对比文件名称：2015-05-13_CN204331232U_实用新型_CN204331232U 显示面板
目标专利名称：1585基板CN110770646B
本次调用的模型名称：未指定
以下是根据目标专利权利要求特征划分的特征比对表格。判断标准：若对比文件直接公开了技术特征，则第一栏记录“《直接公开》”；若隐含公开，则记录“《隐含公开》”；否则记录“《未公开》”。隐含公开的判断采用非常宽松的标准，只要对比文件有可能公开该特征即视为隐含公开。
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译，附段落标号） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括：基础层<br>《直接公开》 | [0052] 第一基板101可以是彩色滤光片(CF)基板，其包含彩色滤光层111形成在透明基板103上；[0051] 间隙物107形成于第一基板101的顶面101T上。 | 对比文件的第一基板101包含透明基板103（玻璃等），该透明基板相当于目标专利中的基础层。该基础层为间隔物提供了支撑表面，作用与目标专利的基础层相同。因此，本领域技术人员毫无疑义地确定特征A已被直接公开。 |
| **技术特征B**：和设置在所述基础层上的复数个间隔物<br>《直接公开》 | [0051] 实际上显示面板100具有多个间隙物107在第一基板101与第二基板102之间；[0051] 间隙物107形成于第一基板101的顶面101T上。 | 对比文件明确公开了在第一基板（相当于基础层）上存在多个间隙物（间隔物）。这些间隙物设置在基础层上，用于保持基板间隔，作用与目标专利的间隔物相同。因此特征B被直接公开。 |
| **技术特征C**：其中每个间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物<br>《未公开》 | [0057] 间隙物107的剖面形状为底部内缩的柱状；[0051] 间隙物107可以是形成在第一基板101上的感光型柱状间隙物。 | 对比文件公开的间隙物为底部内缩的柱状，其顶部形状未作限定，但根据“柱状”的通常含义以及附图（图1-4）可知其顶部为大致平坦或轻微弧面，并未描述或暗示顶部具有半球形部分。目标专利的半球形部分具有特定的曲率要求，用于改善配向膜取向均匀性；对比文件的柱状结构出于弹性回复力的考虑，顶部形状无半球形设计。因此该特征既未直接公开，也无法从对比文件合理推断得出。 |
| **技术特征D**：其中所述半球形部分为所述间隔物的包含弯曲形状的部分<br>《未公开》 | 同上，对比文件未公开半球形部分。 | 由于特征C未被公开，作为对半球形部分定义的附属特征D亦未被公开。对比文件间隙物的侧面也可能有弯曲，但该弯曲并非半球形部分，且其形状设计目的不同。故未公开。 |
| **技术特征E**：其中所述弯曲形状的截面具有最大曲率为150 mm⁻¹或更小的轨迹<br>《未公开》 | 对比文件未公开与曲率相关的任何数值或范围。 | 目标专利通过控制半球形部分的最大曲率来保证配向膜均匀取向。对比文件未提及曲率概念，也未给出任何数值范围。即使考虑底部内缩的弯曲，也未涉及曲率数值。故未公开。 |
| **技术特征F**：其中所述间隔物中的每个间隔物为包括所述半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物<br>《未公开》 | [0051] 间隙物107可以是形成在第一基板101上的感光型柱状间隙物；[0057] 间隙物107的剖面形状为底部内缩的柱状。 | 对比文件公开的是单一的柱状结构，没有分成半球形部分和柱状部分的概念。其底部内缩但顶部未形成独立的半球形部分，因此不存在“半球形部分的高度低于总高度”的关系。故未公开。 |
| **技术特征G**：其中所述半球形部分的高度在5μm至20μm的范围内；并且其中相对于所述基础层的总面积，被所述间隔物占据的面积比率为20％或更小<br>《未公开》 | [0066] 间隙物107的最大宽度Wmax的范围可以是约5μm至20μm；对比文件未公开任何关于间隔物占据面积比率的信息。 | 对比文件仅公开了最大宽度范围，未公开半球形部分的高度，且未公开任何面积比率。高度范围针对柱状间隙物总高度的一部分，不适用于半球形部分。面积比率在对比文件中完全没有提及，本领域技术人员也无法从现有内容合理推断出该比率。故未公开。 |
| **技术特征H**：其中，所述复数个间隔物的标准间距为P，当在所述基础层的表面上任选地选择具有10P作为一条边长度的两个或更多个正方形区域时，存在于每个正方形区域中的间隔物的数量的标准偏差为2或更小<br>《未公开》 | 对比文件未涉及标准间距P、正方形区域选择或标准偏差等统计概念。 | 该特征涉及间隔物排列的均匀性统计，对比文件仅提及“多个间隙物”，未对其排列的均匀性做出任何定量或定性描述，更未公开标准间距或标准偏差的计算或数值。故未公开。 |
| **技术特征I**：其中所述复数个间隔物布置为使得相邻间隔物之间的间距的分布由间隔正态分布图表示<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何关于间距分布图的描述。 | 无明显记载或暗示间隔物间距的分布形式。故未公开。 |
| **技术特征J**：其中，在所述间隔正态分布图中，相邻间隔物之间的间距表示在所述间隔正态分布图的X轴上并且具有给定间距的相邻间隔物的比率表示在所述间隔正态分布图的Y轴上<br>《未公开》 | 同上。 | 缺乏正态分布图的基本要素定义。故未公开。 |
