**对比文件的名称：** EP0804397B1 OXYGENATES AND PROCESSES FOR THEIR MANUFACTURE
**目标专利的名称：** CN114401940B 加氢甲酰化方法
**本次调用的模型名称：** DeepSeek（大语言模型）
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## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译，标注段落标号） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：该方法包括，加氢甲酰化，通过在用于加氢甲酰化反应的催化剂组合物的存在下使粗‑C5进料与合成气反应来制备醛<br>《未公开》 | 对比文件未记载“粗‑C5进料”这一特定原料。对比文件涉及的是乙烯与高级烯烃（C5~C20）的混合物，例如[0013]段：“本发明特别适用于处理乙烯和更高级的、C5至C20的烯烃的混合物。”[0014]段：“高级烯烃可以特别提到单一异构体的烯烃进料，例如1‑戊烯、1‑己烯及其更高级的同系物，或主要为相同碳数的直链和支链异构体的混合物。”未见使用由石脑油裂化中心（NCC）直接得到的粗‑C5馏分。 | 对比文件未公开“粗‑C5进料”这一概念，其原料为经纯化或特定组成的单烯烃或其混合物，不包含二烯等，且未指明来源于NCC工艺。因此，技术特征A未被对比文件直接或隐含公开。 |
| **技术特征B**：其中，所述用于加氢甲酰化反应的催化剂组合物包含磷系配体、由下面化学式1表示的过渡金属化合物和溶剂<br>《未公开》 | 对比文件主要采用钴催化剂，未提及磷系配体。例如[0022]段：“然而，在本发明的加氢甲酰化方法中，有利地使用钴催化剂。”[0029]段列举了各种溶剂和催化剂前体，未涉及任何磷配体。背景中提到[0028]段“油溶性膦改性铑催化剂”，但这是现有技术，并非本发明实施方式。 | 对比文件明确选择钴催化剂（如羰基钴），整体方案未涉及磷系配体。磷系配体是目标专利催化剂组合物的必要成分，对比文件未公开其使用，因此技术特征B未被公开。 |
| **技术特征C**：所述溶剂包括四甘醇二甲醚(TEGDME)、1,2,4‑三甲基苯和枯烯中的一种或更多种类型<br>《直接公开》 | [0029]段：“也可以将催化剂以在油性溶剂或这类溶剂的混合物中的溶液形式引入，所述油性溶剂或混合物例如脂肪烃和芳香烃（如庚烷、环己烷、甲苯）、酯（如邻苯二甲酸二辛酯）、醚和聚醚（如四氢呋喃和tetraglyme）、醛（如丙醛、丁醛或高级同系物）、醇（如丙醇、丁醇或高级同系物）或羰基合成产品醛的缩合产物。”其中“tetraglyme”即为四甘醇二甲醚（TEGDME）。 | 对比文件明确将“tetraglyme”（TEGDME）列为可用的溶剂实例，因此直接公开了目标专利权利要求C中所述的溶剂之一（四甘醇二甲醚）。由于权利要求C只要包含所述溶剂之一即满足，故本特征被直接公开。 |
| **技术特征D**：基于所述过渡金属化合物的总重量，所述粗‑C5进料的总重量比大于或等于100且小于或等于900，所述溶剂的总重量比为500至1,000<br>《未公开》 | 对比文件未记载基于过渡金属化合物重量的原料或溶剂比例。[0036]段指出：“当进料中存在高级烯烃时，不需要溶剂来形成液相”，表明溶剂的使用是可选的，且未给出具体重量比。 | 对比文件没有任何关于粗‑C5进料或溶剂相对于过渡金属化合物特定重量比的教导或暗示。目标专利限定的精确数值范围（并且是区别于现有技术的关键点）完全未被对比文件涉及。因此未公开。 |
| **技术特征E**：[化学式1] M(L1)x(L2)y(L3)z 在化学式1中，M是铑(Rh)、钴(Co)、铱(Ir)、钌(Ru)、铁(Fe)、镍(Ni)、钯(Pd)、铂(Pt)或锇(Os)，L1、L2和L3彼此相同或不同，并且各自独立地是氢、羰基(CO)、环辛二烯、降冰片烯、氯、三苯基膦(TPP)或乙酰丙酮(AcAc)<br>《直接公开》 | [0029]段：“有利地，催化剂是钴催化剂，例如氢化羰基钴或其前体之一，例如二钴八羰基（dicobaltoctacarbonyl）。”同时[0028]段背景中提及“油溶性膦改性铑催化剂”。 | 二钴八羰基[Co₂(CO)₈]（以及氢化羰基钴）是符合化学式1的典型化合物：M=Co，L=CO（也可含H），且整数配位数。目标专利说明书中明确将[Co₂(CO)₈]列为化学式1的实例。因此对比文件至少公开了一种由化学式1表示的过渡金属化合物，故技术特征E被直接公开。 |
| **技术特征F**：x、y、z各自独立地是0至5的整数，并且x、y、z不同时为0<br>《直接公开》 | 同上[0029]段，公开的二钴八羰基等化合物必然满足所述整数条件（例如Co(CO)₄中x=4，y=z=0）。 | 对比文件公开的具体钴羰基化合物的配位数均为整数且不为0，因此满足x、y、z的定义。该特征是对化学式1中基团的进一步数学限定，由于化学式1被公开，其内附的整数限定也随之公开。故直接公开。 |
