对比文件名称：2014-06-25_CN102902002B_发明授权_CN102902002B 一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728273B
本次调用的模型名称：DeepSeek-V3
### 特征比对表格
| 技术特征描述以及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **A. 所述制造方法包括** <br> *直接公开* | 对比文件标题：“一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法”。<br>[0007]段：“本发明的目的是克服现有技术的不足，提供一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法。反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法包括以下步骤：” | 对比文件的发明名称和[0007]段明确以方法权利要求的形式记载了反射式体全息布拉格光栅的紫外曝光方法，该方法包括一系列步骤。本领域技术人员可直接地、毫无疑义地确定对比文件公开的内容属于一种制造方法，与目标专利的技术特征A“制造方法包括”完全对应。 |
| **B. 通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)** <br> *未公开* | [0008]段：“（1）将待曝光的光栅材料3的表面进行抛光”。<br>[0013]段：“所述的光栅材料3为光热折变PTR玻璃或光折变晶体。” | 对比文件中使用的光栅材料是光热折变PTR玻璃或光折变晶体这类块状固体光敏材料。该材料自身既作为结构支撑的基底，也作为感光材料。对比文件不存在“用光敏树脂涂覆基底的一个表面”的步骤，也未形成由“基底”和“光敏树脂涂层”组成的“光敏基底”。本特征未被直接或隐含公开。 |
| **C. 通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)** <br> *未公开* | [0010]段：“（3）用一束平行的紫外光1从光栅入射面4照射光栅材料3，紫外光1入射至光栅材料3内部后到达光栅出射面5，被光栅出射面5上的高反射膜反射，反射的紫外光2在光栅材料3内部和入射的紫外光1进行干涉，从而形成了强度周期性变化的干涉条纹6”。 | 对比文件的核心发明点在于使用“一束”平行的紫外光，利用后表面的高反射膜实现“单光束反射式干涉”曝光。其明确教导避免使用双光束系统。这与目标专利中采用两束激光分别照射“光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者”的透射式双光束干涉记录步骤完全不同。本特征未被公开。 |
| **D. 其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化** <br> *未公开* | 对比文件全文，尤其是[0008]-[0013]段。 | 对比文件不存在“施加光敏树脂”的步骤，同时其使用抛光的块状PTR玻璃或晶体作为材料，材料厚度均匀，无任何高度变化的技术启示。本特征未被公开。 |
| **E. 所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不存在光敏树脂涂层，本技术特征缺乏比对的基础。本特征未被公开。 |
| **F. 所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件的光敏材料厚度均匀，全息光栅形成于均匀厚度的材料中，其高度不发生变化。本特征未被公开。 |
| **G. 所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 参见特征F的论述，本特征未被公开。 |
| **H. 所述全息光栅具有相同的宽度** <br> *隐含公开* | [0012]段：“干涉条纹6周期Λ = λ / (2 n sinα)，其中，λ 为入射紫外光的波长，n 为光栅材料的折射率，α为光栅材料3内入射的紫外光1和光栅出射面5的夹角。”<br>[0010]段：“用一束平行的紫外光1从光栅入射面4照射光栅材料3”。 | 对比文件公开了采用平行的紫外激光进行干涉曝光。平行的相干光干涉形成的干涉条纹是周期性的、等间距的。根据干涉原理，在这种曝光条件下形成的体全息布拉格光栅的空间频率以及对应的光栅条纹宽度在整个曝光区域必然是相同的。本领域技术人员根据对比文件公开的内容，可以合理推断该光栅的条纹宽度与周期对应且是一致的。因此，本特征被隐含公开。 |
| **I. 其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及光敏树脂的喷涂涂布工艺。本特征未被公开。 |
| **J. 喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及喷涂工艺及变量控制。本特征未被公开。 |
| **K. 其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a-1)** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及浸入式涂布工艺。本特征未被公开。 |
| **L. 和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a-2)** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及浸入式涂布及提拉分离工艺。本特征未被公开。 |
| **M. 在所述步骤(a-2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及变量提拉涂布工艺。本特征未被公开。 |
| **N. 其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a-1)** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及辅助基底及毛细/狭缝涂布工艺。本特征未被公开。 |
| **O. 和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a-2)** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及通过相对运动进行涂布的工艺。本特征未被公开。 |
| **P. 在所述步骤(a-2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不涉及变量相对运动涂布工艺。本特征未被公开。 |
| **Q. 其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂** <br> *未公开* | [0008]段：“（1）...光栅入射面4与光栅出射面5平行或者光栅入射面4与光栅出射面5之间的夹角β为1～20度”。<br>[0010]段：“（3）...调整光栅材料的角度，使光栅入射面的法线和紫外激光传输方向的夹角为50°。” | 对比文件中的“夹角β”是指光栅块体材料自身入射面和出射面两个抛光表面之间的夹角，属于对块体材料自身的加工；调整材料角度是曝光时的光路对准步骤。目标专利的Q特征是指在**施加光敏树脂的涂布步骤**中，将基底相对于基面（如水平面）倾斜以形成厚度渐变的涂层。两者是截然不同的步骤和场景，并且对比文件根本不存在光敏树脂涂布步骤。本特征未被公开。 |
| **R. 将所述光敏树脂干燥** <br> *未公开* | 对比文件全文。 | 对比文件不存在光敏树脂涂布步骤，因此不存在对应的干燥步骤。本特征未被公开。 |
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