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对比文件列表
1997-12-09_US5696471A_发明授权_US5696471A Inductive coupled filter with electrically neutral holes between solid spiral inductors_+++A_B_C_G_H+++.docx
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1998-09-29_US5815052A_发明授权_US5815052A High-frequency composite components comprising first and second circuits connected in parallel for multi-frequency systems_+++A_B+++.docx
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1999-05-14_WO1999023702A_发明申请_WO99023702A1 MONOLITHIC INDUCTOR_+++A+++.docx
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2001-01-30_US6180976B_发明授权_US06180976B2 Thin-film capacitors and methods for forming the same_+++A_E_L_M+++.docx
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2001-04-24_US6222427B_发明授权_US06222427B1 Inductor built-in electronic parts using via holes_+++A_B_C_G_H_l_q+++.docx
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2001-11-22_US2001044292A_发明申请_US20010044292A1 RF block of mobile communication base station_+++a+++.docx
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2001-12-11_US6329604B_发明授权_US06329604B1 Multilayer printed circuit board_+++A+++.docx
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2002-01-11_JP2002008942A_发明专利_JP2002008942A Capacitor device, method of manufacturing the same, and module mounted with the device_+++A_E_J_K_o_q_w+++.docx
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2002-04-02_US6366564B_发明授权_US06366564B1 Diplexer duplexer and two-channel mobile communications equipment_+++A_B_L_c_e_g_h_i+++.docx
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2003-01-17_JP2003017968A_发明专利_JP2003017968A Layered filter_+++A_B_I_L+++.docx
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2003-03-07_JP2003068923A_发明专利_JP2003068923A Semiconductor package, its manufacturing method and semiconductor device_+++A_E_F_L_k+++.docx
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2003-04-04_JP2003100553A_发明专利_JP2003100553A Passive element component and substrate with built-in passive element_+++A_L_b_c_d_f_g_h_i_m+++.docx
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2003-06-20_JP2003174263A_发明专利_JP2003174263A Multilayer electronic component_+++A_B_I_L_c_f_g_h_v+++.docx
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2003-07-22_US6597258B_发明授权_US06597258B2 High performance diplexer and method_+++A_l+++.docx
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2003-07-22_US6597315B_发明授权_US06597315B2 Antenna_+++A_B_l_m+++.docx
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2003-09-11_TW552686B_发明专利_TW552686B 電子電路零件_+++A_J_L_M+++.docx
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2004-03-18_JP2004087971A_发明专利_JP2004087971A Multilayer wiring board and its manufacturing method_+++A_E_b_f_l_o_q_w+++.docx
