**对比文件名称**：2018-05-10_US2018129060A_发明申请_US20180129060A1 BACKLIGHT UNIT FOR 3D IMAGE DISPLAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE BACKLIGHT UNIT
**目标专利名称**：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
**本次调用的模型名称**：DeepSeek Chat
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括 《直接公开》 | 【0015】“根据一个示例性实施例的一个方面，提供了一种用于3D图像显示的背光单元的制造方法，所述方法包括：准备包含光栅图案的压印模板；在基底表面上涂布量根据位置而变化的树脂……”（此外全篇均围绕该方法展开） | 对比文件公开了一种制造方法，该方法具体包括多个步骤，直接对应的“制造方法包括”这一技术特征属于方法权利要求的常规前置表述，对比文件明确给出了该方法的存在。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a) 《直接公开》 | 【0074】“在基底420的上表面上涂布树脂435。”（英文原文：resin 435 is coated on an upper surface of a substrate 420.）【0019】“树脂可包括光固化树脂或热固化树脂。” | 对比文件明确公开了用光敏树脂（光固化树脂）涂覆基底的上表面的步骤，形成了覆盖基底的涂层（即一种光敏基底）。这直接刻画了涂覆光敏树脂形成光敏基底这一技术特征。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b) 《未公开》 | 对比文件全文未涉及用激光照射光敏基底两个表面以记录全息光栅的内容。 | 对比文件采用纳米压印工艺，通过压印模板的压入和固化形成衍射光栅，没有使用激光干涉记录。因此，本领域技术人员无法从对比文件中得到或合理推论出该技术特征，故未公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化 《隐含公开》 | 【0074】“在基底420的上表面上涂布的树脂435的量可根据位置进行调整。”【0076】“填充在光栅图案441之间的树脂435的量随着距离基底的一个侧面的距离增加而逐渐增加。因此，填充在光栅图案441之间的树脂435的高度可随着距离增加而逐渐增加。” | 对比文件虽未直接描述涂层高度改变，但其公开了涂布树脂的量随位置变化，并且压印后填充高度形成梯度。该领域技术人员可以合理推断，在涂布阶段由于树脂量不同，若控制不流平，涂层的高度也会相应沿方向变化。这种量变到高度变的递进关系属于合理推理，故本特征被隐含公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上 《未公开》 | 对比文件未涉及全息光栅的记录过程，也未提及光栅占据涂层的整个高度。【0076】仅指出填充高度可变，但未说明填充高度等于涂层高度或全高度利用。 | 对比文件中的衍射光栅是通过填充模板凹槽形成的，其高度通常小于涂层厚度（存在残余层），且未涉及“整个高度”的概念。因此，该技术特征既未直接记载也无法合理推断出。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且其中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加 《隐含公开》 | 对于全息光栅高度变化：【0053】“衍射光栅结构130的每个衍射光栅131的高度H可布置为随着距光导板入射面120a的距离增加而逐渐增加。”（英文原文：the height H of each of the diffraction gratings 131 gradually increases as a distance from the incident surface 120a of the light guiding plate 120 increases.）对于涂层高度逐渐增加：同特征D引用。 | 对比文件明确公开了衍射光栅高度沿方向变化（逐渐增加），虽未直接使用“全息光栅”一词，但全息光栅属于衍射光栅的一种，在功能上等效。该领域技术人员可合理将该教导应用于全息光栅。同时，涂层高度逐渐增加如前所述被隐含公开。两者组合形成本特征，因此整体被隐含公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加 《隐含公开》 | 【0053】同特征F的引用。 | 基于与特征F相同的理由，对比文件公开了衍射光栅高度逐渐增加，该技术内容可合理推论至全息光栅的高度逐渐增加，因此隐含公开。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度 《未公开》 | 【0014】“衍射光栅可彼此具有不同的宽度。”【0056】“衍射光栅131的宽度W随距离入射面120a的距离增加而减小。” | 对比文件不仅未公开宽度相同，反而明确教导宽度可以不同，且具有变化宽度的实施例。本领域技术人员从对比文件中无法获得“宽度相同”的技术启示。因此未公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处 《未公开》 | 【0074】仅使用“涂布”（coated），未限定喷涂方式。全文没有出现“喷涂”“spray coating”等表述。 | 对比文件未指定涂布方法为喷涂，本领域技术人员无法确定该步骤采用了喷涂手段。因此未公开。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化 《未公开》 | 与特征I相同，对比文件未涉及喷涂。 | 由于特征I未公开（喷涂步骤不存在），其限定的“喷涂的”前提不成立，因此该特征也无从存在。即使量变化已被公开，但结合喷涂后不构成整体公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a-1) 《未公开》 | 对比文件全文未描述浸入步骤。 | 对比文件没有将基底浸入树脂容器的任何记载或暗示，因此未公开。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a-2) 《未公开》 | 对比文件未公开该步骤。 | 特征L以特征K为前提，特征K未公开，L也无从谈起。此外，对比文件无类似分离操作。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离 《未公开》 | 对比文件未公开该步骤。 | 同特征L，未公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a-1) 《未公开》 | 【0075】-【0076】描述了将压印模板（stamp）置于基底上树脂上方，然后下压使树脂填充模板图案。但此压印步骤属于形成衍射光栅的过程，不属于用于制备厚度梯度涂层的在基底与辅助基底之间提供树脂的步骤(a-1)。 | 对比文件中在模板与基底之间提供树脂是为了压印成形光栅，而非为了形成具有厚度梯度的涂层。且辅助基底（模板）的作用与目标专利的辅助基底（用于制备涂层）不同。因此未公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a-2) 《未公开》 | 对比文件在压印时移动模板或基底，但如前所述，该步骤不属于用于形成涂层的步骤(a-2)范畴。 | 由于特征N未公开，作为其后续的步骤(a-2)也无法被公开。且对比文件的移动操作目的不同。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a-2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者 《未公开》 | 对比文件未提及改变相对移动速度。 | 对比文件无任何改变移动速度以形成厚度梯度的记载。因此未公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂 《未公开》 | 对比文件全文未提及倾斜状态提供树脂。 | 对比文件未公开该倾斜涂布工艺，因此未公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥 《未公开》 | 对比文件使用光或热固化树脂（curing），未出现干燥（drying）步骤。 | 干燥与固化是不同操作，对比文件未教导干燥。因此未公开。 |
根据上述比对，对比文件直接公开了技术特征A和B，隐含公开了技术特征D、F、G。其他特征均未公开。
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