| **技术特征K**：其中具有给定间距的相邻间隔物的比率的总和为1；并且其中所述复数个间隔物设置成使得所述间隔正态分布图的半高宽为0.5μm至1,000μm以及所述间隔正态分布图的最大高度小于1<br>《未公开》 | 同上。 | 对比文件没有公开任何关于间距分布的半高宽或最大高度参数。故未公开。 |
| **技术特征L**：其中所述轨迹包括曲率为0 mm⁻¹的轨迹<br>《未公开》 | 对比文件未公开半球形部分或其轨迹特性。 | 该特征依赖于半球形部分的轨迹是否包含直线段（曲率为0）。对比文件无半球形部分，故无相关轨迹，无法公开。即使考虑底部内缩的侧面，未明确是否曲率为0。故未公开。 |
| **技术特征M**：其中所述半球形部分的宽度在2μm至40μm的范围内<br>《未公开》 | [0066] 间隙物107的最大宽度Wmax的范围可以是约5μm至20μm。 | 对比文件公开的宽度是间隙物的最大宽度，而非半球形部分的宽度。由于对比文件不存在半球形部分，该宽度不直接对应，且范围也不完全重合（2-40 vs 5-20）。故未公开。 |
| **技术特征N**：其中在所述间隔物的底部形成其中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状的渐缩部分<br>《未公开》 | [0057] 间隙物107具有底切结构，使得间隙物107靠近第一基板101的底部处产生内缩，间隙物107的剖面形状为底部内缩的柱状。[0059] 第二宽度W2的高度位置比第一宽度W1的高度位置更靠近第一基板101，并且第二宽度W2小于第一宽度W1。 | 对比文件公开了间隙物底部内缩（底切结构），但未明确该内缩部分的截面轨迹是弯曲的，也未指定曲率中心位置。底切结构可以通过直线斜截面或弯曲截面实现，对比文件未限定为“曲率中心在截面外部的弯曲形状”。目标专利的渐缩部分具有特定的弯曲方向，用于均匀取向处理，对比文件的底切结构主要用于增加弹性回复力，作用不完全相同。即使考虑隐含公开，本领域技术人员无法必然得出曲率中心必在截面外部，故未公开。 |
| **技术特征O**：其中配向膜形成在所述基础层和所述间隔物上；并且其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的顶部具有半球形<br>《未公开》 | [0056] 在第一基板101上形成配向膜109并且覆盖间隙物107；[0058] 间隙物107的剖面形状为底部内缩的柱状（未公开顶部半球形）。 | 对比文件公开了配向膜覆盖基础层和间隙物，但配向膜顶部形状取决于下方间隙物的形状。由于间隙物顶部不是半球形（特征C未公开），配向膜顶部也无法形成半球形。因此第一部分（形成配向膜）被公开，但第二部分（顶部半球形）未被公开，整体特征O未公开。 |
| **技术特征P**：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的截面轨迹的最大曲率为2,000 mm⁻¹或更小<br>《未公开》 | 对比文件未公开配向膜顶部的曲率。 | 附属特征O，因O未公开而无法公开。对比文件未涉及配向膜形状的曲率。故未公开。 |
| **技术特征Q**：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的所述截面轨迹包括曲率为0 mm⁻¹的轨迹<br>《未公开》 | 同上。 | 附属特征O，未公开。 |
| **技术特征R**：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的高度在1μm至50μm的范围内<br>《未公开》 | [0061] 覆盖于间隙物107顶部表面上的配向膜109具有第三厚度T3；[0061] 配向膜109的第四厚度T4的范围可约为20nm至70nm。 | 对比文件公开的是配向膜的厚度（nm级），而非配向膜在间隔物上的高度（通常指配向膜随间隔物轮廓形成的高度，μm级）。目标专利的“高度”指配向膜半球形部分的高度（图13中H3），对比文件没有类似概念。即使考虑隐含公开，厚度范围（nm）与高度范围（μm）完全不同，无法等同。故未公开。 |
| **技术特征S**：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的宽度在1μm至80μm的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开配向膜的宽度。 | 目标专利的宽度指配向膜半球形部分的宽度（图13中W3）。对比文件未公开类似特征。故未公开。 |
| **技术特征T**：当任选地选择所述复数个间隔物中的三个、四个或六个间隔物时<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何选择间隔物形成闭合图形的技术方案。 | 该特征及其后续特征（U、V、W）涉及间隔物排列的特定几何关系，对比文件完全未提及。故未公开。 |
| **技术特征U**：条件是当选择选定的间隔物以形成作为闭合图形的三角形、四边形或六边形时<br>《未公开》 | 同上。 | 未公开。 |
| **技术特征V**：在所述闭合图形中不存在其他间隔物<br>《未公开》 | 同上。 | 未公开。 |
| **技术特征W**：所述间隔物设置成使得所述三角形、所述四边形或所述六边形中的边的长度中的至少一者不同<br>《未公开》 | 同上。 | 未公开。 |
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