对比文件名称：2017-03-08_CN106483670A_发明公开_CN106483670A 偏振控制面板及其制造方法和使用其的立体显示装置
目标专利名称：1585基板CN110770646B
本次调用的模型名称：当前AI模型
特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：基础层 《直接公开》 | [0032]-[0033]：“第一基板100和第二基板200由塑料膜制成”。 | 对比文件公开了第一基板100，其作为支撑层，相当于本申请的基础层，因此该技术特征被直接公开。 |
| 技术特征B：和设置在所述基础层上的复数个间隔物 《直接公开》 | [0038]：“透镜层120可以具有弯曲的表面，其中抛物线形状、非球面形状，或者包括半圆形状的球面形状的一部分在截面内周期性地重复。” | 对比文件公开了在第一基板100上形成透镜层120，透镜层包括多个周期性重复的凸透镜单元，这些凸透镜单元相当于复数个间隔物，因此该技术特征被直接公开。 |
| 技术特征C：其中每个间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物 《直接公开》 | [0038]：“包括半圆形状的球面形状的一部分”。 | 对比文件公开了透镜单元为包括半圆形状（即半球形）的弯曲表面，每个透镜单元的顶部具有半球形部分，相当于半球形间隔物，因此该技术特征被直接公开。 |
| 技术特征D：其中所述半球形部分为所述间隔物的包含弯曲形状的部分 《直接公开》 | [0038]：“弯曲的表面”。 | 对比文件公开了透镜层具有弯曲表面，即半球形部分包含弯曲形状，因此该技术特征被直接公开。 |
| 技术特征E：其中所述弯曲形状的截面具有最大曲率为150mm⁻¹或更小的轨迹 《未公开》 | 对比文件未记载曲率数值。 | 对比文件未公开透镜弯曲表面的具体曲率值，尤其是未公开最大曲率≤150mm⁻¹的轨迹，本领域技术人员不能毫无疑义地得出该特征，也未隐含公开。 |
| 技术特征F：其中所述间隔物中的每个间隔物为包括所述半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物 《未公开》 | 对比文件未记载柱状结构。 | 对比文件的透镜层直接形成在基板上，只有弯曲表面，没有额外的柱状部分。本领域技术人员不能从对比文件得出柱状间隔物，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征G：其中所述半球形部分的高度在5μm至20μm的范围内；并且相对于所述基础层的总面积，被所述间隔物占据的面积比率为20％或更小 《未公开》 | 对比文件未记载具体高度和面积比率。 | 对比文件没有给出透镜半球形部分的高度范围，也没有给出透镜占据的面积比率，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征H：其中，所述复数个间隔物的标准间距为P，当在所述基础层的表面上任选地选择具有10P作为一条边长度的两个或更多个正方形区域时，存在于每个正方形区域中的间隔物的数量的标准偏差为2或更小 《未公开》 | 对比文件未记载标准间距、标准偏差等。 | 对比文件未涉及间隔物的排列密度、标准偏差等参数，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征I：其中所述复数个间隔物布置为使得相邻间隔物之间的间距的分布由间隔正态分布图表示 《未公开》 | 对比文件未记载正态分布图。 | 对比文件未涉及间距分布图或正态分布，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征J：其中，在所述间隔正态分布图中，相邻间隔物之间的间距表示在所述间隔正态分布图的X轴上并且具有给定间距的相邻间隔物的比率表示在所述间隔正态分布图的Y轴上 《未公开》 | 对比文件未记载。 | 对比文件没有公开任何分布图定义，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征K：其中具有给定间距的相邻间隔物的比率的总和为1；并且所述复数个间隔物设置成使得所述间隔正态分布图的半高宽为0.5μm至1,000μm以及所述间隔正态分布图的最大高度小于1 《未公开》 | 对比文件未记载。 | 对比文件未公开关于分布图半高宽、最大高度等参数，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征L：其中所述轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹 《未公开》 | 对比文件未记载。 | 对比文件透镜弯曲表面为连续弯曲，未提及包括平坦部分（曲率为0），该技术特征未被公开。 |
| 技术特征M：其中所述半球形部分的宽度在2μm至40μm的范围内 《未公开》 | 对比文件未记载具体宽度。 | 对比文件未公开半球形部分的宽度数值范围，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征N：其中在所述间隔物的底部形成其中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状的渐缩部分 《未公开》 | 对比文件未记载渐缩部分。 | 对比文件透镜底部为平坦，没有渐缩弯曲形状，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征O：其中配向膜形成在所述基础层和所述间隔物上；并且形成在所述间隔物上的所述配向膜的顶部具有半球形 《未公开》 | [0047]：“粘合剂层220，通过在其表面上摩擦和固化工艺，可以作为配向膜和粘合剂层，由此在偏振控制面板中使用的配向膜也可以省略”。 | 对比文件明确省略配向膜，用粘合剂层代替，且粘合剂层形成在第二基板上并粘附到透镜层最上部，并非形成在基础层和间隔物上。因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征P：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的截面轨迹的最大曲率为2,000mm⁻¹或更小 《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件没有公开配向膜及其曲率，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征Q：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的所述截面轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹 《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开配向膜，也未公开其轨迹包含曲率为0，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征R：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的高度在1μm至50μm的范围内 《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开配向膜高度范围，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征S：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的宽度在1μm至80μm的范围内 《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开配向膜宽度范围，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征T：当任选地选择所述复数个间隔物中的三个、四个或六个间隔物时 《未公开》 | 对比文件未涉及。 | 对比文件没有公开关于选择间隔物形成闭合图形的技术内容，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征U：条件是当选择选定的间隔物以形成作为闭合图形的三角形、四边形或六边形时 《未公开》 | 对比文件未涉及。 | 对比文件没有公开形成闭合图形的条件，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征V：在所述闭合图形中不存在其他间隔物 《未公开》 | 对比文件未涉及。 | 对比文件没有公开闭合图形内无其他间隔物的限定，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征W：所述间隔物设置成使得所述三角形、所述四边形或所述六边形中的边的长度中的至少一者不同 《未公开》 | 对比文件透镜排列为周期等间距，各边长相同。 | 对比文件中透镜阵列周期排列，所有间距相等，因此不可能实现边长至少一者不同，该技术特征未被公开。 |
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