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2005-01-13_JP2005011980A_发明专利_JP2005011980A Method for detecting position_+++A+++.docx
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2005-06-22_CN1630946A_发明公开_CN1630946A 电子电路部件_+++A_E_J_L_M_b_c_f_g_h_i_k+++.docx
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2007-08-02_WO2007061308A_发明申请_WO2007061308A9 VARACTOR ELEMENT AND LOW DISTORTION VARACTOR CIRCUIT ARRANGEMENT_+++A+++.docx
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2007-09-12_EP1833286A_发明公开_EP1833286A1 WIRING BOARD AND WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD_+++A_E+++.docx
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2007-11-08_US2007257761A_发明申请_US20070257761A1 Inductor and electric power supply using it_+++A_B_L_g+++.docx
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2008-05-29_US2008121417A_发明申请_US20080121417A1 PACKAGE SUBSTRATE HAVING EMBEDDED CAPACITOR_+++A_E_L_d+++.docx
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2008-07-10_US2008166980A_发明申请_US20080166980A1 HIGH-FREQUENCY CIRCUIT, HIGH-FREQUENCY DEVICE, AND COMMUNICATION APPARATUS_+++a_l+++.docx
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2008-07-17_DE102008003952A_发明专利_DE102008003952A1 Microminiature inverter_+++A_L_b+++.docx
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2009-03-03_US7498918B_发明授权_US07498918B2 Inductor structure_+++A+++.docx
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2009-03-05_US2009063791A_发明申请_US20090063791A1 COMPUTER SYSTEM, CONTROL METHOD THEREOF AND DATA PROCESSING APPARATUS_+++A_a+++.docx
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2009-07-16_US2009179722A_发明申请_US20090179722A1 Multilayer Passive Circuit Topology_+++A_B_C_F_G_H_I_k+++.docx
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2009-09-08_US7586755B_发明授权_US07586755B2 Electronic circuit component_+++A_E_J_K_L_M_b_c_d_f_g_h_i+++.docx
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2009-09-11_WO2009110288A_发明申请_WO2009110288A1 貫通電極付きキャパシタおよびその製造方法、並びに半導体装置_+++A_E_J_K_L_M_b_c_f_g_h_i+++.docx
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2009-10-01_WO2009118694A_发明申请_WO2009118694A1 INTEGRATED 3D HIGH DENSITY AND HIGH QUALITY INDUCTIVE ELEMENT_+++A_B_C_G_H_L+++.docx
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2009-10-22_WO2009128047A_发明申请_WO2009128047A1 HIGH DENSITY INDUCTOR, HAVING A HIGH QUALITY FACTOR_+++A_B_C_G_H_K_L_M_j_v+++.docx
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2010-02-18_US2010037799A_发明申请_US20100037799A1 WET LAMINATION OF PHOTOPOLYMERIZABLE DRY FILMS ONTO SUBSTRATES AND COMPOSITIONS RELATING THERETO_+++A_l+++.docx
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2010-03-16_US7678695B_发明授权_US07678695B2 Circuit substrate and method for fabricating the same_+++A_J_K_e_l+++.docx
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2010-04-21_CN101697305A_发明公开_CN101697305A 电子设备_+++A_B_C_L_g_h_n+++.docx
