对比文件名称：2006-10-26_JP2006292818A_发明专利_JP2006292818A Method for fabricating film, film structure, optical device, and screen
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
本次调用的模型名称：AI专利评估模型
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（日文及中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括<br>《直接公开》 | 【[2]】本発明の膜作製方法は、一方の面に膜材料を付着させる膜材料付着部を有する一対の略平板状の膜作製基材を前記面の裏側の面を向かい合わせるように張り合わせる工程と、張り合わせた一対の前記膜作製基材に前記膜材料を含む膜材料溶液を塗布する工程と、前記膜材料付着部に付着した前記膜材料を前記膜作製基材上で膜化する工程とを有することを特徴とする。<br>翻译：本发明的膜制造方法的特征在于，包括：将在一面上具有使膜材料附着的膜材料附着部的一对大致平板状的膜制造基材以所述面的背侧面对的方式贴合起来的工序；在贴合起来的一对所述膜制造基材上涂布包含所述膜材料的膜材料溶液的工序；使附着在所述膜材料附着部上的所述膜材料在所述膜制造基材上成膜的工序。 | 对比文件明确公开了一种膜制造方法，其方法包括多个工序，直接对应于“制造方法包括”这一上位表述。该方法属于制造方法的技术方案，与目标专利中“制造方法包括”的含义一致，本领域技术人员可以毫无疑义地确定对比文件公开了该技术特征。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)<br>《未公开》 | 对比文件全文未公开“光敏树脂”以及用其涂覆基底形成“光敏基底”的步骤。其记载的膜材料为二氧化硅、聚合物等微粒子分散液（见[2]段“膜材料２は、…シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナといった無機の微粒子や、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリアミド、フェノール樹脂、アクリルポリマー、シリコンポリマー、天然高分子といった高分子樹脂の微粒子等”），并非光敏树脂，也无形成光敏基底的记载。 | 对比文件的涂覆步骤使用的材料为微粒子分散液，而非光敏树脂；形成的膜是微粒子膜而非光敏基底。因此，该技术特征未被对比文件直接或隐含公开。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)<br>《未公开》 | 对比文件全文未公开用激光照射基底两侧记录全息光栅的步骤。其成膜工序是通过干燥使微粒子自组装形成光子晶体，未涉及激光干涉记录。 | 对比文件未提及全息光栅的记录方法，也不涉及激光照射，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化<br>《未公开》 | 对比文件未公开光敏树脂涂层高度沿预定方向变化。对比文件虽提及提拉速度变化可影响膜厚（“引き上げ速度の変化によって膜厚が変化する”），但其主要目的是通过恒定速度获得均匀膜厚，并未教导有意使涂层高度沿预定方向变化；且其材料并非光敏树脂。 | 对比文件没有公开在涂覆步骤中使涂层高度沿预定方向变化的方案，特别是未使用光敏树脂，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上<br>《未公开》 | 对比文件未公开全息光栅及其记录位置。 | 对比文件不涉及全息光栅，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《未公开》 | 对比文件未公开全息光栅高度变化及光敏树脂涂层高度逐渐增加。 | 对比文件不涉及全息光栅，也未公开光敏树脂涂层高度逐渐增加，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《未公开》 | 对比文件未公开全息光栅高度逐渐增加。 | 对比文件不涉及全息光栅，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度<br>《未公开》 | 对比文件未公开全息光栅宽度。 | 对比文件不涉及全息光栅，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处<br>《未公开》 | 对比文件在解释“涂布”时提到“例えば膜材料溶液２０を噴霧して膜材料２を膜材料付着部１０に付着させることも含む”（参见[2]段关于涂布的说明）。但此处的膜材料溶液是微粒子分散液，而非光敏树脂；且喷涂位置没有限定为“多个位置处”。 | 对比文件虽提到喷涂方式，但未公开喷涂光敏树脂，且未明确喷涂至多个位置，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化<br>《未公开》 | 对比文件未公开喷涂量根据位置变化。其关于膜厚变化的教导仅限于提拉速度变化，不涉及喷涂。 | 对比文件没有公开喷涂量随位置变化的方案，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a-1)<br>《未公开》 | 对比文件公开了将基板浸入包含膜材料溶液（微粒子分散液）的容器中（见[2]段“張り合わせた一対の膜作製基材１を膜材料溶液２０に浸漬させる”）。但容器中的溶液不是光敏树脂。 | 对比文件使用了不同的材料（微粒子分散液），没有公开浸入光敏树脂，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a-2)<br>《未公开》 | 对比文件公开了提拉基板与容器分离的步骤（见[2]段“膜作製基材１を一定の速度で引き上げる”）。但同样，分离时的涂层材料不是光敏树脂。 | 对比文件虽然公开了提拉分离工艺，但未涉及光敏树脂，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离<br>《未公开》 | 对比文件公开了提拉速度与膜厚的关系（“引き上げ速度の変化によって膜厚が変化する”），但主要实施例使用恒定速度；且未公开在分离过程中主动改变速度以实现厚度变化，也未涉及光敏树脂。 | 对比文件没有明确公开在分离过程中改变速度，且材料不同，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a-1)<br>《未公开》 | 对比文件公开了将膜制造基板与贴合基材贴合，但涂布方式仍为浸渍提拉，并非在基底与辅助基底之间直接提供树脂（见[2]段关于贴合基材的描述）。 | 对比文件没有公开在基底与辅助基底之间提供光敏树脂的步骤，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a-2)<br>《未公开》 | 对比文件公开了移动基板进行提拉，但辅助基底的作用是防止背面液滴，并非同时移动来调节涂层厚度。 | 对比文件没有公开通过移动基底和辅助基底中的至少一者来形成涂层厚度变化的步骤，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者<br>《未公开》 | 对比文件未公开改变相对移动速度的步骤。其关于速度变化的描述仅针对提拉速度，未涉及相对移动速度。 | 对比文件没有公开改变相对移动速度的技术方案，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂<br>《未公开》 | 对比文件未公开在倾斜状态下提供光敏树脂。其虽提及“基材角度調整”（[2]段），但仅作为干燥控制因素，未涉及在倾斜状态下提供树脂以形成厚度变化。 | 对比文件没有公开倾斜基板提供光敏树脂的步骤，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥<br>《未公开》 | 对比文件公开了干燥步骤以使膜固化（“分散溶媒２００を蒸発させることにより、膜材料２による膜を作製する”），但干燥的对象是微粒子分散液，不是光敏树脂。 | 对比文件未公开对光敏树脂进行干燥，因此该技术特征未被公开。 |
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