对比文件的名称：2010-07-15_KR1020100081773A_发明公开_KR1020100081773A 유기 발광 표시 장치
目标专利的名称：1585基板CN110770646B
本次调用的模型名称：未指定
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 | |
| **技术特征A：包括基础层** | **《直接公开》** | **对比文件[50]记载：“第1基板构件由玻璃、石英、陶瓷、塑料等形成的绝缘性基板构成。”** | 对比文件公开了作为基板的基础层（第1基板构件），其实质与目标专利的基础层相同，均为支撑元件的基础结构。虽然对比文件用于OLED显示装置，但基础层的本质无差别，本领域技术人员能毫无疑义地确定对比文件公开了基础层这一特征。 |
| **技术特征B：和设置在所述基础层上的复数个间隔物** | **《直接公开》** | **对比文件[33]记载：“显示基板还包括像素定义膜、光散射间隔物及散射覆盖层。”；[35]记载：“光散射间隔物形成在像素定义膜上。即，光散射间隔物形成在非发光区域。光散射间隔物起保持显示基板与密封构件之间的间隔的作用。”；[37]记载：“此外，光散射间隔物可以形成在像素定义膜上均匀分布或不均匀分布。”** | 对比文件明确公开了在基板（基础层）上通过像素定义膜（中间层）设置有多个光散射间隔物，这些间隔物用于保持基板与密封构件之间的间隙，相当于目标专利中设置在基础层上的复数个间隔物。其作用（保持间隙）与目标专利中间隔物的基本功能一致，因此直接公开。 |
| **技术特征C：其中每个间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物** | **《直接公开》** | **对比文件[13]记载：“所述光散射间隔物可以包括棱锥台、棱柱、圆锥台、圆柱、半球及半扁球中的一种或多种形状。”** | 对比文件明确将“半球”列为间隔物的可选形状之一。当采用半球形时，间隔物的顶部自然形成半球形部分（半球形凸起），即间隔物被制作为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物。本领域技术人员可直接、毫无疑义地从对比文件得出该形状特征，因此直接公开。 |
| **技术特征D：其中所述半球形部分为所述间隔物的包含弯曲形状的部分** | **《直接公开》** | **对比文件[13]记载：“光散射间隔物可以包括半球及半扁球中的一种或多种形状。”**（半球形本身即为弯曲形状） | 半球形的几何本质即包含弯曲形状的曲面，对比文件公开的半球形必然具有弯曲的截面轨迹，该弯曲部分即为间隔物的半球形部分。无需进一步推理即可确定，因此直接公开。 |
| **技术特征E：其中所述弯曲形状的截面具有最大曲率为150mm⁻¹或更小的轨迹** | （未公开） | 对比文件未记载任何关于弯曲形状截面曲率的数值或范围。全文未出现“曲率”“150mm⁻¹”等相关描述。 | 对比文件仅提及半球形形状，但未对半球形的弯曲程度（曲率）作出任何限定或数值公开，也不涉及150mm⁻¹的曲率上限。本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含得出该具体数值特征，因此未公开。 |
| **技术特征F：其中所述间隔物中的每个间隔物为包括所述半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物** | （未公开） | 对比文件[13]列举的隔离物形状包括“圆柱”和“半球”等，但均为独立选项，未公开二者结合的柱状下半球顶结构。 | 对比文件仅分别给出柱状（圆柱、棱柱）和半球形，但未教导在同一个间隔物上同时具有柱状主体和半球形顶部的组合形式。目标专利要求的“包括半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物”（即总高度超出半球形部分高度）是一种特定复合形状，对比文件未给出任何启示，因此未公开。 |
| **技术特征G：其中所述半球形部分的高度在5μm至20μm的范围内；并且中相对于所述基础层的总面积，被所述间隔物占据的面积比率为20%或更小** | （未公开） | 对比文件未记载半球形部分的高度尺寸，也未提供间隔物占据面积的比率数据。仅[43]-[44]提及基板与密封构件之间的间隙，但无具体数值。 | 对比文件未涉及任何关于半球形部分高度（5‑20μm）及间隔物面积比率（≤20%）的限定，说明书中无相关教导，本领域技术人员无法从中得出该尺寸和比率特征，因此未公开。 |
| **技术特征H：其中，所述复数个间隔物的标准间距为P，当在所述基础层的表面上任选地选择具有10P作为一条边长度的两个或更多个正方形区域时，存在于每个正方形区域中的间隔物的数量的标准偏差为2或更小** | （未公开） | 对比文件[37]仅提到间隔物可以“均匀分布或不均匀分布”，但无标准间距P、正方形区域选择、标准偏差等任何统计学描述。 | 目标专利通过标准偏差量化间隔物的分布均匀性，对比文件仅泛泛提及均匀或不均匀，无具体统计参数和判定方法。本领域技术人员不能从对比文件推导出标准偏差≤2的特征，因此未公开。 |
| **技术特征I：其中所述复数个间隔物布置为使得相邻间隔物之间的间距的分布由间隔正态分布图表示** | （未公开） | 对比文件全文未出现“正态分布图”“间隔正态分布”或类似统计分布概念。 | 目标专利要求间隔物间距的分布由特定的正态分布图表示，对比文件无任何与分布图相关的记载，本领域技术人员无法从对比文件得出该布置方式，因此未公开。 |