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2010-06-03_JP2010123649A_发明专利_JP2010123649A Stacked device_+++A_B_G+++.docx
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2010-10-12_US7812702B_发明授权_US07812702B2 Inductor and electric power supply using it_+++A_B_K_L_c_f_g_h_i_n+++.docx
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2010-10-26_US7821359B_发明授权_US07821359B2 Band-stop filters_+++A_E+++.docx
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2010-11-17_JP4580619B_发明专利_JP4580619B2 Thermal actuator and method of operation of the three-layer_+++A+++.docx
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2011-03-03_None_发明专利_JPWO2009054203A1 積層型電子部品及びその製造方法_+++A_B_C_E_F_G_H_I_L_d+++.docx
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2011-04-12_US7924116B_发明授权_US07924116B2 Diplexer and multiplexer using the same_+++a_b_c_g_h_i_l+++.docx
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2011-04-20_CN101221947B_发明授权_CN101221947B 具有半导体芯片和无源部件的半导体部件及其制造方法_+++B_a_c+++.docx
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2011-05-12_US2011110385A_发明申请_US20110110385A1 Front-end system for processing composite wideband signals and method for utilizing same_+++A+++.docx
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2011-09-06_US8011778B_发明授权_US08011778B2 Sealant for ink jet head, ink jet head, and ink jet recording apparatus_+++A_a+++.docx
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2011-10-13_US2011248405A_发明申请_US20110248405A1 Selective Patterning for Low Cost through Vias_+++A_E_J_K_L_M+++.docx
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2011-12-01_US2011291786A_发明申请_US20110291786A1 Through Via Inductor Or Transformer In A High-Resistance Substrate With Programmability_+++A_B_C_G_H_J_L_M_k+++.docx
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2011-12-06_US8069560B_发明授权_US08069560B2 Method of manufacturing multilayer wiring board_+++A_D_E_F_J_L_M_O_P_Q_W_b_c_g_h_i_k_r_s_t_v+++.docx
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2011-12-08_WO2011153162A_发明申请_WO2011153162A1 THROUGH VIA INDUCTOR OR TRANSFORMER IN A HIGH-RESISTANCE SUBSTRATE WITH PROGRAMMABILITY_+++A_B_C_G_H_J_k_l_m+++.docx
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2012-03-29_US2012075216A_发明申请_US20120075216A1 INTEGRATED PASSIVES AND POWER AMPLIFIER_+++A_E_J_K_L_M_b_c_g_i+++.docx
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2012-04-01_TW201214474A_发明专利_TW201214474A 在一具可程式能力之高電阻基板中之穿導孔電感器或變壓器 THROUGH VIA INDUCTOR OR TRANSFORMER IN A HIGH-RESISTANCE SUBSTRATE WITH PROGRAMMABILITY_+++A_B_C_G_H_J_L_k+++.docx
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2012-10-17_CN101697305B_发明授权_CN101697305B 电子设备_+++A_L_b_n+++.docx
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2012-11-29_US2012302188A_发明申请_US20120302188A1 TUNABLE MULTI-BAND RECEIVER_+++A_k+++.docx
