文件[0027]列举研磨方式:“人力和研杵手动研磨、平面研磨或球磨、承压流体研磨和在液体混合物中的气流磨。” 未见高速均质器。“高速均质器”是特定设备,对比文件未提及,研磨机构与高速均质器结构原理不同,未公开。
**G**: 其中在高速均质器的转子和定子之间施加的剪切速率为>10^4秒^-1 **(未公开)**对比文件未提及剪切速率参数。仅在[0042]提到研磨时“剪切力将从石墨薄片中分离石墨烯层”,但未给出具体数值。对比文件没有公开任何剪切速率数值,更未涉及10^4秒^-1这一限定,故未公开。
**H**: 其中,所述膨胀石墨与所述分散剂的重量比为2.5至20 **(未公开)**对比文件[0056]:“50mg石墨粉末…与0.1-0.5mL的离子液混合。” 石墨与离子液为重量/体积比,且离子液不是目标专利定义的分散剂。对比文件未使用膨胀石墨,也未使用目标专利定义的分散剂,其比例关系无法与2.5-20的比值对应,未公开。
**I**: 其中,所述膨胀石墨在所述分散液中的浓度为0.5重量%至5重量% **(未公开)**对比文件未提及膨胀石墨的浓度,也未系统配制分散液。对比文件没有公开膨胀石墨在分散液中的浓度范围,也未公开使用膨胀石墨,故未公开。
**J**: 其中,所述膨胀石墨的振实密度为0.01至0.5g/cm³ **(未公开)**对比文件未提及振实密度。全文仅一次提及“膨胀石墨”在背景技术[0005]中,但未定义其物理性质。对比文件没有记载膨胀石墨的振实密度参数,本领域技术人员无法获知该特征。
**K**: BET表面积为5至50m²/g **(未公开)**对比文件未提及BET表面积。对比文件没有任何关于膨胀石墨BET表面积的记载,故未公开。
**L**: 其中,所述分散剂是芘类低分子量衍生物 **(未公开)**对比文件使用的分散介质为离子液(BMIMPF₆)[0040],不属于芘类衍生物。全文未提及芘类低分子量衍生物。目标专利中的分散剂种类未在对比文件中出现,本领域技术人员不能由对比文件得出该特征。
**M**: 纤维素聚合物 **(未公开)**对比文件未提及纤维素聚合物。纤维素聚合物作为分散剂未在对比文件中记载。
**N**: 阳离子表面活性剂 **(未公开)**对比文件使用的离子液(咪唑阳离子)可能具有表面活性,但目标专利的阳离子表面活性剂指传统表面活性剂,离子液不属于该范畴。且对比文件未明确其为阳离子表面活性剂。对比文件未公开阳离子表面活性剂作为分散剂。
**O**: 阴离子表面活性剂 **(未公开)**对比文件未提及阴离子表面活性剂。对比文件未记载任何阴离子表面活性剂。
**P**: 正十二烷基b‑D‑麦芽糖苷 **(未公开)**对比文件未提及该物质。该具体分散剂未在对比文件中出现。
**Q**: 两性表面活性剂 **(未公开)**对比文件未提及两性表面活性剂。对比文件未公开两性表面活性剂。
**R**: 聚乙烯吡咯烷酮类聚合物 **(未公开)**对比文件未提及聚乙烯吡咯烷酮。对比文件未记载该聚合物分散剂。
**S**: 聚氧化乙烯类聚合物 **(未公开)**对比文件未提及聚氧化乙烯类聚合物。对比文件未公开该分散剂。
**T**: 环氧乙烷‑环氧丙烷共聚物 **(未公开)**对比文件未提及该共聚物。对比文件未记载该物质。
**U**: 丹宁酸 **(未公开)**对比文件未提及丹宁酸。对比文件未公开丹宁酸。
**V**: 多种多环芳烃氧化物的混合物,其是含有60重量%以上的量的分子量为300至1000的多环芳烃氧化物的混合物 **(未公开)**对比文件未提及多环芳烃氧化物混合物。该具体分散剂组合未在对比文件中记载。
**W**: 其中,所述分散液的溶剂是选自水、NMP、丙酮、DMF、DMSO、CHP、N12P、苯甲酸苄酯、N8P、DMEU、环己酮、DMA、NMF、溴苯、氯仿、氯苯、苄腈、喹啉、二苄醚、乙醇、异丙醇、甲醇、丁醇、2‑乙氧基乙醇、2‑丁氧基乙醇、2‑甲氧基丙醇、THF、乙二醇、吡啶、N‑乙烯基吡咯烷酮、甲基乙基酮(丁酮)、α‑萜品醇、甲酸、乙酸乙酯和丙烯腈中的一种或多种 **(直接公开)**[0056]:“然后将该混合物加入15mL的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)和15mL的丙酮的溶液中”,“在1L的DMF中稀释得到的沉淀物”。对比文件明确使用了DMF和丙酮作为溶剂(在清洗和稀释步骤中),这两种溶剂均属于目标专利溶剂列表中的选项。本领域技术人员可直接确定对比文件公开了使用DMF和丙酮作为分散液溶剂,故直接公开。
**X**: 其中,所述进料溶液中的膨胀石墨在施加剪切力下通过微通道时被剥离,从而制备石墨烯 **(未公开)**对比文件[0042]:“当石墨薄片与离子液进行研磨时,剪切力将从石墨薄片中分离石墨烯层。” 但该剪切力来自研磨,而非通过微通道。对比文件通过研磨产生剪切力剥离石墨烯,未涉及微通道,该特征未被公开。
**Y**: 其中,所述微通道的直径为50至300μm **(未公开)**对比文件未提及微通道及其直径。对比文件没有公开任何微通道直径参数。
**Z**: 其中,所述进料溶液被引入到施加500至3000巴的压力下的所述高压均质器的入口并通过所述微通道 **(未公开)**对比文件未涉及高压均质器,也未提及压力范围。对比文件没有公开500-3000巴的压力条件或高压均质器的使用。

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