| **技术特征G**：其中，所述粗‑C5进料是石脑油裂化中心(NCC)工艺的产物<br>《未公开》 | 对比文件未提及“石脑油裂化中心”或“NCC”工艺。原料来源可以是蒸汽裂解炉副产，但并未限定为石脑油裂化中心产物。 | 对比文件未公开原料具体来源，更没有指明是NCC工艺产物，因此未公开。 |
| **技术特征H**：所述粗‑C5进料包括末端单烯、内部单烯和二烯的混合物<br>《未公开》 | 对比文件涉及的C5+烯烃，一般为单烯烃或单烯烃的异构体混合物，未提及二烯。例如[0013]‑[0015]段只提到“olefin”“alkenes”，没有涉及二烯。 | 目标专利的粗‑C5进料明确含有二烯，且二烯含量较高，这是本发明的原料特点。对比文件未公开含有二烯的混合物，因此未公开。 |
| **技术特征I**：其中，基于所述末端单烯、内部单烯和二烯的混合物的总重量，二烯的含量为40重量％至80重量％<br>《未公开》 | 对比文件未记载任何二烯含量。 | 对比文件未涉及二烯，更未提及任何二烯重量百分比，因此未公开。 |
| **技术特征J**：其中，所述磷系配体包括1,2‑双(二苯基膦基)乙烷、4,5‑双(二苯基膦基)、三苯基膦和6,6'‑[(3,3'‑二叔丁基‑5,5'‑二甲氧基‑1,1'‑联苯‑2,2'‑二基)双(氧基)]双(二苯并[d,f][1,3,2]二氧杂膦)中的一种或更多种类型<br>《未公开》 | 对比文件未列出上述任何配体。提到磷系配体的唯一之处是[0028]段背景中的“油溶性膦改性铑催化剂”，但未具体到化学结构。 | 对比文件未公开本特征所列举的任何一种具体磷系配体，也未给出可使用这类配体的任何技术启示，故未公开。 |
| **技术特征K**：其中，所述过渡金属化合物包括羰基钴[Co2(CO)8]、乙酰丙酮二羰基铑[Rh(AcAc)(CO)2]、乙酰丙酮羰基三苯基膦铑[Rh(AcAc)(CO)(TPP)]、氢化羰基三(三苯基膦)铑[HRh(CO)(TPP)3]、乙酰丙酮二羰基铱[Ir(AcAc)(CO)2]、氢化羰基三(三苯基膦)铱[HIr(CO)(TPP)3]和氯(1,5‑环辛二烯)铑[Rh(COD)Cl2]中的一种或更多种类型<br>《直接公开》 | [0029]段：“催化剂是钴催化剂，例如氢化羰基钴或其前体之一，例如二钴八羰基（dicobaltoctacarbonyl）。”即羰基钴[Co₂(CO)₈]。 | 目标专利特征K所列化合物中明确包括“羰基钴[Co₂(CO)₈]”，对比文件直接公开了该化合物，因此至少公开了该特征的其中一种选择，故被直接公开。 |
| **技术特征L**：其中，所述加氢甲酰化在90℃以上的反应温度和15巴以上的反应压力下进行<br>《直接公开》 | [0030]段：“加氢甲酰化有利地在40至200℃的温度范围内进行，更有利地在80至180℃，优选在90至155℃。”<br>[0033]段：“反应有利地在0.05至50 MPa（绝压）的压力下进行，优选在约0.1至30 MPa的范围内。”15巴=1.5 MPa。 | 对比文件公开了90~155℃的温度范围（≥90℃），及0.05~50 MPa（0.5~500巴）的压力范围，明确涵盖15巴（1.5 MPa）以上。因此直接公开。 |
| **技术特征M**：其中，所述粗‑C5进料：所述合成气的摩尔比为95:5至5:95<br>《未公开》 | 对比文件[0034]段给出了烯烃（乙烯和高级烯烃总和）的摩尔百分比为“约0.1至35 mol%”，但未给出相对于合成气（CO+H₂）的具体摩尔比范围。 | 对比文件未公开烯烃（特别是粗‑C5）与合成气的摩尔比范围。目标专利的比例范围宽（5%~95%），对比文件的烯烃含量上限仅为35%，远低于95%，并且未以任何方式给出比例关系的教导。故未公开。 |
| **技术特征N**：其中，所述合成气包括一氧化碳和氢气，并且一氧化碳：氢气的摩尔比为5:95至70:30<br>《隐含公开》 | [0034]段：“有利地，在进料至羰基合成反应器的一氧化碳、氢气、乙烯和第二烯烃的摩尔比例保持如下：CO 1至50 mol%，优选1至35 mol%；H₂ 1至98 mol%，优选10至90 mol%”。 | 对比文件给出了CO和H₂在进料中的独立摩尔百分比范围（CO 1‑50%，H₂ 1‑98%），当进料中同时存在CO和H₂时，两者的摩尔比可以从1/98到50/1，该范围完全涵盖目标专利的5:95（≈0.053）至70:30（≈2.33）。本领域技术人员在阅读对比文件后，可以合理推断出可以使用CO:H₂摩尔比在所述范围内的合成气，因此隐含公开了该特征。 |
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**公开性代码总结：**
《直接公开》特征：C、E、F、K、L
《隐含公开》特征：N
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