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2012-12-04_US8324984B_发明授权_US08324984B2 Variable bandwidth tunable silicon duplexer_+++A+++.docx
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2012-12-25_US8339233B_发明授权_US08339233B2 Three dimensional inductor_+++A_B_C_G_H+++.docx
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2013-01-10_US2013011995A_发明申请_US20130011995A1 SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING WIRING MADE BY DAMASCENE METHOD AND CAPACITOR AND ITS MANUFACTURE METHOD_+++A_E_L_M_d_o_w+++.docx
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2013-01-29_US8362591B_发明授权_US08362591B2 Integrated circuits and methods of forming the same_+++A_M_d_o_q_w+++.docx
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2013-02-06_CN102918608A_发明公开_CN102918608A 高电阻衬底中的具有可编程性的穿通孔电感器或变压器_+++A_B_C_G_J_K_L_h_v+++.docx
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2013-03-06_CN102956606A_发明公开_CN102956606A 垂直定向的半导体器件及其屏蔽结构_+++A_B_C_E_G_I_h_l_q+++.docx
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US2004124961A1_Description_20260318_1958_+++A_J_L_b_c_g_h+++.docx
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US2009219908A1_Description_20260318_1958_+++A_k_m+++.docx
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US2009288872A1_Description_20260318_1958_+++A_L+++.docx
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US2010309606A1_Description_20260318_1958_+++A_E_F_I_K_L_M_u+++.docx
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# 特征比对表格

技术特征描述以及公开性判断结果对比文件原文引用公开性论述
**技术特征A**: 包括:基板 《隐含公开》无直接对应原文引用。对比文件描述的是移动通信基站的RF模块,其中包含多个功能单元(如上变频器、功率放大器、滤波器等)。此类电路模块通常构建在电路板(基板)之上以实现电气连接和机械支撑。本领域技术人员知晓,任何实际的电子电路或模块都需要一个物理载体或平台来实现其电气元件的安装和互连。对比文件US20010044292A1描述了一个完整的RF模块,其必然需要一块基板(例如印刷电路板PCB)来承载和互连其所述的各个功能单元(如放大器、滤波器、耦合器等)。因此,本领域技术人员可以毫无疑义地推断出该RF模块包括一个基板。这属于隐含公开。
**技术特征B**: 至少部分地穿过所述基板延伸并形成多通孔电感器的一部分的通孔 《未公开》对比文件全文未提及“通孔”(via)或“透玻通孔”(TGV)结构,也未描述任何电感器是由通孔构成的。对比文件仅描述了RF模块的框图级功能单元及其信号连接关系,未涉及任何具体的三维物理结构,特别是未提及通过基板的导电通孔。目标专利中“至少部分地穿过基板延伸”并构成电感器一部分的“通孔”是实现电感功能和三维集成的关键结构,对比文件对此没有任何记载或暗示。本领域技术人员无法从对比文件中得出该技术特征。
**技术特征C**: 所述多通孔电感器包括耦合至所述通孔和第二通孔且置于所述通孔与所述第二通孔之间的所述基板上的导电结构 《未公开》对比文件全文未提及由通孔和基板上导电结构构成的多通孔电感器。由于对比文件未公开任何“通孔”,自然也无法公开由通孔和导电结构连接形成的“多通孔电感器”的具体构造。该特征是目标专利中谐振电路的重要组成部分,对比文件未提供任何相关信息。
**技术特征D**: 耦合至所述通孔的电容器,其中所述电容器的电介质位于所述通孔与所述电容器的极板之间 《未公开》对比文件提到了“triplexer”(三工器,一种滤波器)可能包含电容元件,但未描述其具体物理结构,尤其未提及电容器与通孔的连接关系以及电介质相对于通孔和极板的位置。目标专利的核心创新点之一在于电容器与通孔的垂直集成结构,即电介质直接位于通孔与电容器极板之间。对比文件仅在高层次的功能框图中提及滤波器,完全没有揭示其内部电容元件的具体物理实现方式,特别是与通孔集成的三维结构。因此,该技术特征未被公开。
**技术特征E**: 并且其中所述电容器的所述极板在所述基板以外。 《未公开》对比文件未描述任何电容器的具体物理构造,因此无法确定其极板是否位于基板之外。该特征限定了电容器极板的空间位置。由于对比文件完全没有揭示电容器与基板、通孔之间的三维结构关系,本领域技术人员无法从对比文件推断出电容器的极板位于基板之外。
**技术特征F**: 其特征在于,所述导电结构包括第一导电结构,并且其中所述电容器通过所述通孔耦合至所述第一导电结构。 《未公开》对比文件未提及“第一导电结构”,也未描述电容器通过通孔与任何导电结构耦合。该特征进一步限定了多通孔电感器内部导电结构与电容器的连接关系。由于对比文件未公开“通孔”以及基于通孔的电感器结构,因此该连接关系也无从谈起。