| **技术特征J：其中，在所述间隔正态分布图中，相邻间隔物之间的间距表示在所述间隔正态分布图的X轴上并且具有给定间距的相邻间隔物的比率表示在所述间隔正态分布图的Y轴上** | （未公开） | 对比文件未涉及间隔正态分布图的坐标定义。 | 对比文件未公开任何正态分布图及其坐标轴设定，因此本领域技术人员无法获得该特征，未公开。 |
| **技术特征K：其中具有给定间距的相邻间隔物的比率的总和为1；并且中所述复数个间隔物设置成使得所述间隔正态分布图的半高宽为0.5μm至1,000μm以及所述间隔正态分布图的最大高度小于1** | （未公开） | 对比文件未提及比率总和、半高宽或最大高度等参数。 | 对比文件完全没有涉及间隔正态分布图及其相关统计学参数（半高宽、最大高度），因此未公开。 |
| **技术特征L：其中所述轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹** | （未公开） | 对比文件[13]虽提及“半扁球”，但未明确其顶部具有曲率为0的平坦部分；一般半扁球仍为弯曲表面。 | 目标专利的半球形部分可具有平坦顶部（曲率为0的线性轨迹），对比文件未提及间隔物顶部是否存在平坦区域，也未给出任何相关教导。虽然“半扁球”可能近似扁平，但曲率并不为零，故不能认为公开了曲率为0的轨迹，未公开。 |
| **技术特征M：其中所述半球形部分的宽度在2μm至40μm的范围内** | （未公开） | 对比文件未公开间隔物（尤其是半球形部分）的宽度尺寸。 | 对比文件未对间隔物的宽度（如直径）设定任何数值范围，本领域技术人员无法得知半球形部分的宽度为2‑40μm，因此未公开。 |
| **技术特征N：其中在所述间隔物的底部形成其中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状的渐缩部分** | （未公开） | 对比文件未描述间隔物底部具有渐缩形状或截面曲率中心位于外部的弯曲部分。 | 目标专利的间隔物底部存在特殊的渐缩部分，对比文件全文未提及间隔物底部的具体形状，更没有渐缩部分的定义，因此未公开。 |
| **技术特征O：其中配向膜形成在所述基础层和所述间隔物上；并且中形成在所述间隔物上的所述配向膜的顶部具有半球形** | （未公开） | 对比文件涉及OLED装置，未使用液晶配向膜；其结构包含像素定义膜、发光层、公共电极、散射覆盖层等，但没有配向膜。 | 对比文件未公开任何配向膜，也没有配向膜形成在间隔物顶部并具有半球形的技术内容。配向膜是液晶显示领域特征，对比文件不涉及液晶，故未公开。 |
| **技术特征P：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的截面轨迹的最大曲率为2,000mm⁻¹或更小** | （未公开） | 对比文件无配向膜，亦无配向膜半球形部分的曲率参数。 | 在未公开配向膜的前提下，相关曲率数值更无从谈起，因此未公开。 |
| **技术特征Q：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的所述截面轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹** | （未公开） | 对比文件无配向膜，也未提及顶部的平坦部分。 | 与技术特征P同理，未公开配向膜及其形状细节，故未公开。 |
| **技术特征R：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的高度在1μm至50μm的范围内** | （未公开） | 对比文件未公开配向膜及其高度。 | 对比文件不包含配向膜，也无配向膜高度的数值范围，因此未公开。 |
| **技术特征S：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的宽度在1μm至80μm的范围内** | （未公开） | 对比文件未公开配向膜及其宽度。 | 理由同上，未公开。 |
| **技术特征T：当任选地选择所述复数个间隔物中的三个、四个或六个间隔物时** | （未公开） | 对比文件[37]仅提到间隔物可均匀或不均匀分布，未涉及选择特定数量间隔物构成闭合图形的操作。 | 目标专利定义了选择间隔物数量来构造闭合图形，对比文件无此概念，本领域技术人员无法得出该特征，未公开。 |
| **技术特征U：条件是当选择选定的间隔物以形成作为闭合图形的三角形、四边形或六边形时** | （未公开） | 对比文件未提及间隔物排列形成三角形、四边形或六边形等闭合图形。 | 对比文件无任何关于闭合图形的教导，未公开。 |
| **技术特征V：在所述闭合图形中不存在其他间隔物** | （未公开） | 对比文件未涉及闭合图形及其内部是否存在其他间隔物的条件。 | 对比文件未公开闭合图形内部无其他间隔物的要求，因此未公开。 |
| **技术特征W：所述间隔物设置成使得所述三角形、所述四边形或所述六边形中的边的长度中的至少一者不同** | （未公开） | 对比文件仅提及间隔物可均匀或不均匀分布，但未具体到闭合图形边长不同的特征。 | 目标专利要求闭合图形边长不完全相同，对比文件未给出任何边长差异的具体教导，因此未公开。 |
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