**对比文件名称**：2009-10-01_WO2009119677A_发明申请_WO2009119677A1 人工オパール膜生成装置及び人工オパール膜生成方法
**目标专利名称**：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
**模型名称**：当前使用的模型（未指定具体名称）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括 《直接公开》 | 对比文件标题及摘要：“本発明は、…人工オパール膜を生成する装置及びそれを用いた人工オパール膜生成方法に関する。”（本发明涉及人工蛋白石膜生成装置及方法。）——发明内容部分。 | 对比文件明确公开了一种人工蛋白石膜的制造方法，该方法包括一系列步骤。因此，直接公开了“制造方法包括”这一开放式表述。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a) 《未公开》 | 对比文件全文始终使用“サスペンション”（悬浮液）作为涂覆材料，如“基材（Ｓ１）上に塗布された未結晶化状態のサスペンション膜”（涂覆在基材上的未结晶化状态的悬浮液膜）。——具体实施方式部分。从未提及“光敏树脂”。 | 对比文件涂覆的材料是含有微颗粒的悬浮液，而非光敏树脂；其目的是形成蛋白石膜而非光敏基底。本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含得到使用光敏树脂涂覆基底以形成光敏基底的技术方案，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b) 《未公开》 | 对比文件未出现任何关于“激光”、“全息光栅”或“全息记录”的内容。 | 对比文件完全未涉及激光干涉记录全息光栅，其通过分散介质蒸发实现微颗粒自组装形成胶体晶体，与全息记录原理不同。因此该特征未被公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化 《未公开》 | 对比文件多次强调通过刮刀控制膜厚使厚度均匀，例如“サスペンション膜の膜厚が前記スクレーパにより規制される”（悬浮液膜的厚度被刮刀限制）。——发明内容部分。未记载涂层高度沿预定方向变化。 | 对比文件的目的在于形成均匀厚度的人工蛋白石膜，刮刀设定使膜厚恒定，没有教导或暗示涂层高度沿预定方向变化（如逐渐增加）。因此该特征未被公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上 《未公开》 | 对比文件无全息光栅及光敏树脂涂层记录的相关内容。 | 对比文件不涉及全息光栅的记录，也无光敏树脂涂层，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加 《未公开》 | 同特征D，对比文件涂层高度均匀，无变化；且无全息光栅高度变化的教导。 | 对比文件既未公开全息光栅高度变化，也未公开光敏树脂涂层高度逐渐增加。其涂层高度均匀，微颗粒自组装形成恒定厚度的蛋白石膜。因此该特征未被公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加 《未公开》 | 同特征D、F。 | 无全息光栅相关记载，更无高度逐渐增加的教导。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度 《未公开》 | 同特征C，无全息光栅内容。 | 对比文件不涉及全息光栅，无法比较宽度。该特征未被公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处 《未公开》 | 对比文件实施例4中设有“サスペンション供給ノズル（Ｆ２１）”（悬浮液供给喷嘴），但该喷嘴用于滴加或均布悬浮液，并非喷涂至多个位置；且未使用光敏树脂。 | 对比文件未记载将光敏树脂通过喷涂方式施加于基底的多个位置，其涂覆方式通常为滴加后用刮刀展开，不满足“喷涂至多个位置”的特征。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化 《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未公开喷涂量随位置变化的技术方案。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1) 《隐含公开》 | 背景技术部分：“ビーカー（７）の中にサスペンション（６）を注入し、その中に基材（１）を浸す。”（将悬浮液注入烧杯中，将基材浸入其中。）——非专利文献2描述。 | 虽然对比文件中容器内的材料为悬浮液而非光敏树脂，但“将基底浸入容器”的操作步骤被直接记载。本领域技术人员在类似涂覆工艺中，容易想到将这一浸渍操作应用于光敏树脂的涂覆（浸渍法为常见涂覆技术）。因此，对比文件隐含公开了特征K所限定的操作方式。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2) 《隐含公开》 | 同一背景技术部分：“基材（１）をサスペンション（６）から一定速度で引き上げる。”（将基材以恒定速度从悬浮液中提拉出来。） | 对比文件明确公开了将基底从容器中沿一个方向提拉分离的步骤。尽管材料不同，但该操作方式与特征L一致，本领域技术人员有动机将其用于光敏树脂涂覆后的分离。因此隐含公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离 《未公开》 | 同上背景技术中明确为“一定速度”（恒定速度）；本发明装置中移动速度也通常恒定（通过步进电机控制）。未提及改变速度。 | 对比文件记载的是恒定速度提拉，没有教导改变基底移动速度。若改变速度会破坏其追求的膜厚均匀性，与本文件意图相反。因此特征M未被公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1) 《未公开》 | 背景技术部分：“２枚のガラス基材の隙間にスペーサーを介したキャピラリー空間を形成しその隙間にサスペンションを注入”（在两块玻璃基材之间的间隙中通过间隔物形成毛细管空间，将悬浮液注入该间隙。）——非专利文献4描述。 | 对比文件公开了在基底与辅助基底（另一玻璃板）之间提供悬浮液的步骤，但未公开后续的移动步骤（特征O涉及）。特征N整体包含提供和移动两个步骤，而对比文件仅公开了提供步骤，且材料为悬浮液。本领域技术人员无法从对比文件合理推断出该提供步骤必然用于光敏树脂并配合移动步骤，因此未构成隐含公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2) 《未公开》 | 对比文件在背景技术的包装细胞法中无移动步骤（静止结晶）；本发明刮刀法中基材水平移动，但不存在辅助基底，且不属于特征O所述的情形。无相关记载。 | 对比文件没有公开任何移动基底和/或辅助基底使两者相对运动的步骤。因此该特征未被公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者 《未公开》 | 无任何关于相对移动速度改变的内容。 | 对比文件未涉及相对移动及其速度变化，该特征未被公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂 《未公开》 | 对比文件所有实施方式中基材均水平放置（相对于基面平行），例如基材置于油槽底部或载物台上，无倾斜提供光敏树脂的记载。 | 对比文件未公开基底表面相对基面倾斜进行涂覆的技术手段，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥 《隐含公开》 | 对比文件多处记载“サスペンションの分散媒を蒸発させて”（蒸发悬浮液的分散介质），“加热により分散媒を蒸発させ”（通过加热蒸发分散介质）。——实施例部分。 | 对比文件公开了通过蒸发（干燥）去除分散介质使膜固化的步骤。尽管干燥对象是悬浮液而非光敏树脂，但干燥操作本身是涂覆工艺中的常规工序。本领域技术人员在涂覆光敏树脂后，自然需要进行干燥以形成固态涂层。因此，对比文件隐含公开了干燥步骤的技术概念。 |
---
### 公开性判定代码汇总
根据上述分析，对比文件公开了以下技术特征：
- 技术特征A直接公开，代码：**<<<A>>>**
- 技术特征K隐含公开，代码：**<<<k>>>**
- 技术特征L隐含公开，代码：**<<<l>>>**
- 技术特征R隐含公开，代码：**<<<r>>>**
其他技术特征（B、C、D、E、F、G、H、I、J、M、N、O、P、Q）未被直接或隐含公开，不在最终输出中体现。
<<<A>><<<k>>><<<l>>><<<r>>>