**技术特征G**: 其特征在于,所述多通孔电感器进一步包括:所述第二通孔,其中所述第二通孔至少部分地延伸穿过所述基板并形成所述多通孔电感器的第二部分 《未公开》对比文件全文未提及“第二通孔”或任何其他通孔。该特征是多通孔电感器构成的进一步细化。对比文件未涉及任何通孔结构,因此“第二通孔”及其功能未被公开。
**技术特征H**: 第二导电结构,其中所述第一导电结构通过所述第二通孔耦合至所述第二导电结构,并且其中所述多通孔电感器包括所述通孔、所述第二通孔、所述第一导电结构、以及所述第二导电结构。 《未公开》对比文件全文未提及“第一导电结构”、“第二导电结构”以及它们通过通孔的连接关系。该特征完整描述了多通孔电感器的构成元件及其互连方式。对比文件仅描述了RF模块的功能框图,其“导电结构”可能被理解为导线或传输线,但与目标专利中通过通孔在垂直方向互连以形成电感器的特定三维结构完全不同。因此,该技术特征未被公开。
**技术特征I**: 其特征在于,所述极板在层间电介质(ILD)层中,并且其中谐振电路包括所述多通孔电感器和所述电容器。 《未公开》对比文件未提及“层间电介质(ILD)层”,也未明确描述一个由特定电感器和电容器构成的“谐振电路”。虽然RF模块中可能存在谐振回路,但未具体公开其结构。目标专利明确限定了极板位于ILD层中,并且该电容器与多通孔电感器共同构成谐振电路。对比文件未公开任何关于ILD层的结构,也未公开由通孔电感和集成式电容器构成的谐振电路的具体实现。因此,该技术特征未被公开。
**技术特征J**: 其特征在于,所述基板包括玻璃型基板并且其中所述通孔包括透玻通孔。 《未公开》对比文件未提及基板的具体材料,也未提及“透玻通孔”(TGV)。该特征限定了基板和通孔的具体类型和材料,这是目标专利实现特定性能(如低损耗)的关键。对比文件未提供任何关于基板材料或通孔类型的描述。
**技术特征K**: 其特征在于,所述基板包括玻璃基板、石英基板、绝缘体上硅(SOI)基板、蓝宝石上硅(SOS)基板、高电阻率硅(HRS)基板、砷化镓(GaAs)基板、磷化铟(InP)基板、碳化硅(SiC)基板、氮化铝(AlN)基板、罗杰斯层叠、或塑料基板 《未公开》对比文件未提及基板的具体材料。该特征列举了基板可能的具体材料。对比文件未公开任何关于基板材料的信息,因此该特征未被公开。
**技术特征L**: 所述通孔是金属填充型通孔,所述金属包括铜(Cu)、钨(W)、银(Ag)、或金(Au)中的至少一者 《未公开》对比文件未提及“通孔”,更未提及通孔的填充材料。该特征限定了通孔的填充物。由于对比文件未公开通孔结构,因此其填充材料也未被公开。
**技术特征M**: 所述电介质包括二氧化硅(SiO2)、氮化硅(Si3N4)、氮氧化硅(SiOxNy)、五氧化二钽(Ta2O5)、氧化铝(Al2O3)或氮化铝(AlN)中的至少一者。 《未公开》对比文件未描述电容器的电介质材料。该特征限定了电容器电介质的具体材料。对比文件未公开电容器的具体结构,因此其电介质材料也未被公开。
**技术特征N**: 其特征在于,进一步包括所述通孔内的金属结构,所述金属结构包括聚合物核。 《未公开》对比文件未提及通孔,也未提及通孔内具有聚合物核的金属结构。该特征描述了通孔的一种特定内部结构(金属结构包围聚合物核)。对比文件未公开任何通孔结构,因此该特征未被公开。
**技术特征O**: 其特征在于,所述电容器的所述极板的至少一部分和所述电容器的所述电介质的至少一部分垂直位于所述通孔的面向电介质的表面的至少一部分上。 《未公开》对比文件未描述电容器、电介质与通孔之间的垂直堆叠关系。该特征限定了电容器、电介质与通孔在垂直方向上的对准和覆盖关系,是目标专利实现低电阻集成结构的关键。对比文件未涉及任何此类三维几何关系。
**技术特征P**: 其特征在于,所述电容器毗邻所述基板的第一表面,其中所述第一导电结构毗邻所述基板的与所述第一表面相对的第二表面,并且其中穿过所述通孔延伸且与所述基板的第二表面正交的轴与所述电容器的所述极板、所述电容器的所述电介质、以及所述第一导电结构相交。 《未公开》对比文件未描述电容器、导电结构与基板表面的空间位置关系,也未描述通孔的轴线与这些元件相交。该特征非常具体地限定了器件中各元件在三维空间中的相对位置关系。对比文件仅提供功能框图,完全不涉及此类详细的物理布局和几何关系。
**技术特征Q**: 其特征在于,所述通孔沿垂直于所述极板的表面的方向至少部分地延伸穿过所述基板,并且其中所述通孔的垂直于所述基板的所述表面的轴与所述极板的区域相交。 《未公开》对比文件未描述通孔的方向、极板的表面方向以及它们之间的几何关系。该特征进一步限定了通孔延伸方向与极板表面的垂直关系以及轴线相交关系。对比文件未提供任何关于这些元件几何关系的信息。
**技术特征R**: 其特征在于,所述通孔的面向电介质的表面大于所述电容器的所述极板的表面。 《未公开》对比文件未描述通孔的表面和电容器极板的表面,因此无法比较其大小。该特征限定了通孔与电容器极板的相对尺寸关系。对比文件未公开这些元件的具体物理尺寸或相对大小。
**技术特征S**: 其特征在于,所述通孔的面向电介质的表面与所述电容器的所述极板的表面大小相同。 《未公开》对比文件未描述通孔的表面和电容器极板的表面,因此无法比较其大小。同上。该尺寸关系未被公开。
**技术特征T**: 其特征在于,所述通孔的面向电介质的表面小于所述电容器的所述极板的表面。 《未公开》对比文件未描述通孔的表面和电容器极板的表面,因此无法比较其大小。同上。该尺寸关系未被公开。
**技术特征U**: 其特征在于,所述电容器的第二电介质位于所述通孔与所述电介质之间。 《未公开》对比文件未描述电容器具有多层电介质结构。该特征限定了电容器包含多层电介质。对比文件未公开电容器的具体结构,因此该特征未被公开。
**技术特征V**: 其特征在于,所述第二通孔部分地延伸穿过所述基板,其中所述通孔和所述第二通孔在所述基板内结合,并且其中所述多通孔电感器包括所述通孔、所述第二通孔、以及至少部分地穿过所述基板延伸的第三通孔。 《未公开》对比文件未提及任何通孔,更不用说多个通孔在基板内结合以形成电感器。该特征描述了多通孔电感器的一种复杂变体,涉及多个通孔在基板内部的连接。对比文件未涉及任何此类结构。
**技术特征W**: 其特征在于,所述通孔延伸穿过所述基板,并且其中所述电容器的所述极板的至少一部分和所述电容器的所述电介质的至少一部分垂直位于所述通孔的至少一部分上。 《未公开》对比文件未描述通孔贯穿基板,也未描述电容器元件垂直位于通孔之上。该特征综合限定了通孔贯穿基板以及电容器与通孔的垂直集成关系。这是目标专利的核心结构特征。对比文件完全没有揭示此类三维集成结构。

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